高低溫快速試驗箱代理公司

三綜合試驗是指綜合溫度、濕度、振動三個環境應力的試驗，具有極寬大的溫濕度控制范圍，可滿足用戶的各種需要采用獨特的平衡調溫調濕方式，可獲得安全、精確的溫濕度環境。同時可在三綜合試驗箱內將電振動應力按規定的周期施加到試品上，供用戶對整機（或部件）、電器、儀器、材料等作溫濕度、振動綜合應力篩選試驗，以便考核試品的適應性或對試品的行為作出評價。下面為大家介紹一下真萍科技的溫濕度振動三綜合試驗箱特點。1.試驗室與制冷系統整體組合式結構，緊湊美觀，便于操作制冷壓縮機組及主要配件均為口。2.進口LCD彩色液晶觸摸屏，溫、濕度程序自動控制，配有RS232通訊接口3.可根據用戶要求選配不同制造商不同型號的振動臺，振動臺接口接口可有多種形式選用，保證冷、熱、汽密封的同時，振動臺具有良好的力學傳遞性。4.可根據用戶要求設計、制造不同規格。合肥真萍與您分享試驗箱發揮的重要作用。高低溫快速試驗箱代理公司

連續爐即是連續作業爐，是指連續地或間歇地裝料，工件在爐內不斷移動，完成加熱、保溫，有時包括冷卻在內全過程的熱處理爐。連續作業爐可借助某些機械結構連續地或間歇地進行裝料和出料，連續順序地通過按零件處理工藝要求的不同溫度區完成加熱過程。使用連續作業爐可提高產品質量，提高勞動生產率和改善勞動條件。下面為大家介紹一下連續爐的技術參數。1.送風方式：送風循環系統；2.溫度范圍：RT+30℃~300℃；3.溫度精度：±1℃4.溫度均勻性：±1℃5.溫控裝置：富士智能PID溫控儀，LED數字顯示，PID自動演算及定時；6.材質：內膽不銹鋼，外箱體鋼板靜電噴塑；7.傳送方式：鏈桿、鏈網、自動錕輪，相當強承重；8.復合式電加熱器；9.保護裝置：漏電保護、斷路保護、電機過載保護、接地保護、非正常運行情況下蜂鳴報警。大試驗箱聯系方式試驗箱如何發揮重要作用呢？

無氧干燥箱應用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干，電工產品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環境中干燥和老化試驗。下面為大家介紹一下真萍科技無氧干燥箱。一、技術指標與基本配置：1.使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；2.爐膛腔數:2個,上下布置；3.爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度4.溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀；二、氧含量（配氧分析儀）：1.高溫狀態氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.控溫穩定度：±1℃；2.3溫度均勻度：±2%℃（260℃平臺）；

無氧干燥箱應用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干，電工產品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環境中干燥和老化試驗。下面為大家簡單介紹一下無氧干燥箱。1.技術指標與基本配置：1.1使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；1.2爐膛腔數:2個,上下布置；1.3爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀；2.氧含量（配氧分析儀）：2.1高溫狀態氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩定度：±1℃；2.3溫度均勻度：±2%℃（260℃平臺）；試驗箱的結構如何組成？

真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜的氮氣監控系統。1.溫濕度記錄功能：1.2內建內存，可儲存溫度/濕度，收集時間1~240分鐘可自行設定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設計，有助于內部記錄追蹤并可支持數據庫檔案格式。2.濕度警報系統：2.1可設定啟動警報的濕度值及條件，內配蜂鳴器（90分貝）及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能：內建校正功能，確保顯示準確度。試驗箱如何發揮重要作用？合肥真萍告訴您。重慶大型試驗箱

試驗箱的原理是什么？合肥真萍告訴您。高低溫快速試驗箱代理公司

本篇介紹專業全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。高低溫快速試驗箱代理公司