吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠：進口品牌品質(zhì)，本地化服務(wù)支持 柯圖泰全系列感光膠依托進口技術(shù)，提供高性價比的絲網(wǎng)印刷解決方案。 吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000、Autosol 2000），源自美國先進配方，分辨率達(dá) 120 線 / 英寸，適用于玻璃、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過 SGS 認(rèn)證，符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求，其高感光度與耐摩擦性，確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù)，幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程，降低材料損耗。 吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力。貴州紫外光刻膠工廠 依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應(yīng)鏈，吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá)...

光刻膠（如液晶平板顯示器光刻膠） 液晶平板顯示器制造：在液晶平板顯示器（LCD）的生產(chǎn)過程中，光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案，包括像素電極、公共電極、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果，如分辨率、對比度、視角等。 有機發(fā)光二極管顯示器（OLED）制造：OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快等優(yōu)點，而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作，提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 。 吉田市場定位與未來布局。廣州負(fù)性光刻膠國產(chǎn)廠家 技術(shù)挑戰(zhàn)： ...

納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片：在22nm以下制程中，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）。 ? 二維材料器件：在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面，通過電子束光刻膠定義納米電極陣列，構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。 納米光子學(xué)與超材料 ? 光子晶體與波導(dǎo)：利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)（如光子晶體光纖、納米級波導(dǎo)彎頭），調(diào)控光的傳播路徑，用于集成光路或量子光學(xué)器件。 ? 超材料設(shè)計：在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級“魚網(wǎng)狀...

技術(shù)挑戰(zhàn)： ? 技術(shù)壁壘：EUV光刻膠、3nm以下制程材料仍處研發(fā)階段，光刻膠分辨率、靈敏度與國際水平存在差距（如東京應(yīng)化ArF膠分辨率達(dá)14nm）。 ? 供應(yīng)鏈風(fēng)險：樹脂、光引發(fā)劑等原材料自給率不足8%，部分依賴進口（如日本信越化學(xué)）；美國對華技術(shù)封鎖可能影響設(shè)備采購。 ? 客戶驗證：光刻膠需通過晶圓廠全流程測試，驗證周期長（1-2年），國內(nèi)企業(yè)在頭部客戶滲透率較低。 未來展望： ? 短期（2025-2027年）：KrF/A...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。 UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強酸強堿，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如半導(dǎo)體器件制造。 其他光刻膠 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點，重量 1L。 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢，應(yīng)用場景。 吉田半導(dǎo)體...

綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟 公司采用水性光刻膠技術(shù)，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時，其光刻膠廢液回收項目已投產(chǎn)，通過膜分離+精餾技術(shù)實現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機物）超100噸。 低碳供應(yīng)鏈管理 吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂，部分產(chǎn)品采用可再生原料（如植物基丙烯酸酯），碳排放強度較傳統(tǒng)工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞，相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。 無鹵無鉛錫膏廠家吉田，RoHS 認(rèn)證，為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)！天津油墨光刻膠價格 ...

客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢。 快速交付與售后支持 作為國內(nèi)廠商，吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較進口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時技術(shù)響應(yīng)，降低客戶供應(yīng)鏈風(fēng)險。 性價比優(yōu)勢 國產(chǎn)光刻膠價格普遍低于進口產(chǎn)品 30%-50%，吉田半導(dǎo)體通過規(guī)模化生產(chǎn)和供應(yīng)鏈優(yōu)化進一步壓縮成本，同時保持性能對標(biāo)國際品牌，適合對成本敏感的中低端市場及國產(chǎn)替代需求。 政策與市場機遇 受益于國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢，吉田半導(dǎo)體作為 “專精特...

