江蘇工業級NanoscribePhotonic Professional GT

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現具有特定光子，機械，生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。 Nanoscribe的2PP技術可用于構造包含不同規模結構的聚合物母版。江蘇工業級NanoscribePhotonic Professional GT

Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用。在光子學領域，它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFB Lasers)等。在微光學領域，它可以制造微光學器件和整合型光學。在微流道技術領域，它可以應用于生醫芯片系統、物質研究開發與分析以及三維基礎結構等方面。在生命科學領域，Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面。此外，Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots，用于精確高效地將藥物送至身體的目標區域，以及制作極小的手術工具，用于顯微外科手術。

江蘇工業級NanoscribePhotonic Professional GT多組柱狀體3D復雜微結構支架是用Nanoscribe自行研發的IP-Dip光刻膠進行3D打印。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。   

Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。該系統還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個元素。這些元件可以創造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機行業中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理。 歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭       更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產品咨詢，歡迎聯系Nanoscribe中國分公司-納糯三維。湖北超高速NanoscribeMEMS

Nanoscribe的3D微納打印設備速度很快，在短時間內即可以實現在樣品上打印數百個微透鏡。江蘇工業級NanoscribePhotonic Professional GT

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現具有特定光子，機械，生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。

江蘇工業級NanoscribePhotonic Professional GT