四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。
四氟化碳一般認為是惰性低毒物質，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯化碳。四氟化碳是目前微電子工業中用量的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。上海市節能四氟化碳推薦企業
運輸成本方面，以林德集團為例，作為全球工業氣體**，林德在國內的空分裝置點有11 個，相比較之下，特種氣體工廠* 2 個。考慮到林德集團在國內的特種氣體工廠較少，因此大量的特種氣體需從海外運輸，而從歐洲、美國運至國內耗時約 30 天，運輸費用預計不低于國內的長途運輸，運輸成本將更高。隨著國內半導體晶圓廠從華東、華較高的運輸和現場維護成本造就本地化配套優勢。多品少量是電子特氣的特點，因此相比現場制氣的空分氣體，采用零售方式進體銷售更為普遍，但零售氣體對于國外企業來講，需要付出更高的運輸和維護成本。上海節能四氟化碳銷售價格四氟化碳是現階段電子光學制造業中使用量較大的低溫等離子蝕刻工藝汽體。
四氟化碳和氧氣瓶在高溫下不反映，四氟化碳是現階段電子光學制造業中使用量較大的低溫等離子蝕刻工藝汽體，其高純度氣及四氟化碳高純度氣配高純氧氣的混合體，可市場應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢塑料薄膜原材料的蝕刻工藝。針對硅和二氧化硅管理體系，選用CF4-H2反映正離子刻蝕時，根據調整二種汽體的占比，能夠得到45：1的可選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅塑料薄膜時很有效。不良影響簡述危險因素類型：GB2.2類不燃氣體入侵方式：吸進身心健康傷害：吸進高濃的四氟化碳出現呼吸不暢、嘔吐等室息病癥。
工業上把常溫常壓下呈氣態的產品統稱為工業氣體產品，工業氣體是現代工業的基礎原材料，在國民經濟中有著重要的地位和作用。根據制備方式和應用領域的不同，可分為大宗氣體和特種氣體，大宗氣體主要包括氧、氮、氬等空分氣體及乙炔、二氧化碳等合成氣體，對氣體純度要求并不高，主要用于冶金、石化、煤化工、鋼鐵，而特種氣體品種較多，主要包括高純氣體、混合氣體等，主要用于電子、光伏、醫療等新興領域，制作半導體所用的電子氣體就屬于特種氣體。
與可燃性氣體一起燃燒時，發生分解，產生的氧化物。
半導體電子特氣行業具有較高的技術壁壘。半導體電子特種氣體在生產過程中涉及合成、純化、混合氣配制、充裝、分析檢測、氣瓶處理等多項工藝技術，每一步均有嚴格的技術參數要求和質量控制措施。為了保證半導體器件的質量與成品率，特種氣體產品要同時滿足“超純”和“超凈”的要求，“超純”要求氣體純度達到 4.5N、5N 甚至 6N、7N（N 是 Nine 的簡寫，幾個 N 就有幾個 9“超凈”即要求嚴格控制粒子與金屬雜質的含量。作為特種氣體的參數，純度每提升一個 N，粒子、金屬雜質含量濃度每降低一個數量級，都將帶來工藝復雜度和難度的提升。 .由碳與氟反應，或一氧化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應。無錫優良四氟化碳廠家價格
供氟速率和反應爐冷卻控制反應溫度。上海市節能四氟化碳推薦企業
四氟化碳是目前微電子工業中用量比較大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，鋁合金門窗制造、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態，印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。同時，由于四氟化碳的化學穩定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。上海市節能四氟化碳推薦企業