多光斑光斑分析儀光斑測試

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質量檢測解決方案，涵蓋掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產品線： 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，支持 190-2700nm 寬光譜范圍，可測量 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率實現亞微米級光斑細節捕捉。創新狹縫物理衰減機制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光，適用于激光加工等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實時成像與動態分析，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨特的六濾光片轉輪設計實現功率范圍擴展，可拆卸結構支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產品，通過 ISO 11146 標準算法測量光束傳播參數（M2 因子、發散角、束腰位置等），結合 BeamHere 軟件實現一鍵生成報告、多參數同步分析。系統以模塊化設計滿足光通信、醫療、工業等領域的光斑檢測需求，兼顧實驗室與產線在線監測場景。可用于產線檢測的光斑分析儀。多光斑光斑分析儀光斑測試

Dimension-Labs 維度光電相機式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實現可見光與近紅外波段光斑的實時檢測。其優勢包括： 動態分析能力 支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態顯示，高幀率（100fps）連續測量模式可捕捉光斑瞬態變化，3D 視圖支持任意角度旋轉分析，為光學系統調試提供直觀數據支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器技術，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復雜光斑，突破傳統掃描式設備的局限性。 功率調節 標配 6 片不同衰減率的濾光片（0.1%-100%），通過轉輪結構實現一鍵切換，可測功率達 10W/cm2，滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求。 科研級擴展性 采用模塊化設計，相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件，支持科研成像、光譜分析等擴展應用，實現工業檢測與實驗室的一機多用。狹縫光斑分析儀性能國產的 M2 因子測量模塊哪家強？

全系列產品矩陣與智能分析系統 Dimension-Labs BeamHere 系列產品通過全光譜覆蓋與模塊化設計，構建起完整的光束質量測量生態系統： 1. 全場景產品體系 光譜覆蓋：190-2700nm 超寬響應范圍，滿足紫外到遠紅外波段的測試需求 技術方案： 掃描狹縫式：支持 2.5μm-10mm 光斑檢測，0.1μm 超高分辨率，可測近 10W 高功率激光，適合半導體加工、高功率焊接等場景 相機式：400-1700nm 實時成像，5.5μm 像元精度，標配 6 片濾光片轉輪實現 1μW-1W 寬功率測量，擅長復雜光斑分析與脈沖激光檢測 結構創新：掃描狹縫式采用 ±90° 轉筒調節與可調光闌設計，相機式支持濾光片轉輪與相機分離，拓展科研成像功能 2. M2 因子測試模塊 兼容全系產品，基于 ISO 11146 標準算法實現光束質量參數測量 可獲取： 光束發散角（mrad） 束腰位置（mm） M2 因子（無量綱） 瑞利長度（mm） 支持光束傳播方向上的全鏈路分析，為激光系統設計提供數據

維度光電BeamHere 光斑分析儀通過三大價值賦能激光應用： 效率提升：全自動化檢測流程（10 秒完成參數采集 + 1 分鐘生成報告），幫助企業將光束調試周期縮短 80% 成本優化：雙技術方案覆蓋全尺寸光斑，避免多設備購置，典型客戶設備采購成本降** 65% 質量升級：0.1μm 超高分辨率與 M2 因子分析，助力醫療激光設備能量均勻性提升至行業 ±1.2% 典型應用場景： 工業：激光切割光束實時校準，減少 25% 的材料損耗 醫療：眼科激光手術光斑能量監測，保障臨床安全性 科研：超快激光脈沖特性，推動新型激光器多光斑光束質量測量系統。

BeamHere 分析軟件作為組件，支持多設備協同工作：掃描數據自動校準、光斑模式智能識別、M2 因子三維重建。通過機器學習算法，可自動補償環境光干擾與溫度漂移。通過可視化界面，用戶可實時查看光斑能量分布云圖、發散角變化曲線及束腰位置動態圖，支持多參數聯動分析。軟件內置模板庫，一鍵生成包含 20 + 參數的標準化報告，支持 PDF/Excel/XML 多格式導出，并支持數據追溯與批量處理，歷史數據可自動關聯測試條件，縮短測試周期。企業版支持用戶權限分級管理與數據加密。有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測量模塊產品？Dimension-labs光斑分析儀系統搭建

如何評判激光質量的好壞？多光斑光斑分析儀光斑測試

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案，致力于為激光技術應用提供 "一站式" 質量管控工具。產品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜，融合掃描狹縫式（2.5μm-10mm 光斑）與相機式（400-1700nm 成像）兩大技術平臺，形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態監測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認證的 M2 因子測試模塊，結合 AI 算法，實現光束質量的量化評估與預測。模塊化設計支持設備功能動態擴展，適配激光加工、醫療、科研等多場景需求，助力客戶構建智能化光束檢測體系。多光斑光斑分析儀光斑測試