北京微光學增材制造哪家好

   作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微納加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。

增材制造有助于提高制造效率和降低成本。北京微光學增材制造哪家好

   傳統上，調節板和冷卻臺是銅焊的。將多個零件釬焊在一起以創建單個組件。增材制造在此提供的優勢在于，可以設計結構一體化的零件，從而減少零件的數量，并替代釬焊。單一的結構對設計迭代也帶來了直觀的好處，我們可以想象，要通過傳統的供應鏈，訂購多個零件可能需要一兩個月才能得到，因為必須通過訂購系統，有人必須加工，有人必須組裝，有人可能需要測試進行質量檢查。然后才進入到供貨物流系統中，而將這些不同的零件組裝在一起后，才可以對其進行后續的一個測試。這使得每一次設計迭代都變得緩慢而昂貴。但是，通過3D打印-增材制造技術，就可以省去所有這些步驟。上海2PP增材制造三維微納米加工系統增材制造技術可用于生產復雜結構，傳統制造無法達到。

   QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。

  Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解金屬材料增材制造技術。

Nanoscribe，基于雙光子聚合（2PP）原理的3D微納加工的先驅品牌，致力于為各行業提供高效、精密的增材制造解決方案。NanoscribePhotonicProfessional打印系統是Nanoscribe的旗艦產品系列，其獨特的2PP技術可以實現微米級別的精度和高度復雜性的結構，是目前市場上**的3D微納加工設備之一。與其他3D打印技術相比，NanoscribePhotonicProfessional具有更高的精度和更大的自由度，可以制造出極其細致的結構和復雜的幾何形狀。這一特點使得Nanoscribe在微納電子、生物醫學、光電子等領域有著***的應用。用戶可以使用NanoscribePhotonicProfessional快速打印出高質量的微米級別的器件和樣品，**提高了研究和生產的效率和質量。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您簡述增材制造技術的應用。北京進口增材制造PPGT2

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。北京微光學增材制造哪家好

隨著各行各業的發展及科技的進步，人們可以用3D打印創建在人體內傳導藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。   北京微光學增材制造哪家好