對于摻Ce3的無機閃爍晶體，高能射線作用下的閃爍機制一般認為如下[16，17]:晶體吸收高能射線后，晶體內部產生大量的熱化電子空穴對。由于鈰元素的四階電離能是所有稀土元素中比較低的(如圖1-6所示)，晶體發光中心的Ce3離子首先俘獲一個空穴形成Ce4離子。然后一個電子被捕獲，變成Ce3。此時，電子和空穴被鈰離子重組。復合產生的能量將Ce3離子從4f基態激發到5d激發態，然后Ce3離子從5d激發態輻射弛豫到4f基態發光由于摻雜鈰離子的無機閃爍體通常具有高光輸出和快速衰減的特點。研究表明，Ce4離子對Ce3離子發光有猝滅作用。陜西雙折射CeYAP晶體性能
鈰離子摻雜的高溫閃爍晶體具有高光輸出快衰減等閃爍特征，是無機閃爍晶體的一個重要發展方向，而Ce:YAP和Ce:YAG是其中較有優勢的晶體。隨著應用需求的變化，對閃爍晶體尺寸的要求也在不斷增加，生長大尺寸的閃爍晶體變得更為重要。同時國內目前生長的Ce:YAP 晶體普遍存在自吸收問題，導致光產額一直無法有效提高，且其機理至今仍不清楚。為了有效提高Ce:YAP 晶體的閃爍性能，解決其自吸收問題，提高晶體的發光強度，著重研究了Ce:YAP 晶體的自吸收機理。同時為了得到大尺寸高發光效率的Ce:YAG晶體，用溫梯法嘗試了大尺寸Ce:YAG晶體的生長，并對晶體的比較好熱處理條件進行了摸索。本論文主要圍繞大尺寸Ce:YAP晶體的生長及其自吸收問題，和溫梯法大尺寸Ce:YAG晶體的生長和退火研究，以真正提高晶體的實用性能。 青海CeYAP晶體行情生長大尺寸的CeYAP晶體對閃爍材料的研究和應用具有重要意義。
同濃度Ce: YAP的熒光光譜。在可見光(300納米)激發下，不同濃度Ce: YAP的熒光強度隨著濃度的增加而增加，直到0.5at%。當濃度為1.0at%時，濃度淬滅，發光強度開始降低。相同厚度(5mm)的Ce: YAP晶體在X射線激發下的發光強度隨著濃度的增加先增大后減小，峰值位置也有紅移，其中0.3at%處的發光強度比較高。自吸收對光致發光幾乎沒有影響，因為激發和發射過程都發生在樣品表面。在高能射線的激發下，經過多次電離過程，晶體內部產生大量的電子-空穴對，電子-空穴對將能量傳遞到發光中心，發光過程基本發生在晶體內部。
Ce:YAP高溫閃爍晶體的研究！不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜，是Fe: YAP樣品在不同溫度退火后的吸收光譜和微分吸收光譜。Fe: YAP晶體的吸收光譜在203納米、246納米、270納米和325納米附近有吸收峰。差示吸收光譜顯示，氫退火后264 ~ 270納米波長范圍內的吸收明顯減弱，氧退火后321納米出現差示吸收峰。可以認為246 nm和270 nm處的吸收與Fe3有關，即Fe3和Fe2之間存在躍遷[102]。除了321nm處的吸收，YAP: Fe的幾個吸收峰與純YAP晶體的吸收峰有一定距離，這不能解釋純YAP(Ce: YAP)中的其他吸收峰與鐵有關。Ce: YAP晶體的d-f躍遷為寬帶發射，峰值在365 nm。
作為未摻雜晶體的ceF3具有本征發光，而另一方面，以Ce為基質的晶體和以Ce為摻雜劑的晶體表現出與Ce3相同的5d4f躍遷發光。表1-2無機閃爍體中主要電子躍遷和發光中心的分類，對于閃爍體，一般要求其發光中心具有較高的輻射躍遷概率。表1-2總結了無機閃爍晶體中幾種主要類型的發光中心。具有S20外層電子構型的類汞離子可以產生很高的光輸出，但很難獲得很短的衰變時間。Eu2也存在類似的情況。Ce3的5d4f躍遷是允許的躍遷，在各種襯底中既有高光輸出又有快衰減時間。發現YAP基質中Ce，Mn之間存在明顯的能量轉移過程。吉林雙折射CeYAP晶體加工
少量過渡金屬離子的存在對吸收只會造成線性疊加影響, 且低濃度吸收并不足以造成Ce: YAP晶體的自吸收。陜西雙折射CeYAP晶體性能
有時線性吸收系數被質量吸收系數微米=/d (d袋表密度)代替。因為質量吸收系數與材料的晶體結構和相態無關。與鹵素化合物晶體相比，氧化物晶體具有優異的熱力學性質和穩定的化學性質。因此，鈰離子摻雜的無機氧化物閃爍晶體，包括鋁酸鹽、硅酸鹽、硼酸鹽和磷酸鹽，已經引起了極大的關注和光泛的研究。下表總結了鈰離子摻雜氧化物和硫化物閃爍晶體的基本閃爍特性。由表可知，大多數摻鈰離子的氧化物閃爍晶體具有高光輸出和快速衰減的特性，尤其是摻鈰離子的鋁酸鹽和硅酸鹽閃爍晶體具有誘人的閃爍特性，如Ce:YAP、Ce3360YAG、Ce:LSO和Ce3360Lyso，被認為是新一代高性能無機閃爍晶體。陜西雙折射CeYAP晶體性能
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