傳統的光學顯微鏡已經可以獲得樣品微小細節的圖像,但是工業領域的研究需要更清晰地觀察更微小的各種樣品,并獲得樣品的三維形貌。一般顯微鏡采用散射型光線的場光源,在觀察樣品時,入射光線同時照射焦平面和相鄰的點,并同時成像,因此干擾較多,呈現的圖像不夠清晰。而OLS5000搭載的共聚焦技術采用了點照明的方式,通過焦平面反射入顯微鏡的光線需要經過微小的,來自焦平面以外的光線被阻擋住,減少了干擾,提高了圖像的清晰度。同時,OLS5000可容納高達210毫米樣品的擴展架,可測量深度高達25毫米凹坑的超長工作距離物鏡,將助力工業領域的研究人員對具有挑戰性的樣品進行觀測,即使是對于普通顯微鏡來說較長的連接桿和體...
根據非連續的焦點位置(Z)和檢測光強度(I)可以估算每個像素的光強變化曲線(I-Z曲線),并獲得其峰值位置和峰值強度。由于所有像素的峰值位置與樣品表面的不規則性相對應。因此可以獲得樣品表面的3D形狀信息。與此類似,通過峰值強度數據可以獲得針對樣品表面所有位置焦點的圖像(擴展圖像)。主機規格:型號OLS5000-SAFOLS5000-SMFOLS5000-LAFOLS5000-EAFOLS5000-EMF總倍率54x-17,280x視場直徑16μm-5,120μm測量原理光學系統反射式共焦激光掃描激光顯微鏡反射式共焦激光掃描激光-DIC顯微鏡彩色彩色DIC光接收元件激光:光電倍增管(2ch)色彩...
[獲取3D高度信息和高分辨率共焦圖像]激光共焦光學系統采用405納米激光二極管光源和高靈敏度光電倍增管獲得共焦圖像。淺焦深使其能夠用于測量樣品的表面不規則性。[405納米激光光源]光學顯微鏡的橫向分辨率隨著波長的減小而獲得提升。采用短波長激光的激光顯微鏡相比采用可見光(峰值550納米)的傳統顯微鏡具有更優的橫向分辨率。OLS5000顯微鏡利用405納米短波長激光二極管獲得***的橫向分辨率。[激光共焦光學系統]激光共焦光學系統接收通過圓形聚焦的光線,并非采集從樣品上反射和散射的所有光線。這樣有助于消除模糊,讓其能夠獲得比普通顯微鏡對比度更高的圖像[X-Y掃描儀]OLS5000顯微鏡配有奧林巴斯...
奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5000可以精確地測量亞微米級的表面形狀和粗糙度。圖像采集速度比我們之前的型號OLS4100快四倍,提高了效率。1.捕捉任意表面形狀。2.快速獲得可靠數據。3.操作簡單—只需放置樣品并按一下按鈕即可。4.測量具有挑戰性的樣品優異的平面分辨率奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5000配備的兩套光學系統(彩色成像光學系統和激光共焦光學系統)讓其能夠獲取彩色信息、高度信息和高分辨率圖像。405nm紫色激光和高數值孔徑物鏡可以捕捉到傳統光學顯微鏡、白光干涉儀或紅色激光顯微鏡無法發現的精細紋理和缺陷。LEXT物鏡我們的LEXT物鏡系列近期新增了提升測量性能的長工作距離物鏡和普通...
價值4、可測量具有挑戰性的樣品低輸出、非接觸式無損激光測量意味著不需要樣品制備。可以在不損壞易損性材料的情況下對其進行測量。擴展架可容納高達210毫米的樣品,而超長工作距離物鏡能夠測量深度可達25毫米的凹坑。在測量這兩類樣品時,您只需將樣品放在載物臺上即可。[獲取彩色信息]彩色成像光學系統使用利用白光LED光源和CMOS相機獲取彩色信息。[獲取3D高度信息和高分辨率共焦圖像]激光共焦光學系統采用405納米激光二極管光源和高靈敏度光電倍增管獲得共焦圖像。淺焦深使其能夠用于測量樣品的表面不規則性。[405納米激光光源]光學顯微鏡的橫向分辨率隨著波長的減小而獲得提升。采用短波長激光的激光顯微鏡相比采...
使用奧林巴斯OLS5000激光掃描共聚焦顯微鏡進行的滑動金屬表面的粗糙度測量背景活動金屬部件的摩擦會導致發熱和磨損加快。滑動表面的粗糙度對摩擦有很大影響。如果表面非常粗糙,峰谷很大,則部件不會順利移動,甚至會卡住。而另一方面,如果兩個表面都沒有峰谷,則缺少粗糙度可能導致滑動表面熔合在一起。為了在活動金屬部件之間達到所需的平滑度,只需適當的表面粗糙度即可。為了測量表面粗糙度,制造商通常會使用要在金屬表面拖動觸針的接觸式粗糙度測試儀。這種方法受觸針厚度的限制,不能進行細微粗糙度測量。奧林巴斯的解決方案奧林巴斯LEXT三維激光測量顯微鏡具備非接觸式表面粗糙度測試儀,與觸針不同,該測試儀讓您能以10納...
