內蒙古納米雙光子聚合3D光刻

雙光子聚合是物質在發生雙光子吸收后所引發的光聚合過程。雙光子吸收是指物質的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強激光作用下發生，是一種強激光下光與物質相互作用的現象，屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發生主要在脈沖激光所產生的特別強激光的焦點處，光路上其他地方的激光強度不足以產生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應的單光子過程不能發生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點，在三維微加工、高密度光儲存及生物醫療領域有著巨大的應用前景，近年來已成為全球高新技術領域的一大研究熱點。該無掩膜光刻系統適用于2D和2.5D拓撲結構快速制造，例如微光學衍射以及折射元件等.內蒙古納米雙光子聚合3D光刻

QuantumXshape技術特點概要：快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡易明了的工程流程；工業驗證的晶圓級批量生產；200個標準結構的通宵產量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。歡迎咨詢。內蒙古納米雙光子聚合3D光刻雙光子聚合技術是近年發展起來的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯的一種新型的光聚合技術。

隨著科技的不斷進步，雙光子聚合激光直寫技術正以驚人的速度改變著我們的生活。這項創新技術利用雙光子效應，通過高能量激光束直接寫入材料表面，實現了高精度、高效率的微納加工。它不僅在微電子、光電子、生物醫學等領域展現出巨大潛力，還為我們帶來了無限的想象空間。雙光子聚合激光直寫技術的突破在于其能夠實現超高分辨率的微納加工。傳統的光刻技術受限于光的波長，無法達到納米級別的加工精度。而雙光子聚合激光直寫技術則能夠利用兩個光子的能量共同作用，將加工精度提升到亞微米甚至納米級別。這使得我們能夠制造出更小、更精細的微型器件，為微電子行業帶來了巨大的發展機遇。除了在微電子領域的應用，雙光子聚合激光直寫技術還在光電子領域展現出了巨大的潛力。通過控制激光束的強度和聚焦點的位置，我們可以在光學材料中實現三維結構的直接寫入。這為光學器件的制造提供了全新的思路，不僅能夠提高器件的性能，還能夠降低成本。這對于光通信、光存儲等領域的發展具有重要意義。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性

雙光子聚合可以通過控制激光的光強和聚焦位置來實現加工的精度和形狀，表現出很強的可控性。

事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的，其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達到了120nm，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案，而是單純的利用了材料的性質。來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(IMSAS)研究所的科學家們發明了一種全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系統，利用雙光子聚合原理（2PP）結合光刻技術，將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點。內蒙古納米雙光子聚合3D光刻

科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術打印微型通道的聚合物母版，并結合軟光刻技術做后續復制工作。內蒙古納米雙光子聚合3D光刻

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型。基于雙光子聚合技術，該激光直寫系統不只是快速成型制作的特別好的機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規模化生產。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制內蒙古納米雙光子聚合3D光刻