Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量,配合可疊加的單次(DL-LBA-1)與雙次(DL-LBA-2)取樣配件形成多級衰減方案,衰減達(dá) 10??,可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設(shè)計的 68mm(單次)和 53mm(雙次)取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題,緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,通過 CE/FCC 認(rèn)證,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工(熱影響區(qū)≤30μm)、科研超快激光(皮秒脈沖分析)及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)(能量均勻性誤差<2%),幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量?高精度光束質(zhì)量檢測儀
Dimension-Labs 推出的相機式光斑分析儀系列包含兩個型號,覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優(yōu)勢如下: 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下,可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計簡化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計,光斑分析相機與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機多用。光斑位置光斑分析儀怎么用國產(chǎn)光斑分析儀哪個好?維度光電光斑分析儀全系列。
光斑分析儀通過光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號,結(jié)合算法分析實現(xiàn)光束質(zhì)量評估。其傳感器采用量子阱材料設(shè)計,響應(yīng)速度達(dá) 0.1μs,可捕捉皮秒級激光脈沖。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線:掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描,實現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量,配合動態(tài)增益補償技術(shù),在千萬級功率下仍保持線性響應(yīng);相機式則利用面陣傳感器實時成像,支持 200-2600nm 全光譜覆蓋,像素分辨率達(dá) 1280×1024,動態(tài)范圍達(dá) 60dB。全系標(biāo)配 M2 因子測試模塊,結(jié)合 BeamHere 軟件,可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù),并通過高斯擬合算法將測量誤差控制在 ±0.8% 以內(nèi),終生成符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的測試報告。
維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價比解決方案: 掃描狹縫式:國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,覆蓋 190-2700nm 光譜,可測 2.5μm-10mm 光束,0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量,無需外置衰減片。 相機式:400-1700nm 寬譜響應(yīng),支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計擴(kuò)展功率量程,可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊:通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法,測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù),適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報告,滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計實現(xiàn)高精度檢測,助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。激光發(fā)散角怎么測,維度光電M2測量系統(tǒng)。
光斑分析儀通過檢測光斑形態(tài)、尺寸及能量分布評估光束質(zhì)量,由光學(xué)傳感器與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)構(gòu)成。Dimension-Labs 推出兩大系列產(chǎn)品:掃描狹縫式覆蓋 200-2600nm 寬光譜,支持 2.5μm 至 10mm 光斑測量,可測千萬級功率;相機式則通過高靈敏度傳感器實現(xiàn)實時成像。全系產(chǎn)品集成 M2 因子測試模塊與分析軟件,提供光斑橢圓率、發(fā)散角等 20+ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù),覆蓋光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。光斑分析儀都有哪些類型?近場光斑光斑分析儀軟件
光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測量模塊;高精度光束質(zhì)量檢測儀
維度光電深刻認(rèn)識到高功率光束檢測在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測成為激光應(yīng)用的難點。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制,可直接測量近 10W 高功率激光,保障了測試過程的安全與高效。為應(yīng)對更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒灜h(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實現(xiàn)更高功率激光測量。同時,其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計的取樣光程滿足聚焦光斑測量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強大的檢測支持。高精度光束質(zhì)量檢測儀
維度光電:一站式光電服務(wù)平臺Dimension-labs隸屬深圳市維度科技有限公司,以助推突破技術(shù)壁壘、打破國外壟斷、加速國產(chǎn)化替代為使命,以構(gòu)建、培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)化升級,提升科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新及研發(fā)成本為愿景建立一站式光電產(chǎn)品服務(wù)平臺(Dimension-Labs),將互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè)深度融合,形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,為全球的高校、科研、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體提供:
1、質(zhì)量的一站式光電產(chǎn)品現(xiàn)貨、極速供應(yīng)服務(wù),產(chǎn)品涵蓋光機械、光學(xué)元件、光電檢測儀器、激光光源、光學(xué)成像鏡頭、科研相機、光束分析等;“燈塔”光電開放研究實驗室及光電數(shù)據(jù)庫,
2、提供技術(shù)攻關(guān)、技術(shù)開發(fā)、儀器共享、科技資源共享、科研交流、檢驗檢測、系統(tǒng)搭建等深度技術(shù)服務(wù);
3、立足服務(wù)平臺,連接線上線下、銜接供需兩端、對接國內(nèi)國外市場,賦能經(jīng)濟(jì)社會數(shù)字化轉(zhuǎn)型和后時代社會建設(shè);
4、助力提高科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新研發(fā)成本,助推突破技術(shù)壁壘,加速國產(chǎn)化替代,培育并構(gòu)建數(shù)字化、智能化網(wǎng)狀光電產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈。