不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜，是Fe: YAP樣品在不同溫度退火后的吸收光譜和微分吸收光譜。Fe: YAP晶體的吸收光譜在203納米、246納米、270納米和325納米附近有吸收峰。差示吸收光譜顯示，氫退火后264 ~ 270納米波長范圍內(nèi)的吸收明顯減弱，氧退火后321納米出現(xiàn)差示吸收峰?？梢哉J為246 nm和270 nm處的吸收與Fe3有關，即Fe3和Fe2之間存在躍遷[102]。除了321nm處的吸收，YAP: Fe的幾個吸收峰與純YAP晶體的吸收峰有一定距離，這不能解釋純YAP(Ce: YAP)中的其他吸收峰與鐵有關。 開中頻電源升溫至原料全部熔化，在此過程中打開晶轉，以使爐內(nèi)溫度分布均勻。甘肅進口CeYAP晶體批發(fā)
不同退火條件下Ce: YAP晶體自吸收的比較，為了比較不同退火條件下退火對自吸收的影響，我們測量了相同厚度(2mm)和濃度(0.3%)的Ce: YAP晶體在不同溫度和氣氛下退火后的透射光譜、熒光光譜和XEL光譜。從圖4-8可以看出，直拉法生長的Ce: YAP晶體經(jīng)氫退火后透射邊藍移，自吸收減弱。當進行氧退火時，通過邊緣紅移增強了自吸收。氫的退火溫度越高，自吸收越弱。氧的退火溫度越高，自吸收越強。然而，退火溫度的上限約為1600。如果溫度太高，晶體容易起霧，導致幾乎不滲透。甘肅生長CeYAP晶體廠家直銷CeYAP是一種性能優(yōu)良的閃爍晶體，它具有良好的機械加工性能。
無機閃爍晶體的閃爍機理閃爍體的本質(zhì)是在盡可能短的時間內(nèi)把高能射線或者粒子轉化成可探測的可見光。通常高能射線與無機閃爍晶體相互作用存在有三種方式，光電效應，康普頓散射，正負電子對。光電效應中，一個離子吸收光子后，會從它的一個殼層中發(fā)射出光電子，光電子能量為光子能量和電子結合能之差。當該殼層的空位別外層較高能量的電子填充時，結合能會以X射線或者俄歇電子的形式釋放出來。產(chǎn)生的X射線將在二次光電過程中北吸收，入射光的全部能量則被閃爍體所吸收。
為了保護銥坩堝，減少銥金損耗，我們先將爐膛抽真空至氣壓約為10-3Pa，然后充高純氬氣或氬氫混合作為保護氣氛，爐內(nèi)氣壓約為0.025Mpa。開中頻電源升溫至原料全部熔化，在此過程中打開晶轉，以使爐內(nèi)溫度分布均勻。待原料全部熔化后，仔細觀察熔體液流狀態(tài)，準備下種。條件允許情況下，可適當提高爐內(nèi)溫度，使原料保持過熱狀態(tài)一段時間，通過自然對流使熔體進一步混合均勻。下種前調(diào)整功率，使熔體溫度在晶體熔點附近(1875oC左右)，并保持恒溫，同時緩慢下降籽晶到液面附近。觀察液流線流動情況，并在固液界面附件進行烤種約30分鐘之后，將籽晶與熔體接觸，并連續(xù)觀察籽晶變化，使保持籽晶既不熔掉又不長大半小時左右，并且光圈亮度保持穩(wěn)定。YAP晶體生長氣氛：由于采用中頻加熱方式，主要保溫材料為高熔點絕熱氧化物(氧化鋯、氧化鋁等)。
由于晶體放肩階段屬強迫限制晶體直徑增大的過程，晶體尺寸的變化率比較大，如果程序段過少，容易在晶體表面出現(xiàn)明顯的分段現(xiàn)象，從而影響晶體的內(nèi)部質(zhì)量。在確保控制精度的前提下，為了效控制晶體外形尺寸，需要考慮增加晶體的生長程序。在生長大尺寸Ce: YAP晶體時我們使用300個程序段放肩（3504歐路控制器程序段共500段），而采用818歐陸控制器的放肩程序分為30段。結果表明，增加程序段后，晶體放肩部分的外形控制得到明顯改善 北京生長CeYAP晶體不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。CeYAP等被認為是新一代高性能無機閃爍晶體。甘肅生長CeYAP晶體廠家直銷
結果表明，還原Ce4離子可以被Ce: YAP晶體的自吸收，Ce4離子可以明顯猝滅Ce3離子的發(fā)光。甘肅進口CeYAP晶體批發(fā)
在康普頓閃光過程中，電子與X射線或其他高能射線發(fā)生彈性散射，使得高能射線的波長變長，這是吸收輻射能的主要途徑之一。在康普頓效應中，單個光子與單個自由電子或束縛電子碰撞。在碰撞中，光子將部分能量和動量傳遞給電子，導致電子反沖。電子-正電子對是指輻射能直接轉化為物質(zhì)的過程，也是高能粒子通過物質(zhì)時無機閃爍晶體吸收高能射線的主要途徑之一。要產(chǎn)生正負電子對，光子的總能量必須大于1.02MeV。當物體受到高能電磁輻射時，其作用主要取決于入射光子的能量和閃爍體上離子吸收的原子數(shù)量。一般0.1MeV以下的光子能量主要是光電效應，0.1 ~ 10mv主要是康普頓閃光，10mv以上主要是正負電子對效應。甘肅進口CeYAP晶體批發(fā)
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