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育時間。2.0系統。建議使用5倍濃度的二抗，持續10分鐘。抗體回收1.執行《通用議定書》的步驟1至5，但將真空時間增加到2分鐘，以確保所有的封閉溶液都已從框架的凹槽和通道中移除。2.從底座上取下印跡固定框架，并用一根刷子擦拭框架底部的所有殘留液體。紙巾。3.將抗體收集盤放入底座，確保抗體上的定位孔收集盤與底座中的定位銷對齊。注意：對于Mini和Midi框架，將單個清潔托盤放置在底座的**。對于多印跡如圖所示，在框架上放置兩個收集托盤。在MultiBlot框架中運行單點印跡時，買MerckWB實驗加速器哪家專業？

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