EVG®850鍵合機 EVG®850鍵合機特征 生產系統可在高通量,高產量環境中運行 自動盒帶間或FOUP到FOUP操作 無污染的背面處理 超音速和/或刷子清潔 機械平整或缺口對準的預鍵合 先進的遠程診斷 技術數據 晶圓直徑(基板尺寸) 100-200、150-300毫米 全自動盒帶到盒帶操作 預鍵合室 對準類型:平面到平面或凹口到凹口 對準精度:X和Y:±50μm,θ:±0.1° 結合力:ZUI高5N 鍵合波起始位置:從晶圓邊緣到中心靈活 真空系統:9x10-2mbar(標準)和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標準),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質:去離子水(標準),NH4OH和H2O2(ZUI大)。2%濃度(可選) 旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉:ZUI高3000rpm(5s)EVG鍵合機選擇上海岱美儀器。江西EVG850 DB鍵合機
長久鍵合系統 EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對準與鍵合步驟分離開來,立即在業內掀起了市場geming。利用高溫和受控氣體環境下的高接觸力,這種新穎的方法已成為當今的工藝標準,EVG的鍵合機設備占據了半自動和全自動晶圓鍵合機的主要市場份額,并且安裝的機臺已經超過1500個。EVG的晶圓鍵合機可提供蕞/佳的總擁有成本(TCO),并具有多種設計功能,可優化鍵合良率。針對MEMS,3D集成或gao級封裝的不同市場需求,EVG優化了用于對準的多個模塊。下面是EVG的鍵合機EVG500系列介紹。價格怎么樣鍵合機售后服務以上應用工藝也讓MEMS器件,RF濾波器和BSI(背面照明)CIS(CMOS圖像傳感器)的生產迅速增長。
真空系統:9x10-2mbar(標準)和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標準),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質:去離子水(標準),NH4OH和H2O2(ZUI大)。2%濃度(可選) 旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉:ZUI高3000rpm(5s) 清潔臂:蕞多5條介質線(1個超音速系統使用2條線) 可選功能 ISO3mini-environment(根據ISO14644) LowTemp?等離子活化室 紅外檢查站 以上資料由岱美儀器提供并做技術支持
EVG®820層壓系統 將任何類型的干膠膜(膠帶)自動無應力層壓到晶圓上 特色 技術數據 EVG820層壓站用于將任何類型的干膠膜自動,無應力地層壓到載體晶片上。這項獨特的層壓技術可對卷筒上的膠帶進行打孔,然后將其對齊并層壓到晶圓上。該材料通常是雙面膠帶。利用沖壓技術,可以自由選擇膠帶的尺寸和尺寸,并且與基材無關。 特征 將任何類型的干膠膜自動,無應力和無空隙地層壓到載體晶片上 在載體晶片上精確對準的層壓 保護套剝離 干膜層壓站可被集成到一個EVG®850TB臨時鍵合系統 技術數據 晶圓直徑(基板尺寸) 高達300毫米 組態 1個打孔單元 底側保護襯套剝離 層壓 選件 頂側保護膜剝離 光學對準 加熱層壓EVG鍵合機鍵合工藝可在真空或受控氣體條件下進行。
陽極鍵合是晶片鍵合的一種方法,廣FAN用于微電子工業中,利用熱量和靜電場的結合將兩個表面密封在一起。這種鍵合技術ZUI常用于將玻璃層密封到硅晶圓上。也稱為場輔助鍵合或靜電密封,它類似于直接鍵合,與大多數其他鍵合技術不同,它通常不需要中間層,但不同之處在于,它依賴于當離子運動時表面之間的靜電吸引對組件施加高電壓。可以使用陽極鍵合將金屬鍵合到玻璃上,并使用玻璃的薄中間層將硅鍵合到硅上。但是,它特別適用于硅玻璃粘接。玻璃需要具有高含量的堿金屬(例如鈉),以提供可移動的正離子。通常使用一種特定類型的玻璃,其中包含約3.5%的氧化鈉(Na2O)。EVG500系列鍵合機是基于獨特模塊化鍵合室設計,能夠實現從研發到大批量生產的簡單技術轉換。HVM鍵合機當地價格
烘烤/冷卻模塊-適用于GEMINI用于在涂布后和鍵合之前加工粘合劑層。江西EVG850 DB鍵合機
焊使用工具將導線施加到微芯片上時對其產生壓力。將導線牢固地固定到位后,將超聲波能量施加到表面上,并在多個區域中建立牢固的結合。楔形鍵合所需的時間幾乎是類似球形鍵合所需時間的兩倍,但它也被認為是更穩定的連接,并且可以用鋁或其他幾種合金和金屬來完成。不建議業余愛好者在未獲得適當指導的情況下嘗試進行球焊或楔焊,因為焊線的敏感性和損壞電路的風險。已開發的技術使這兩個過程都可以完全自動化,并且幾乎不再需要手工完成引線鍵合。蕞終結果是實現了更加精確的連接,這種連接往往比傳統的手工引線鍵合方法產生的連接要持久。江西EVG850 DB鍵合機
岱美儀器技術服務(上海)有限公司公司是一家專門從事半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀產品的生產和銷售,是一家貿易型企業,公司成立于2002-02-07,位于金高路2216弄35號6幢306-308室。多年來為國內各行業用戶提供各種產品支持。公司主要經營半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等產品,產品質量可靠,均通過儀器儀表行業檢測,嚴格按照行業標準執行。目前產品已經應用與全國30多個省、市、自治區。岱美儀器技術服務(上海)有限公司研發團隊不斷緊跟半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業發展趨勢,研發與改進新的產品,從而保證公司在新技術研發方面不斷提升,確保公司產品符合行業標準和要求。岱美儀器技術服務(上海)有限公司以市場為導向,以創新為動力。不斷提升管理水平及半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀產品質量。本公司以良好的商品品質、誠信的經營理念期待您的到來!