德國高精度Nanoscribe微光學

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。Nanoscribe技術在微納加工、生物醫學和光學領域有廣泛應用。德國高精度Nanoscribe微光學

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭  海南進口Nanoscribe技術Nanoscribe秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景，已然成為微納米生產領域的領導企業。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數的特性，這些特性對于3D微納加工創新微光學元件設計尤為重要，尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統的情況下。由于在紅外區域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優先，同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創新微光學設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用，例如光電應用中，他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。德國Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統- Photonic Professional GT2 (PPGT2)。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。更多有關3D微納加工的咨詢。廣東TPPNanoscribe無掩膜激光直寫

Nanoscribe的2PP技術可用于構造包含不同規模結構的聚合物母版。德國高精度Nanoscribe微光學

**是全世界一個主要死亡原因，2020年有近1000萬人死于**[1]。而其中膠質母細胞瘤是一種極具破壞性的腦**，其*細胞增殖非常快且具有**性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細胞，研究人員正在研究使用質子放射***，該***手段已被證明在不同**類型中比x射線放射***更有效和微創的技術。然而，質子放射***的成本很高，這使得在動物和人類身上進行的試驗也變得非常昂貴，幾乎無法進行。質子放射***的高成本也導致缺乏從細胞水平了解質子對膠質母細胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評估*細胞對藥物和輻射的反應提供了一個平臺。然而，由于無法模擬體內自然發生的3D環境，傳統2D單層細胞培養存在很大局限性。為了尋找更真實的模擬環境，代爾夫特理工大學（DelftUniversityofTechnology）的科學家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統制作了3D工程細胞微環境，并且***次在質子束放射實驗中研究了所培養的膠質母細胞瘤細胞3D打印支架，以探究其對輻射的反應。令人印象深刻的是，該實驗結果顯示，與2D單層細胞相比，3D工程細胞培養中的DNA損傷得到了***降低。德國高精度Nanoscribe微光學