上海高精度雙光子聚合

來源: 發布時間:2025-02-26

    雙光子聚合技術是一種高精度、高效率的微納加工技術,具有以下優勢特點:高精度和高分辨率:雙光子聚合技術可以實現亞微米甚至納米級的分辨率,使得制造出的微納結構更加精細。這是因為它利用雙光子吸收過程,將激光束聚焦到非常小的體積內,從而實現了高精度的加工。三維加工能力:由于雙光子聚合技術可以在聚合物體積內部進行光刻,因此可以實現復雜的三維結構制造,如微型光學元件、微流體芯片等。這一特點使得它在微納制造領域具有廣泛的應用前景。無需光掩膜:傳統的光刻技術需要使用光掩膜進行圖案轉移,而雙光子聚合技術可以直接通過計算機控制激光束的位置和強度來實現圖案的制造,無需光掩膜。這不僅降低了制造成本,還縮短了制造周期。材料多樣性:雙光子聚合技術可以使用各種不同類型的光敏樹脂作為加工材料,從而可以制造出各種不同性質和功能的微納結構。這為微納制造提供了更多的選擇和靈活性。高效加工速度:雙光子聚合技術具有較高的加工速度,可以在短時間內制造出復雜的三維結構。這使得它在工業生產中具有較高的效率和競爭力。易于控制和修改:雙光子聚合的加工環境和參數易于控制,可以輕松修改得到所需的結構。 哪些領域會運用雙光子聚合加工技術?上海高精度雙光子聚合

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Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。上海高精度雙光子聚合Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程。

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性


Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的。

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。雙光子聚合技術可用于3D微納結構的增材制造。江蘇德國雙光子聚合微納光刻

雙光子聚合到底是什么技術?有什么特點?運用在哪些領域?上海高精度雙光子聚合

QuantumXshape技術特點概要:快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工程流程;工業驗證的晶圓級批量生產;200個標準結構的通宵產量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義上海高精度雙光子聚合

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