河北熱紅外透鏡結(jié)構(gòu)

有些對(duì)菲涅爾透鏡焦屏上還刻有局部測(cè)光或點(diǎn)測(cè)光區(qū)域。早期AF單反機(jī)在光線較暗環(huán)境中對(duì)焦時(shí)，往往很難看見(jiàn)對(duì)焦框，就難以判斷相機(jī)是以哪一點(diǎn)來(lái)作為對(duì)焦點(diǎn)，新一代單反機(jī)對(duì)焦屏上的對(duì)焦點(diǎn)會(huì)發(fā)光，或者有對(duì)焦聲音提示，便于在復(fù)雜環(huán)境中確認(rèn)對(duì)焦。不同類型的對(duì)焦屏有不同的用途、拍攝人像可能用如裂像對(duì)焦屏更好，帶橫豎線或刻度的對(duì)焦屏適用于建筑物攝影和文件翻拍；中間部分沒(méi)有裂像而只有微棱的對(duì)焦屏適用于小光圈鏡頭，它不會(huì)有裂像一邊亮一邊黑的缺點(diǎn)。不少單反相機(jī)焦屏可由用戶自己更換。又稱螺紋透鏡。由于菲涅爾透鏡由有機(jī)玻璃制成,不能用任何有機(jī)溶液(如酒精等)擦拭，除塵時(shí)可先用蒸餾水或普通凈水沖洗,再用脫脂棉擦拭。菲涅爾透鏡投影儀生產(chǎn)廠家電話多少？河北熱紅外透鏡結(jié)構(gòu)

之類的其他材料包括使得它們更適用于操縱光學(xué)波振面的更高的折射率，但是這種材料對(duì)以5:1至10:1之間的更高縱橫比進(jìn)行制造提出了挑戰(zhàn)。下面的表2提供了不同材料的概況，包括它們的折射率、比較大效率的厚度、比較大散射效率、以及可見(jiàn)范圍中的光吸收。比較大散射效率是通過(guò)使用周期性透射sws作為將垂直入射的平面波偏轉(zhuǎn)到特定衍射級(jí)的模型系統(tǒng)計(jì)算得出的。從表2可以看出，諸如硅和鍺之類的材料具有極好的散射效率和高反射率。但是，這些材料還會(huì)由于它們的小帶隙而吸收可見(jiàn)范圍中的光(并且還將部分地吸收近紅外波長(zhǎng))。諸如氧化硅和氧化鋁之類的材料在可見(jiàn)范圍中幾乎是透明的，但是具有較低的散射效率，因此限制了它們作為sws材料候選的有用性。諸如氮化硅和氧化鈦之類的材料提供了散射效率和低光吸收率的良好混合。根據(jù)實(shí)施例，在實(shí)現(xiàn)對(duì)于**造成本至關(guān)重要的高制造吞吐量的同時(shí)，制造在可見(jiàn)和/或紅外范圍中將高光約束和低光吸收結(jié)合在一起的新型sws設(shè)計(jì)(這里稱為“元原子(metaatom)”)。圖8示出了根據(jù)實(shí)施例的具有圓柱形狀的示例元原子800，其中，芯材804被薄殼材806圍繞。元原子800被制造在vcsel結(jié)構(gòu)的頂層802上。頂層802可以是vcsel結(jié)構(gòu)的發(fā)出光的任意層。廣東遠(yuǎn)紅外透鏡銷售菲涅爾透鏡聚光原理技術(shù)指導(dǎo)。

亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)包括用作諧振光學(xué)天線的比光波長(zhǎng)更小的表面結(jié)構(gòu)的密集布置。光表面結(jié)構(gòu)交互的諧振性質(zhì)提供了操縱光學(xué)波振面的能力。根據(jù)另一實(shí)施例，激光源包括襯底、vcsel結(jié)構(gòu)、以及多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。vcsel結(jié)構(gòu)被布置在襯底的表面上，并且在襯底的表面上方延伸。多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)被布置在vcsel結(jié)構(gòu)的頂層。多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)或多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)包括芯材和放置在芯材的一個(gè)或多個(gè)表面上的殼材。注意，如根據(jù)本公開(kāi)將明白的，亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)可以結(jié)合本文中根據(jù)一些實(shí)施例提供的vcsel結(jié)構(gòu)或者根據(jù)其他實(shí)施例的任何其他vcsel結(jié)構(gòu)使用。vcsel陣列架構(gòu)圖1示出了根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施例的用于創(chuàng)建物體104的3d圖像的示例光投影儀系統(tǒng)102。物體104可以是放置在與光投影儀系統(tǒng)102相距給定距離處的任意尺寸或形狀的物體。光投影儀系統(tǒng)102被設(shè)計(jì)為向物體104發(fā)射輻射106并接收反射輻射108，以生成物體104的3d圖像或模型。將參考圖2進(jìn)一步詳細(xì)論述光投影儀系統(tǒng)102的示例組件。發(fā)射的輻射106在物體104的一個(gè)或多個(gè)表面上形成光圖案110。光圖案110可以是網(wǎng)格(如圖1所示)或者可以具有任何其他預(yù)定圖案。來(lái)自光圖案110的反射輻射108被用來(lái)確定橫跨物體104的各個(gè)點(diǎn)的深度。

