考慮透鏡的參數主要有：光通量、不同透鏡同心度、厚度不均勻性、透鏡光軸與外形同心度、透過率、焦距誤差等。菲涅爾透鏡窄帶（視窗）的設計一般都是不均勻的，自上而下分為幾排，上面較多、下邊較少，一般中間密集、兩側疏。因為人臉部、膝部、手臂紅外輻射較強，正好對著上邊的透鏡；下邊較少，一是因為人體下部紅外輻射較弱，二是為防止地面小動物紅外輻射干擾。材質一般用有機玻璃。另一個典型例子是相機的對焦屏。現在的相機對焦屏都是磨砂毛玻璃菲涅爾透鏡，其優點是明亮和亮度均勻。對焦不準時，在對焦屏上的成像是不清晰的。為了配合更精確地對焦，一般在對焦屏ZY裝有裂像和微棱環裝置。當對焦不準時，被攝體在對焦屏ZY的像是分裂成兩個圖像，當兩個分裂的圖像合二為一時，表明對焦準確了。AF單反機的標準對焦屏一般不設有裂像裝置，而是刻有一個小矩形框來表示AF區域。菲涅爾透鏡組生產廠家電話多少？汕頭菲涅爾透鏡聚光原理
本實用新型涉及一種多功能聲學超材料透鏡，特別涉及一種旋轉可調的多功能二維聲學超材料透鏡。背景技術：近年來，隨著新型人工電磁材料(metamaterials)的發展，這種人造材料的有趣性質越發受到關注。類比于電磁超材料，聲學超材料也有許多自然界不存在的奇特性質，例如雙負特性(負等效密度和負彈性模量)、零折射率、負折射率、隱身、幻象等。漸變折射率(grin)材料是一種等效折射率分布隨空間變化而逐漸改變的人工超材料。聲學上根據折射率與等效密度和彈性模量之間的關系，漸變折射率材料可以通過設計人工結構予以實現。聲波進入漸變折射率材料后，其傳播路徑會隨著折射率的分布產生連續彎曲，改變傳播方向。傳統的聲學超材料是無源的，加工完成后幾何結構是固定的，其工作頻率或所實現的功能不能改變，這嚴重阻礙了聲學超材料的發展。為了克服這個約束，近年來可調聲學超材料越來越引起人們的關注。然而，絕大多數目前所報道的可調聲學超材料都是通過調控聲波的幅度切換帶隙，有些調控機制不是實時的并且結構復雜。因此，設計一種結構簡單、實時可調的多功能聲學超材料成為當前首要解決的問題。標準菲涅爾透鏡哪里好平面菲涅爾透鏡材料模板有哪些？
將其波陣面形成為期望的形式。當諸如柱體或圓柱之類的中心對稱亞波長特征被用作散射器時，sws設備可以利用非偏振光(像來自vcsel一樣)進行操作。圖7示出了具有襯底302的示例光源，其中，該襯底302具有多個vcsel結構702。根據實施例，多個sws704被圖案化在一個或多個vcsel結構702的上表面上或其附近。提供sws704以改變從給定vcsel結構702的上表面發射的光的相位。可以橫跨vcsel結構702的表面不同地改變相位，以使得一些區域創建發射光的相長干涉同時其他區域創建發射光的相消干涉。通過控制相長/相消干涉的區域所在的位置，還可以控制發射光的波束形狀(例如，圖案)。可以例外地使用高折射率材料(>)來形成sws704。例如，用于波束成形的sws已經被開發用于使用諸如硅之類的高折射率材料的近紅外光。下面的表1提供了不同可見光波長(460nm-藍、550nm-綠、以及650nm-紅)下的各種材料的折射率。諸如硅之類的材料可以具有高折射率，但是這些材料還可以吸收可見范圍(例如，紅、綠、藍)中的不期望的大百分比的入射光(例如，40％或更多)。一直認為可見波長透明材料(例如，折射率大約為(si3n4))不具有足夠高的折射率來支持有效地操縱光學波振面所需要的光學諧振。諸如氧化鈦。