技術(shù)挑戰(zhàn) 光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級制造的材料，其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面 耐高溫光刻膠 JT-2000，250℃環(huán)境穩(wěn)定運行，圖形保真度超 95%，用于納米結(jié)構(gòu)制造！沈陽油墨光刻膠品牌 ? 高分辨率：隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進，需開發(fā)更高精度的EUV光刻膠，解決光斑擴散、線寬控制等問題。 ? 靈敏度與穩(wěn)定性：平衡感光速度和圖案抗蝕能力，適應(yīng)極紫外光（13.5nm）的低能量曝光。 ? 國產(chǎn)化替代：目前光刻膠（如EUV、ArF浸沒式）長期被日本、美國企業(yè)...

先進制程瓶頸突破 KrF/ArF光刻膠的量產(chǎn)能力提升直接推動7nm及以下制程的國產(chǎn)化進程。例如，恒坤新材的KrF光刻膠已批量供應(yīng)12英寸產(chǎn)線，覆蓋7nm工藝，其工藝寬容度較日本同類型產(chǎn)品提升30%。這使得國內(nèi)晶圓廠（如中芯國際）在DUV多重曝光技術(shù)下，能夠以更低成本實現(xiàn)接近EUV的制程效果，緩解了EUV光刻機禁運的壓力。此外，武漢太紫微的T150A光刻膠通過120nm分辨率驗證，為28nm成熟制程的成本優(yōu)化提供了新方案。 EUV光刻膠研發(fā)加速 盡管EUV光刻膠目前完全依賴進口，但國內(nèi)企業(yè)已啟動關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)。久日新材的光致產(chǎn)酸劑實現(xiàn)噸級訂單，科技部“十四五”專...

定義與特性 正性光刻膠是一種在曝光后，曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形。與負(fù)性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比，其優(yōu)勢是分辨率高、圖案邊緣清晰，是半導(dǎo)體制造（尤其是制程）的主流選擇。 化學(xué)組成與工作原理 主要成分 ? 樹脂（成膜劑）： ? 傳統(tǒng)正性膠：采用**酚醛樹脂（Novolak）與重氮萘醌（DNQ，光敏劑）**的復(fù)合體系（PAC體系），占比約80%-90%。 ? 化學(xué)增幅型（用于DUV/EUV）：含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物，搭配...

以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動，吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā)，搶占行業(yè)制高點。布局下一代光刻技術(shù)。 面對極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn)，吉田半導(dǎo)體與中科院合作開發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠，在感光效率（<10mJ/cm2）和耐蝕性（>80%）指標(biāo)上取得階段性進展。同時，公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā)，對標(biāo)日本王子控股技術(shù)，探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐，助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。河北紫外光刻膠廠家 吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001：國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級 JT-3001 厚板光...

吉田半導(dǎo)體獲評 "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為，吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號，樹立行業(yè)。 憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn)，吉田半導(dǎo)體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔(dān)多項國家 02 專項課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，推動國產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進程。未來，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景，深化技術(shù)研發(fā)與市場拓展，為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻" 中國力量 "。深圳光刻膠廠家哪家好？天津激光光刻膠多少錢 納米制造與表面工程 ? 納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過電子束光...

在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀，已成為國內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè)。公司產(chǎn)品線覆蓋正性、負(fù)性、厚膜、納米壓印等多類型光刻膠，廣泛應(yīng)用于芯片制造、LCD 顯示、PCB 電路板等領(lǐng)域。 技術(shù)：自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率（如 JT-3001 厚板光刻膠）、高感光度（如 JT-1000 負(fù)性光刻膠）及抗深蝕刻性能，部分指標(biāo)達(dá)到水平。 嚴(yán)苛品控：生產(chǎn)過程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系，材料進口率 100%，并通過 8S 現(xiàn)場管理確保制程穩(wěn)定性。 定制化服務(wù)：支持客戶需求定制，例如為特殊工藝開發(fā)光刻膠，滿足多樣化場景需求。 ...