圖10示出了根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施例的使用亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的元分子的示例。圖11是示出根據(jù)本文公開(kāi)的某些實(shí)施例的從用在光投影儀系統(tǒng)中的光源發(fā)射輻射的方法的流程圖。盡管將參考說(shuō)明性實(shí)施例繼續(xù)下面的詳細(xì)描述，但是根據(jù)本公開(kāi)，很多替代、修改、和變形將是明顯的。具體實(shí)施方式用在結(jié)構(gòu)化光投影儀中的激光源包括襯底、襯底上的一個(gè)或多個(gè)***vcsel、以及襯底上的一個(gè)或多個(gè)第二vcsel。一個(gè)或多個(gè)***vcsel各自具有***孔徑寬度并且各自單獨(dú)地在襯底的表面上延伸。一個(gè)或多個(gè)第二vcsel各自具有不同于***孔徑寬度的第二孔徑寬度并且各自單獨(dú)地在襯底的表面上延伸。根據(jù)一些實(shí)施例，可以使用光刻技術(shù)對(duì)***vcsel和第二vcsel進(jìn)行圖案化。使用具有不同孔徑寬度的vcsel的陣列提供了具有不同波長(zhǎng)的發(fā)射輻射，從而提供了不同的斑點(diǎn)圖案。當(dāng)在檢測(cè)器上被接收時(shí)不同的斑點(diǎn)圖案被平均，此時(shí)斑點(diǎn)噪聲減小。vcsel還可以包括多個(gè)亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)以操控光輸出。這種亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)還可以用在包括標(biāo)準(zhǔn)vcsel在內(nèi)的其他vcsel的表面上。在任意這些情況中，激光源可以與圖像傳感器結(jié)合在一起，以提供光投影儀系統(tǒng)。總體概述如上所述，仍然有與結(jié)構(gòu)化光照明(sli)相關(guān)聯(lián)的很多未解決的問(wèn)題。更具體地。負(fù)菲涅爾透鏡生產(chǎn)廠家電話多少？

圖3示出了根據(jù)實(shí)施例的光源202或者光源202的至少一部分的自頂向下的視圖。光源202包括襯底302，該襯底具有布置在襯底302的表面上的多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)304。在一些實(shí)施例中，襯底302可以是：包括第iv族半導(dǎo)體材料(例如，si、ge、sige)、第iii-v族半導(dǎo)體材料(例如，gaas、gaassb、gaasin)、和/或根據(jù)本公開(kāi)將明白的任何一種或多種其他適當(dāng)材料的大塊襯底；絕緣體上的x(xoi)結(jié)構(gòu)，其中，x是前述材料(例如，第iv和/或iii-v族半導(dǎo)體材料)之一，絕緣體材料是氧化物材料或介電材料或者一些其他電絕緣材料，從而xoi結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)半導(dǎo)體層之間的電絕緣材料層；或者一些其他適當(dāng)?shù)亩鄬咏Y(jié)構(gòu)，其中，頂層包括前述半導(dǎo)體材料(例如，第iv和/或iii-v族半導(dǎo)體材料)之一。這里使用的“第iv族半導(dǎo)體材料”(或“第iv族材料”或統(tǒng)稱“iv”)在包括至少一種第iv族元素(例如，硅、鍺、碳、錫)，例如，硅(si)、鍺(ge)、硅鍺(sige)等。這里使用的“第iii-v族半導(dǎo)體材料”(或“第iii-v族材料”或統(tǒng)稱“ii-v”)包括至少一種第iii族元素(例如，鋁、鎵、銦)和至少一種第v族元素(例如，氮、磷、砷、銻、鉍)，例如，砷化鎵(gaas)、砷化鎵銦(ingaas)、砷化鋁銦(inalas)、磷化鎵(gap)、銻化鎵(gasb)、磷化銦。菲涅爾透鏡光學(xué)助降系統(tǒng)怎么樣？陜西制造紅外透鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

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并且可以被用來(lái)重建物體104的3d表示。發(fā)射的輻射106和接收的輻射108可以是具有在大約400nm到大約700nm的范圍中的波長(zhǎng)的可見(jiàn)光。在另一示例中，發(fā)射的輻射106和接收的輻射108包括具有在大約700nm到大約1400nm的范圍中的波長(zhǎng)的近紅外輻射。在一個(gè)示例中，發(fā)射的輻射106和接收的輻射108均包括在大約935nm到大約945nm范圍中的波長(zhǎng)。圖2示出了根據(jù)實(shí)施例的光投影儀系統(tǒng)102的各種組件。光投影儀系統(tǒng)102包括光源202、透鏡204、檢測(cè)器206、深度確定電路208、源驅(qū)動(dòng)器電路210、以及處理器212。光源202可以被設(shè)計(jì)為生成輻射106并向物體發(fā)射輻射106。光源202可以是用于生成輻射106的包括一個(gè)或多個(gè)激光二極管或激光腔的激光源。根據(jù)實(shí)施例，激光源202包括用于生成輻射106的多個(gè)vcsel。多個(gè)vcsel可以被布置在諸如硅或其他半導(dǎo)體襯底之類的襯底上，如將參考圖3更詳細(xì)地描述的。透鏡204可以表示用于收集接收輻射108并且向檢測(cè)器206引導(dǎo)接收的輻射的任意數(shù)目的透鏡元件，如根據(jù)本公開(kāi)將明白的。檢測(cè)器206接收輻射108，并且將接收的輻射轉(zhuǎn)換為發(fā)送給深度確定電路208的電信號(hào)。檢測(cè)器206可以是電荷耦合裝置(ccd)或者可以使用互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(cmos)陣列來(lái)收集輻射。河北熱紅外透鏡結(jié)構(gòu)

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