浙江了解BOE蝕刻液產品介紹

    現階段通常用于金屬層蝕刻的銅酸蝕刻溶液主要成分為過氧化氫和一些添加劑；過氧化氫用于對金屬進行氧化，而添加劑則主要將氧化物酸化成離子態，使其溶解于溶液中，并且維持蝕刻特性要求。由于過氧化氫同時具有氧化性和還原性，其可以將銅氧化，也可以被金屬離子催化發生歧化分解反應，生成氧氣。如果此反應速度過快，則會生熱乃至引起等安全事故。與此同時，二價銅離子也具有一定的氧化性，當蝕刻時間較長，所述銅酸蝕刻溶液體系內的銅離子含量較高時，溶液的蝕刻特性會發生變化，以至于蝕刻達不到要求，所述銅酸蝕刻溶液不能夠再進行蝕刻，即達到蝕刻壽命。基于以上兩個方面，過氧化氫體系的銅酸蝕刻溶液壽命較低，一般為當銅酸溶液中銅離子的濃度達到4000-8000百萬分比濃度，則不能再使用；并且加入使用新的銅酸蝕刻溶液需要投入更多的成本。來蘇州，來博洋，BOE蝕刻液專業廠商。浙江了解BOE蝕刻液產品介紹

    PCB行業制作工序中產生大量微蝕液、蝕刻液、硝酸銅等含有不同濃度的銅等金屬，回收價值高，且外排廢水中也會有少量的銅重金屬存在，如不能合理的進行環保處理，一方面造成資源的嚴重浪費，另一方面重金屬排放后滲入至土壤及水源之中，即會對我們賴以生存的自然環境及自身的健康產生嚴重的污染和危害。近年來隨著環保意識的增強，法規對于印制電路板工廠排放廢水的各項指標限制日趨嚴謹，因此，印制電路板產業廢水處理為達到銅離子的穩定達標排放標準，均以大量加藥的手段來獲得解決。但傳統的加化學藥劑，操作成本高，且造成大量銅污泥產生及排放廢水導電度過高（溶解性鹽類造成），導致廢水回用難度加大或者根本無法回收使用的后續問題。蝕刻液再生循環系統有酸性、堿性兩大系統，兩大系統又可分為萃取法、直接電解法。可將大量原本需要排放的用后蝕刻液還原再生成為可再次使用的再生蝕刻液。從而減少生產廢液的排放，回用降低生產成本，且可提取出高純度電解金屬銅。福建一種BOE蝕刻液銷售廠BOE蝕刻液生產廠家就找蘇州博洋化學股份。

    三氯化鐵蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業中被采用，一般用來蝕刻銅、銅合金、不銹鋼、鐵及鋅、鋁等。雖然近些年來越來越要求再生容易，更加環保的蝕刻液，但由于三氯化鐵蝕刻液它的工藝穩定，操作方便，價格便宜，因此還仍然被廣大蝕刻加工企事業單位采用。三氯化鐵蝕刻液適用于網印抗蝕印料、液體感光膠、干膜、鍍金抗蝕層等抗蝕層的印制板的蝕刻。（但不適用于鎳、錫、錫－鉛合金等抗蝕層）1.蝕刻時的主要化學反應三氯化鐵蝕刻液對銅箔的蝕刻是一個氧化－還原過程。在銅表面Fe3+使銅氧化成氯化亞銅。同時Fe3+被還原成Fe2+。FeCl3＋Cu→FeCl2＋CuClCuCl具有還原性，可以和FeCl3進一步發生反應生成氯化銅。FeCl3＋CuCl→FeCl2＋CuCl2Cu2+具有氧化性，與銅發生氧化反應：CuCl2＋Cu→2CuCl所以，FeCl3蝕刻液對Cu的蝕刻時靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蝕刻速率快，蝕刻質量好；而Cu2+的蝕刻速率慢，蝕刻質量差。新配制的蝕刻液中只有Fe3+，所以蝕刻速率較快。但是隨著蝕刻反應的進行，Fe3+不斷消耗，而Cu2+不斷增加。當Fe3+消耗掉35％時，Cu2+已增加到相當大的濃度，這時Fe3+和Cu2+對Cu的蝕刻量幾乎相等；當Fe3+消耗掉50％時。