本申請大體涉及成像領域，具體地涉及高計算效率的結構化光成像系統。背景技術：創建3d圖像的一種途徑被稱為結構化光照明(sli)技術。在sli技術中，光圖案被投射到3d物體表面上。sli系統包括相機和投影儀(照明器)。3d物體被放置在與投影儀和相機相距預定距離的參考平面上。在使用中，投影儀將結構化光圖案投射到3d物體表面上。結構化光圖案可以是一系列條紋線或網格或任何其他圖案。當結構化光圖案被投射到3d物體表面上時，其被3d物體表面扭曲。相機捕捉在結構化光圖案中具有的扭曲的3d物體表面的圖像。然后，圖像被存儲在圖像文件中，以供圖像處理設備處理。在一些情況下，多個結構化光圖案被投影儀(照明器)投射到3d物體表面上，并且具有結構化光圖案的3d物體的多個圖像被相機捕捉。在圖像文件的處理期間，對結構化光圖案中的扭曲進行分析，并且執行計算以確定3d物體表面上的各個點相對于參考表面的參考測量結果。這種圖像處理使用標準測距或三角測量方法。相機和投影圖案之間的三角測量角導致與表面的深度直接相關的扭曲。一旦這些測距技術被用來確定3d物體表面上的多個點的位置，則3d物體的3d數據表示即可被創建。3d物體的數字再造在包括圖像識別(例如。菲涅爾透鏡燈塔哪里有賣的？
來自具有不同波長的兩個波束的斑點圖案變得不相關。這意味著應該設計各種vcsel的孔徑寬度以使得vcsel之間的發射波長差由下式給出：δλ≥λ2/2z(1)其中，z是物體的照明表面的表面剖面高度變化。對于940nm的示例峰值發射波長和z＝，波長差應≥。圖5是示出根據實施例的具有不同孔徑寬度的兩個不同vcsel陣列的激光光譜的圖表。頂部的光譜是從***vcsel陣列測得的，其中每個vcsel結構具有4μm的孔徑寬度。底部的光譜是從第二vcsel陣列測得的，其中每個vcsel結構具有2μm的孔徑寬度。從光譜可以看出，具有較大孔徑大小的***vcsel陣列包括兩種橫向激光模式和具有973nm左右的峰值波長的主導模式。與之對照，第二vcsel陣列*包括其峰值波長在972nm左右的單個激光模式。通過改變孔徑大小，可以改變橫向激光模式的數目和發射的峰值波長，從而產生不同的斑點圖案。圖6示出了根據實施例的具有襯底302的光源的另一示例，其中，該襯底包括具有不同孔徑寬度的vcsel結構的各種區域。襯底302包括具有***孔徑寬度(d1)的多個vcsel的***區域602、具有第二孔徑寬度(d2)的多個vcsel的第二區域604、具有第三孔徑寬度(d3)的多個vcsel的第三區域606、以及具有第四孔徑寬度。菲涅爾透鏡的設計技術指導。梅州菲涅爾透鏡的材料
什么是菲涅爾透鏡包括哪些構件？汕頭菲涅爾透鏡聚光原理
集成電路(ic)、**集成電路(asic)、片上系統(soc)、桌面型計算機、膝上型計算機、平板計算機、服務器、智能電話等。其他實施例可以被實現為由可編程控制設備執行的軟件。如本文描述的，各種實施例可以使用硬件元件、軟件元件、或它們的任意組合實現。硬件元件的示例可以包括處理器、微處理器、電路、電路元件(例如，晶體管、電阻器、電容器、電感器等)、集成電路、**集成電路(asic)、可編程邏輯器件(pld)、數字信號處理器(dsp)、現場可編程門陣列(fpga)、邏輯門、寄存器、半導體器件、芯片、微芯片、芯片集等。本文提出了很多具體細節，以提供對實施例的透徹理解。但是，將明白的是，可以在沒有這些具體細節的條件下實施實施例。另外，盡管以特定于結構特征和/或方法動作的語言描述了主題，但是將理解的是，所附權利要求中限定的主題不一定局限于本文描述的具體特征或動作。相反，本文描述的具體特征和動作被作為實現權利要求的示例形式公開。另外的示例實施例下面的示例涉及另外的實施例，根據這些實施例多種排列和配置將是明顯的。示例1是一種激光源。該激光源包括襯底、一個或多個***vscel結構、以及一個或多個第二vcsel結構。一個或多個***vcsel結構在襯底的表面上。汕頭菲涅爾透鏡聚光原理
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