在鍵合過程中,將兩個組件的表面弄平并徹底清潔以確保它們之間的緊密接觸。然后它們被夾在兩個電極之間,加熱至752-932℃(華氏400-500攝氏度),和幾百到千伏的電勢被施加,使得負電極,這就是所謂的陰極,是在接觸在玻璃中,正極(陽極)與硅接觸。玻璃中帶正電的鈉離子變得可移動并向陰極移動,在與硅片的邊界附近留下少量的正電荷,然后通過靜電吸引將其保持在適當的位置。帶負電的氧氣來自玻璃的離子向陽極遷移,并在到達邊界時與硅反應,形成二氧化硅(SiO 2)。產生的化學鍵將兩個組件密封在一起。EVG501 晶圓鍵合機系統:真正的低強度晶圓楔形補償系統,可實現醉高產量;研發和試生產的醉低購置成本。四川鍵合機樣機試用
真空系統:9x10-2mbar(標準)和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標準),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質:去離子水(標準),NH4OH和H2O2(蕞/大)。2%濃度(可選) 旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉:蕞/高3000rpm(5s) 清潔臂:蕞多5條介質線(1個超音速系統使用2條線) 可選功能 ISO3mini-environment(根據ISO14644) LowTemp?等離子活化室 紅外檢查站 以上資料由岱美儀器提供并做技術支持晶圓片鍵合機推薦產品EVG鍵合機可配置為黏合劑,陽極,直接/熔融,玻璃料,焊料(包括共晶和瞬態液相)和金屬擴散/熱壓縮工藝。
目前關于晶片鍵合的研究很多,工藝日漸成熟,但是對于表面帶有微結構的硅片鍵合研究很少,鍵合效果很差。本文針對表面帶有微結構硅晶圓的封裝問題,提出一種基于采用Ti/Au作為金屬過渡層的硅—硅共晶鍵合的鍵合工藝,實現表面帶有微結構硅晶圓之間的鍵合,解決鍵合對硅晶圓表面要求極高,環境要求苛刻的問題。在對金層施加一定的壓力和溫度時,金層發生流動、互融,從而形成鍵合。該過程對金的純度要求較高,即當金層發生氧化就會影響鍵合質量。
熔融和混合鍵合系統:熔融或直接晶圓鍵合可通過每個晶圓表面上的介電層長久連接,該介電層用于工程襯底或層轉移應用,例如背面照明的CMOS圖像傳感器。混合鍵合擴展了與鍵合界面中嵌入的金屬焊盤的熔融鍵合,從而允許晶片面對面連接。混合綁定的主要應用是高級3D設備堆疊。EVG的熔融和混合鍵合設備包含:EVG301單晶圓清洗系統;EVG320自動化單晶圓清洗系統;EVG810LT低溫等離子基活系統;EVG850LTSOI和晶圓直接鍵合自動化生產鍵合系統;EVG850SOI和晶圓直接鍵合自動化生產鍵合系統;GEMINIFB自動化生產晶圓鍵合系統;BONDSCALE自動化熔融鍵合生產系統。EVG500系列鍵合機擁有多種鍵合方法,包括陽極,熱壓縮,玻璃料,環氧樹脂,UV和熔融鍵合。
EVG®810LT技術數據晶圓直徑(基板尺寸)50-200、100-300毫米LowTemp?等離子活化室工藝氣體:2種標準工藝氣體(N2和O2)通用質量流量控制器:自校準(高達20.000sccm)真空系統:9x10-2mbar腔室的打開/關閉:自動化腔室的加載/卸載:手動(將晶圓/基板放置在加載銷上)可選功能:卡盤適用于不同的晶圓尺寸無金屬離子活化混合氣體的其他工藝氣體帶有渦輪泵的高真空系統:9x10-3mbar基本壓力符合LowTemp?等離子活化粘結的材料系統Si:Si/Si,Si/Si(熱氧化,Si(熱氧化)/Si(熱氧化)TEOS/TEOS(熱氧化)絕緣體鍺(GeOI)的Si/GeSi/Si3N4玻璃(無堿浮法):硅/玻璃,玻璃/玻璃化合物半導體:GaAs,GaP,InP聚合物:PMMA,環烯烴聚合物用戶可以使用上述和其他材料的“蕞佳已知方法”配方(可根據要求提供完整列表)EVG鍵合機頂部和底部晶片的duli溫度控制補償了不同的熱膨脹系數,實現無應力鍵合和出色的溫度均勻性。實驗室鍵合機廠家
EVG鍵合機軟件是基于Windows的圖形用戶界面的設計,注重用戶友好性,可輕松引導操作員完成每個流程步驟。四川鍵合機樣機試用
EVG®820層壓系統 將任何類型的干膠膜(膠帶)自動無應力層壓到晶圓上 特色 技術數據 EVG820層壓站用于將任何類型的干膠膜自動,無應力地層壓到載體晶片上。這項獨特的層壓技術可對卷筒上的膠帶進行打孔,然后將其對齊并層壓到晶圓上。該材料通常是雙面膠帶。利用沖壓技術,可以自由選擇膠帶的尺寸和尺寸,并且與基材無關。 特征 將任何類型的干膠膜自動,無應力和無空隙地層壓到載體晶片上 在載體晶片上精確對準的層壓 保護套剝離 干膜層壓站可被集成到一個EVG®850TB臨時鍵合系統 技術數據 晶圓直徑(基板尺寸) 高達300毫米 組態 1個打孔單元 底側保護襯套剝離 層壓 選件 頂側保護膜剝離 光學對準 加熱層壓四川鍵合機樣機試用
岱美儀器技術服務(上海)有限公司屬于儀器儀表的高新企業,技術力量雄厚。公司致力于為客戶提供安全、質量有保證的良好產品及服務,是一家其他有限責任公司企業。以滿足顧客要求為己任;以顧客永遠滿意為標準;以保持行業優先為目標,提供***的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀。岱美中國以創造***產品及服務的理念,打造高指標的服務,引導行業的發展。