高分辨率,精確成像憑借對各種類型樣品進行精確3D測量的能力,系統可提供用于質量保證和工藝控制的可靠數據。的橫向分辨率405納米紫色激光和高數值孔徑物鏡可以捕捉到傳統光學顯微鏡、白光干涉儀或紅色激光顯微鏡難以發現的精細紋理和缺陷。紅光型(658納米:)微米紫光型(405納米:)一致的測量值LEXT物鏡可精確測量采用其他方式測量會發生畸變的周邊區域。傳統物鏡LEXT物鏡快速采集結果:高速掃描該顯微鏡的掃描算法既可提高數據質量又可提高速度,從而縮短您的掃描時間,簡化您的工作流程,zei終實現生產力的提升。PEAK算法VLSI標準80納米高度樣品(MPLFLN10XLEXT)OLS5000顯微鏡采用了...
因此可以獲得樣品表面的3D形狀信息。與此類似,通過峰值強度數據可以獲得針對樣品表面所有位置焦點的圖像(擴展圖像)。主機規格:型號OLS5000-SAFOLS5000-SMFOLS5000-LAFOLS5000-EAFOLS5000-EMF總倍率54x-17,280x視場直徑16μm-5,120μm測量原理光學系統反射式共焦激光掃描激光顯微鏡反射式共焦激光掃描激光-DIC顯微鏡彩色彩色DIC光接收元件激光:光電倍增管(2ch)色彩:CMOS彩色相機高度測量顯示分辨率納米動態范圍16位可重復性n-1*1*2*620x:μm,50x:μm,100x:μm精度*1*3*6測量值+/-*1*4*620x...
OLS50003D測量激光顯微鏡可以精確地測量亞微米級的表面形狀和粗糙度。圖像采集速度比我們之前的型號OLS4100快四倍,提高了效率。優異的平面分辨率LEXTOLS50003D測量配備的兩套光學系統(彩色成像光學系統和激光共焦光學系統)讓其能夠獲取彩色信息、高度信息和高分辨率圖像。405nm紫色激光和高數值孔徑物鏡可以捕捉到傳統光學顯微鏡、白光干涉儀或紅色無法發現的精細紋理和缺陷。LEXT物鏡我們的LEXT物鏡系列近期新增了提升測量性能的長工作距離物鏡和普通工作距離的10倍物鏡。所有LEXT物鏡的測量性能均可獲得保證。4K掃描技術—檢測陡峭斜面和近納米級臺階的形貌4K掃描技術可在X軸方向掃描...
OLS5000的數據獲取和處理功能也將簡化研究人員的工作,提高生產力。OLS5000采用計算機直觀控制,它搭載的掃描算法,可通過計算機的處理、轉換,快速獲得完整帶有高度信息的樣品表面圖像,并通過對樣品不同層面的掃描和計算機處理,獲得3D圖像。其采用的自動數據采集功能在測量時,只需在放置樣品后按動按鈕,設備將自動進行工作,無需進行復雜的設置調整,即使是不熟練的用戶也可獲得準確的檢測結果,有效地簡化了工作流程。前沿光學科技推動工業發展目前,奧林巴斯工業激光共聚焦顯微鏡的中國市場占有率處于地位,國內用戶達到了數百家,其中包括了中科院半導體所、清華大學等在內的多家研究所、企業和學校。新產品也將被應用于...
OLS5000激光顯微鏡可以精確地測量亞微米級的表面形狀和粗糙度。圖像采集速度比我們之前的型號OLS4100快四倍,提高了效率。OLS5000激光顯微鏡產品信息OLS5000激光顯微鏡可以精確地測量亞微米級的表面形狀和粗糙度。圖像采集速度比我們之前的型號OLS4100快四倍,提高了效率。1.捕捉任意表面形狀。2.快速獲得可靠數據。3.操作簡單—只需放置樣品并按一下按鈕即可4.測量具有挑戰性的樣品優異的平面分辨率LEXTOLS50003D測量激光顯微鏡配備的兩套光學系統(彩色成像光學系統和激光共焦光學系統)讓其能夠獲取彩色信息、高度信息和高分辨率圖像。405nm紫色激光和高數值孔徑物鏡可以捕捉到...
即使是不熟練的用戶也可獲得準確的檢測結果,有效地簡化了工作流程。前沿光學科技推動工業發展目前,奧林巴斯工業激光共聚焦顯微鏡的中國市場占有率處于地位,國內用戶達到了數百家,其中包括了中科院半導體所、清華大學等在內的多家研究所、企業和學校。新產品也將被應用于包括半導體、MEMS(微機電系統)、高精密PCB(印制電路板)制造、化學薄膜在內的多個工業領域。半導體和MEMS(微機電系統)領域的樣品進行顯影、金屬化、焊接等工藝后,需要進行表面形貌觀察,OLS5000的高清晰成像特性將幫助研究人員檢查樣品,排除問題。同時,針對高精密PCB(印制電路板)制造、化學薄膜等領域的微米和亞微米級別部件尺寸測量的工作...