德國Nanoscribe灰度光刻3D打印

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工。德國Nanoscribe灰度光刻3D打印

微透鏡陣列對表面質量和形貌要求比較高，因此對制備工藝提出了很嚴格的要求。科研人員提出了許多方法來實現具有高表面質量的微透鏡陣列的高效制備，比如針對柔性材料的熱壓印成型方法實現了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉印方法在柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實現了微透鏡陣列；利用光刻和熱回流方式實現了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實現具有較高表面質量的微透鏡陣列，但通常需要使用復雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質通常為軟質材料，材料本身的機械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對而言，透明硬脆材料例如石英、藍寶石等由于其極高的硬度和極強的化學穩定性，在光學窗口、光學元件等方面的應用更加廣。因此，如何制備具有高表面質量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學元件成為研究人員研究的焦點。德國Nanoscribe灰度光刻3D打印Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X適用于制造微光學衍射以及折射元件。

這款灰度光刻設備還具備智能化的特點。它配備了先進的自動化控制系統，可以實現自動調節和監控，減少了人工操作的需求，提高了生產線的穩定性和可靠性。同時，設備還具備故障自診斷和遠程監控功能，及時發現和解決問題，減少了生產線的停機時間，提高了生產效率。這款設備還具備良好的適應性和可擴展性。它可以適應不同材料和工藝的加工需求，為我們的生產線提供了更大的靈活性。同時，設備還支持模塊化設計，可以根據需要進行擴展和升級，滿足我們未來的生產需求。這款全新的灰度光刻設備為我們的生產線帶來了巨大的改變。它的精度、穩定性和高效性使我們能夠更好地滿足客戶的需求，提高產品質量和生產效率。我們相信，有了這款設備的加入，我們的公司將迎來更加美好的未來。

現代光電設備在系統的復雜化與小型化得到了巨大改進。一種應用需求為使用定制的透鏡陣列來準直和投射來自線性排列的邊緣發射激光二極管以形成復合激光線。消費類相機和投影模塊中的微型光學元件通常需要多個元件才能滿足性能規格。復雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會導致高度彎曲的表面產生球面像差，從而抑制準直性能。硅灰度光刻技術可以在單個高折射率表面上實現復雜的透鏡形狀，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準和間距。多孔徑透鏡陣列設計用于沿快軸準直激光，并在慢軸上提供±3°發散角。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項，以偏置主光線角并與發散的光錐重疊以形成連續的激光線。更多灰度光刻技術，歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創作工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統。重慶高精度灰度光刻

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微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態德國Nanoscribe灰度光刻3D打印