廣東2PP灰度光刻三維光刻

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX，Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創作工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為mm。 更多德國雙光子灰度光刻技術內容，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。廣東2PP灰度光刻三維光刻

現代光電設備在系統的復雜化與小型化得到了巨大改進。一種應用需求為使用定制的透鏡陣列來準直和投射來自線性排列的邊緣發射激光二極管以形成復合激光線。消費類相機和投影模塊中的微型光學元件通常需要多個元件才能滿足性能規格。復雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會導致高度彎曲的表面產生球面像差，從而抑制準直性能。硅灰度光刻技術可以在單個高折射率表面上實現復雜的透鏡形狀，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準和間距。多孔徑透鏡陣列設計用于沿快軸準直激光，并在慢軸上提供±3°發散角。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項，以偏置主光線角并與發散的光錐重疊以形成連續的激光線。北京高精度灰度光刻微納光刻如果了解雙光子灰度光刻技術，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。雙光子灰度光刻（2GL ?）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。黑龍江進口灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點。廣東2PP灰度光刻三維光刻

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。廣東2PP灰度光刻三維光刻

納糯三維科技（上海）有限公司是一家有著雄厚實力背景、信譽可靠、勵精圖治、展望未來、有夢想有目標，有組織有體系的公司，堅持于帶領員工在未來的道路上大放光明，攜手共畫藍圖，在上海市等地區的儀器儀表行業中積累了大批忠誠的客戶粉絲源，也收獲了良好的用戶口碑，為公司的發展奠定的良好的行業基礎，也希望未來公司能成為*****，努力為行業領域的發展奉獻出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態度和不斷的完善創新理念以及自強不息，斗志昂揚的的企業精神將**納糯三維科技供應和您一起攜手步入輝煌，共創佳績，一直以來，公司貫徹執行科學管理、創新發展、誠實守信的方針，員工精誠努力，協同奮取，以品質、服務來贏得市場，我們一直在路上！