北京雙光子3D打印

來源: 發布時間:2024-11-15

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe供應高精度微納3D打印系統系列產品。北京雙光子3D打印

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工業級3D打印技術正以驚人的速度改變著制造業的面貌。作為一種創新的制造方式,它不僅能夠提高生產效率,降低成本,還能夠實現個性化定制和快速原型制作。本文將為您介紹工業級3D打印的優勢以及其在不同行業的應用。工業級3D打印技術的優勢主要體現在以下幾個方面。首先,它能夠實現復雜結構的制造。相比傳統的制造方式,3D打印可以通過逐層堆積材料的方式,打印出任意形狀的產品,無論是內部結構還是外部形態,都能夠實現精確控制。其次,3D打印可以實現個性化定制。傳統制造方式需要大規模生產,而3D打印可以根據客戶需求,快速制造出符合個性化要求的產品。此外,3D打印還能夠實現快速原型制作,縮短了產品開發周期。湖北進口3D打印微納光刻想要了解微納3D打印技術信息,敬請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,可以輕松實現球形,非球形,自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,并具備出色的光學質量表面和形狀精度。歡迎咨詢。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。基于微納尺度的3D打印技術,可定制設計光學性能優異、超高精度、超薄尺度的透鏡。

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3D打印技術的主要優勢在于其高度靈活性和自由度。北京雙光子3D打印

為了進一步提升技術先進性,科研人員又在新材料研發的過程中發現了巨大的潛力。一方面,利用SCRIBE新技術的情況下,高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結構的光學性能的調節度。另一方面,低自發熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發熒光的IP-Visio已經為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。北京雙光子3D打印

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