產(chǎn)品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸 全品類覆蓋 吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線。例如： ? 芯片光刻膠：覆蓋i線、g線光刻膠，適用于6英寸、8英寸晶圓制造。 ? 納米壓印光刻膠：用于MEMS、光學(xué)器件等領(lǐng)域，替代傳統(tǒng)光刻工藝。 專業(yè)化延伸 公司布局半導(dǎo)體用KrF光刻膠，計劃2025年啟動研發(fā)，目標(biāo)進入中芯國際、長江存儲等晶圓廠供應(yīng)鏈。 質(zhì)量與生產(chǎn)優(yōu)勢：嚴(yán)格品控與自動化生產(chǎn) ISO...

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001：國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級 JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻，成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。 吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認(rèn)證，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%，幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%，加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級，推動 PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進程。 廣東光刻膠廠家哪家好？廣東阻焊光刻膠國產(chǎn)廠家 光刻膠...

技術(shù)挑戰(zhàn) 光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級制造的材料，其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面 松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載，提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案。東莞高溫光刻膠多少錢 ? 高分辨率：隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進，需開發(fā)更高精度的EUV光刻膠，解決光斑擴散、線寬控制等問題。 ? 靈敏度與穩(wěn)定性：平衡感光速度和圖案抗蝕能力，適應(yīng)極紫外光（13.5nm）的低能量曝光。 ? 國產(chǎn)化替代：目前光刻膠（如EUV、ArF浸沒式）長期被日本、美國企業(yè)壟斷，國內(nèi)正加速研發(fā)突破。 ...

關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域 半導(dǎo)體制造： ? 在晶圓表面涂覆光刻膠，通過掩膜曝光、顯影，刻蝕出晶體管、電路等納米級結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。 印刷電路板（PCB）： ? 保護電路圖形或作為蝕刻抗蝕層，制作線路和焊盤。 顯示面板（LCD/OLED）： ? 用于制備彩色濾光片、電極圖案等。 微機電系統(tǒng)（MEMS）： ? 加工微結(jié)構(gòu)（如傳感器、執(zhí)行器）。 工作原理（以正性膠為例） 1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠，烘...

上游原材料： ? 樹脂：彤程新材、鼎龍股份實現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成，金屬雜質(zhì)含量<5ppb（國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb）。 ? 光引發(fā)劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑，累計形成噸級訂單；威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。 ? 溶劑：怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%，與南大光電合作開發(fā)配套溶劑，技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。 設(shè)備與驗證： ? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機適配參數(shù)，驗證周期較國際廠商縮短6個月；徐州博康實現(xiàn)“單體-樹脂...

以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動，吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā)，搶占行業(yè)制高點。布局下一代光刻技術(shù)。 面對極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn)，吉田半導(dǎo)體與中科院合作開發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠，在感光效率（<10mJ/cm2）和耐蝕性（>80%）指標(biāo)上取得階段性進展。同時，公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā)，對標(biāo)日本王子控股技術(shù)，探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐，助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。感光膠的工藝和應(yīng)用。廈門納米壓印光刻膠品牌 人才與生態(tài)：跨學(xué)科團隊的“青黃不接” 前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學(xué)...

國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域，計劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。 地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單；福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%，光刻膠是重點突破方向。 研發(fā)專項：科技部“雙十計劃”設(shè)立20億元經(jīng)費，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%，并啟動EUV光刻膠預(yù)研。 光刻膠生產(chǎn)工藝流程與應(yīng)用。重慶激光光刻膠報價 上游原材料： ? 樹脂...

吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘，國產(chǎn)替代再迎新進展 自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗證，吉田半導(dǎo)體填補國內(nèi)光刻膠空白。 吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達(dá) 90nm，適用于 14nm 及以上制程，已通過中芯國際量產(chǎn)驗證。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方，突破日本企業(yè)對 ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產(chǎn)率提升 30%，蝕刻選擇比達(dá) 4:1，性能對標(biāo)日本信越的 ArF 系列。吉田半導(dǎo)體的技術(shù)突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進程，為國內(nèi)晶圓廠提供高性價比解決方案。 光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體，23 年研發(fā)經(jīng)驗，全自動化生產(chǎn)保障品質(zhì)！云南低溫光刻膠 光刻...

