廣州低溫光刻膠多少錢

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-28
制版光刻膠應(yīng)用場(chǎng)景:印刷電路板(FPC)、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工。特點(diǎn):高分辨率與耐化學(xué)性,確保模板的長(zhǎng)期使用壽命。

水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場(chǎng)景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子)的制造,以及柔性電路的生產(chǎn)。特點(diǎn):以水為溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場(chǎng)景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,部分需溶劑顯影),提升生產(chǎn)靈活性。 松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!廣州低溫光刻膠多少錢

廣州低溫光刻膠多少錢,光刻膠

  1. 產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑、無白點(diǎn)、無沙眼、亮度高;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條;感光度高,曝光時(shí)間短,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍:適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板(PCB)、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
內(nèi)蒙古UV納米光刻膠多少錢光刻膠解決方案找吉田,ISO 認(rèn)證 + 8S 管理,良率達(dá) 98%!

廣州低溫光刻膠多少錢,光刻膠

 原料準(zhǔn)備

? 主要成分:樹脂(成膜劑,如酚醛樹脂、聚酰亞胺等)、感光劑(光引發(fā)劑或光敏化合物,如重氮萘醌、光刻膠單體)、溶劑(溶解成分,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA))、添加劑(調(diào)節(jié)粘度、感光度、穩(wěn)定性等,如表面活性劑、穩(wěn)定劑)。

? 原料提純:對(duì)樹脂、感光劑等進(jìn)行高純度精制(純度通常要求99.9%以上),避免雜質(zhì)影響光刻精度。

 配料與混合

? 按配方比例精確稱量各組分,在潔凈環(huán)境,如萬中通過攪拌機(jī)均勻混合,形成膠狀溶液。

? 控制溫度(通常20-30℃)和攪拌速度,避免氣泡產(chǎn)生或成分分解。

 過濾與純化

? 使用納米級(jí)濾膜(孔徑0.05-0.2μm)過濾,去除顆粒雜質(zhì)(如金屬離子、灰塵),確保膠液潔凈度,避免光刻時(shí)產(chǎn)生缺陷。

 性能檢測(cè)

? 物理指標(biāo):粘度、固含量、表面張力、分子量分布等,影響涂布均勻性。

? 化學(xué)指標(biāo):感光度、分辨率、對(duì)比度、耐蝕刻性,通過曝光實(shí)驗(yàn)和顯影測(cè)試驗(yàn)證。

? 可靠性:存儲(chǔ)穩(wěn)定性(常溫/低溫保存下的性能變化)、耐溫性(烘烤過程中的抗降解能力)。

 包裝與儲(chǔ)存

? 在惰性氣體(如氮?dú)猓┉h(huán)境下分裝至避光容器(如棕色玻璃瓶或鋁罐),防止感光劑氧化或光分解。

? 儲(chǔ)存條件:低溫(5-10℃)、避光、干燥,部分產(chǎn)品需零下環(huán)境(如EUV光刻膠)。

 光伏電池(半導(dǎo)體級(jí)延伸)

? HJT/TOPCon電池:在硅片表面圖形化金屬電極,使用高靈敏度光刻膠(曝光能量≤50mJ/cm2),線寬≤20μm,降低遮光損失。

? 鈣鈦礦電池:用于電極圖案化和層間隔離,需耐有機(jī)溶劑(適應(yīng)溶液涂布工藝)。

 納米壓印技術(shù)(下一代光刻)

? 納米壓印光刻膠:通過模具壓印實(shí)現(xiàn)10nm級(jí)分辨率,用于3D NAND存儲(chǔ)孔陣列(直徑≤20nm)、量子點(diǎn)顯示陣列等。

 微流控與生物醫(yī)療

? 微流控芯片:制造微米級(jí)流道(寬度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS基材適配)。

? 生物檢測(cè)芯片:通過光刻膠圖案化抗體/抗原固定位點(diǎn),精度≤5μm。
產(chǎn)業(yè)鏈配套:原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展。

廣州低溫光刻膠多少錢,光刻膠

  1. 全品類覆蓋
    吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,技術(shù)布局全面性于多數(shù)國(guó)內(nèi)廠商。
  2. 關(guān)鍵技術(shù)突破
    納米壓印技術(shù):JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃,支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制,適用于第三代半導(dǎo)體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,技術(shù)指標(biāo)接近國(guó)際先進(jìn)水平。
    水性環(huán)保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn),環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品。
    厚膜工藝能力:JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控(達(dá)數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求。
吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力。青海高溫光刻膠報(bào)價(jià)

半導(dǎo)體材料方案選吉田,歐盟 REACH 合規(guī),24 小時(shí)技術(shù)支持!廣州低溫光刻膠多少錢

關(guān)鍵工藝流程

 涂布:

? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠,厚度控制在0.1-5μm(依制程精度調(diào)整),需均勻無氣泡(旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm)。

 前烘(Soft Bake):

? 加熱(80-120℃)去除溶劑,固化膠膜,增強(qiáng)附著力(避免顯影時(shí)邊緣剝離)。

 曝光:

? 光源匹配:

? G/I線膠:汞燈(適用于≥1μm線寬,如PCB、LCD)。

? DUV膠(248nm/193nm):KrF/ArF準(zhǔn)分子激光(用于28nm-14nm制程,如存儲(chǔ)芯片)。

? EUV膠(13.5nm):極紫外光源(用于7nm以下制程,需控制納米級(jí)缺陷)。

? 曝光能量:需精確控制(如ArF膠約50mJ/cm2),避免過曝或欠曝導(dǎo)致圖案失真。

 顯影:

? 采用堿性溶液(如0.262N四甲基氫氧化銨,TMAH),曝光區(qū)域膠膜溶解,未曝光區(qū)域保留,形成三維立體圖案。

 后烘(Post-Exposure Bake, PEB):

? 化學(xué)增幅型膠需此步驟,通過加熱(90-130℃)激發(fā)光酸催化反應(yīng),提高分辨率和耐蝕刻性。
廣州低溫光刻膠多少錢

標(biāo)簽: 錫片 光刻膠
欧美乱妇精品无乱码亚洲欧美,日本按摩高潮a级中文片三,久久男人电影天堂92,好吊妞在线视频免费观看综合网
天天综合网久久综合免费成人 | 午夜国产理论片中文飘花 | 在线中文字幕精品视频 | 亚洲人成自拍网站在线观看 | 在线中文字幕有码中文 | 亚洲人成网站在线播放2020 |