    Cu2+的蝕刻作用由次要地位而躍居主要地位，此時蝕刻速率慢，即應考慮蝕刻液的更新。一般工廠很少分析和測定蝕刻液中的含銅量，多以蝕刻時間和蝕刻質量來確定蝕刻液的再生與更新。蝕刻銅箔的同時，還伴有一些副反應，就是CuCl2和FeCl3的水解反應：FeCl3＋3H2O→Fe(OH)3↓＋3HClCuCl2＋2H2O→Cu(OH)2↓＋2HCl生成的氫氧化物很不穩定，受熱后易分解：2Fe(OH)3→Fe2O3↓＋3H2OCu(OH)2→CuO↓＋H2O結果生成了紅色的氧化鐵和黑色的氧化銅微粒，懸浮于蝕刻液中，對抗蝕層有一定的破壞作用。2.影響蝕刻速率的因素Fe3+的濃度和蝕刻液的溫度蝕刻液溫度越高，蝕刻速率越快，溫度的選擇應以不損壞抗蝕層為原則。Fe3+的濃度對蝕刻速率有很大的影響。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加，對銅的蝕刻速率相應加快。當所含Fe3+超過某一濃度時，由于溶液粘度增加，蝕刻速率反而有所降低。蘇州博洋化學股份有限公司歡迎新老朋友咨詢。

    酸性蝕刻液是什么？對于蝕刻液用法的理解,我們可以用個比較通俗的說法，那就是使用具有腐蝕性的一些化學材料對某種物品進行腐蝕，將不需要的部分腐蝕掉，從而將其雕刻成所需要的目標物品的過程。那這個具有腐蝕性的化學材料，就稱為蝕刻液了。那專業的蝕刻液解釋又是什么呢？蝕刻液是通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體，是一種銅版畫雕刻用原料。從理論上講，凡能氧化鋼而生成可溶性銅鹽的試劑，都可以用來蝕刻敷銅箔板，但是蝕刻液用途要權衡對抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度，溶液再生及銅的回收、環境保護及經濟效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機理是：，；酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩定狀態下能達到高的蝕刻質量的特性；同時，它的溶銅量大；酸性蝕刻液也較容易再生與回收，從而減少污染。有研究表明，酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常為3，以硝酸為基礎的蝕刻系統可以做到幾乎沒有側蝕，達到蝕刻的線條側壁接近垂直，其蝕刻效果非常好。結合以上特性，酸性蝕刻液一般用于多層印制板的內層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作。蘇州博洋化學股份有限公司，蝕刻液專業生產商。湖南BOE蝕刻液產品介紹

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    微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發設計了不同的循環再生設備。無論是過硫酸鈉/硫酸體系還是雙氧水/硫酸體系,我司設備均可把飽和微蝕液處理再生后，返回客戶生產線繼續使用，回用時，不改變客戶原生產工藝參數；在運行我們公司設備時可不停機亦可更換藥水，從而達到穩定生產的目的。這兩種體系再生設備設備不僅可以節省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本，且可以電解出金屬銅。二、蝕刻液再生循環系統在電子線路版（PCB）蝕刻過程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達到的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續蝕刻液中上述各種成份的濃度水平，蝕刻用過后的（以下稱[用后蝕刻液]）溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補充劑及氨水，補償因運作時被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液，既可達到蝕刻工藝的要求。浙江了解BOE蝕刻液產品介紹

蘇州博洋化學股份有限公司成立于1999年，公司座落于蘇州市高新區化工工業園，是一家集研發、生產、銷售為一體的大型精細化工企業，主要為先進半導體封裝測試、TFT、FPD平板顯示、LED、晶體硅太陽能、PCB等行業提供專業的化學品解決方案。努力構建面向未來的創新型和學習型企業。博洋股份于2015年11月在全國中小企業股份轉讓系統成功掛牌。（證券代碼：834329）擁有先進的理化分析、應用測試儀器以及一支以本科、碩士、博士為主的多層次研發團隊，致力于超凈高純、功能性微電子化學品的研究開發;并根據客戶的個性化需求量身定制整套化學品解決方案，力求持續的為客戶創造價值。博洋除擁有完善的自主研發能力外，與華東理工大學共同建立省級研究生工作站;長期保持與蘇州大學、中科院蘇州納米技術與納米仿生研究所的合作關系，以輔助新產品的開發測試。對新技術、新工藝的研究精益求精，立志成為微電子材料領域個性化解決方案的***