光刻膠系列： 厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年； 水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負(fù)性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g； 液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好； JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強酸強堿，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g； LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂...

主要優(yōu)勢：細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同 技術(shù)積累與自主化能力 公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗，實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，分辨率達(dá)3μm，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域，填補了國內(nèi)空白。 技術(shù)壁壘：掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級，金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。 產(chǎn)品多元化與技術(shù)化布局 產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如：...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場，通過嚴(yán)格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴。公司產(chǎn)品不僅通過 ISO9001 認(rèn)證，更以進口原材料和精細(xì)化生產(chǎn)流程保障品質(zhì)，例如錫膏產(chǎn)品采用無鹵無鉛配方，符合環(huán)保要求，適用于電子產(chǎn)品制造。其銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球，與富士康、聯(lián)想等企業(yè)保持長期合作，并在全國重點區(qū)域設(shè)立辦事處，提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù)。 作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)，吉田半導(dǎo)體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競爭力。公司投入大量資源開發(fā)新型光刻膠及焊接材料，例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏，滿足精密電子組裝的需求。同時，依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢，公司強化供應(yīng)鏈協(xié)同，縮短...

不同光刻膠類型的適用場景對比 類型 波長范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品 G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列 KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導(dǎo)體YK-300系列 ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED電極圖案化 國際主流：JSR ARF系列 EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進制程、3D NAND堆疊 研發(fā)中（吉田半導(dǎo)體合作攻關(guān)） 水性光刻膠 全波長適配 5-5...

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認(rèn)證，PCB 電路板制造 憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。 吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認(rèn)證，采用無鹵無鉛配方，符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率，確保復(fù)雜線路圖形的成型，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持，助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率。 無鹵無鉛錫育廠家吉田，RoHS 認(rèn)證，為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!江蘇網(wǎng)版光刻膠...

厚板光刻膠 電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時，厚板光刻膠可確保線路的精細(xì)度和穩(wěn)定性，比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）這類功率器件，需要承受高電壓和大電流，厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié)，保障芯片內(nèi)部電路的精細(xì)布局，提高器件的性能和可靠性。 負(fù)性光刻膠 半導(dǎo)體制造：在芯片制造過程中，用于制作一些對精度要求高、圖形面積較大的結(jié)構(gòu)，如芯片的金屬互連層、接觸孔等。通過負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝，能實現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移，...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。 厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。 負(fù)性光刻膠 SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。 負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率、良...

作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將環(huán)保理念融入產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)全流程。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢，持續(xù)推出符合國際環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體材料解決方案。 公司在錫膏、焊片等產(chǎn)品中采用無鹵無鉛配方，嚴(yán)格遵循 RoHS 指令要求，避免使用有害物質(zhì)。以錫膏為例，其零鹵素配方通過第三方機構(gòu)認(rèn)證，不僅減少了電子產(chǎn)品廢棄后的環(huán)境負(fù)擔(dān)，還提升了焊接可靠性，適用于新能源汽車、精密電子設(shè)備等領(lǐng)域。同時，納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產(chǎn)過程中，公司通過優(yōu)化原料配比，減少揮發(fā)性有機物（VOCs）排放，確保產(chǎn)品符合歐盟 REACH 法規(guī)...

吉田半導(dǎo)體獲評 "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為，吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號，樹立行業(yè)。 憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn)，吉田半導(dǎo)體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔(dān)多項國家 02 專項課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，推動國產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進程。未來，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景，深化技術(shù)研發(fā)與市場拓展，為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻" 中國力量 "。吉田半導(dǎo)體光刻膠，45nm 制程驗證，國產(chǎn)替代方案!吉林紫外光刻膠工廠 廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)...