四氟化碳是目前微電子工業中用量的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量...

帶六氟化硫的氣瓶不允許在高于45℃的環境下使用、貯存和運輸。液態和氣態SF6可迅速導致窒息，因此貯存及使用場所應通風良好，且須防止氣瓶泄漏。一旦吸入，應迅速轉移到新鮮空氣中。液態六氟化硫具有急劇冷凍作用，切勿使其接觸人的眼睛、皮膚或衣服，以免。要處理分解了的S...

二氧化碳開采器釋放的高壓氣體溫度為零度左右；不產生具有破壞性的震蕩或振波，減少周圍環境破壞機率，無需警戒排煙塵；不需要驗炮，破裂后便可進入現場，可連續作業，減少二次爆破，節省成本；設備在工作過程中不會產生任何的有害氣體，不會對操作人員的身體造成傷害；解決了買不...

四氟化碳是目前微電子工業中用量比較大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，鋁合金門窗制造、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態，印刷電路生產中的去污劑等...

對于混合氣而言，配比的精度是參數，隨著產品組分的增加、配制精度的上升，客戶常要求氣體供應商能夠對多種ppm（partpermillion，百萬分之）乃至ppb（partperbillion，十億分之）級濃度的氣體組分進行精細操作，其配制過程的難度與復雜程度也增...

四氟化碳與氧在高溫下不反應]四氟化炭是目前微電子行業使用比較多的等離子蝕刻氣體，它是由高純氣與高純氣配高純氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和鎢薄膜材料的蝕刻。在使用CF4-H2反應離子刻蝕的硅及二氧化硅系統中，通過調節兩種氣體的比...

生態環境局相關負責人介紹，碳排放交易是為了促進全球溫室氣體減排、減少全球二氧化碳排放所采用的市場機制。1997年12月于日本京都通過的《氣候變化框架公約》個附加協議，即《京都議定書》。《議定書》把市場機制作為解決二氧化碳為的溫室氣體減排問題的新路徑，把二氧...

電子特氣：半導體工業的關鍵原料，電子特氣是電子工業的關鍵原料，屬于工業氣體的重要分支。工業氣體是現代工業的基礎原材料，而電子特氣是工業氣體中附加值較高的品種，與傳統工業氣體的區別在于純度更高（如高純氣體）或者具有特殊用途（如參與化學反應），是極大規模集成電...