普陀區高精度微納3D打印

來源: 發布時間:2024-08-06

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。


德國Nanoscribe的光學微納3D打印可制造各種納米級鏡片。普陀區高精度微納3D打印

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    微納3D打印技術是一種高精度、高分辨率的增材制造技術,其優勢特點主要體現在以下幾個方面:高精度和高分辨率:微納3D打印技術可以實現微米級甚至納米級的打印精度,能夠制造出非常精細的結構和零件。這種高精度和高分辨率的特性使得微納3D打印技術在制造微小零件、生物醫學器件、光學元件等領域具有廣泛應用。材料多樣性:微納3D打印技術可以使用多種材料進行打印,包括金屬、陶瓷、聚合物等。這種材料多樣性使得微納3D打印技術可以滿足不同領域對材料性能的需求。定制化能力強:微納3D打印技術可以根據用戶的需求定制設計,并實現個性化生產。這種定制化能力為設計師提供了更大的設計自由度,可以滿足各種復雜、特異的需求。無需模具:傳統的制造方法通常需要制作模具來生產零件,而微納3D打印技術可以直接將設計好的模型打印成實體,省去了制作模具的步驟,縮短了制造周期,降低了成本。復雜結構制造能力:微納3D打印技術可以制造出具有復雜內部結構的零件,這是傳統制造方法難以實現的。這種復雜結構制造能力使得微納3D打印技術在航空航天、汽車、生物醫學等領域具有廣泛應用前景。節省材料:微納3D打印技術采用增材制造的方式,只在需要的地方添加材料。 上海灰度光刻微納3D打印工藝微納3D打印,種類繁多復雜,如果需要了解更多請咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。它的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術,您可以實現亞細胞結構的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外,3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。 

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,并以1MHz調制速率動態調整激光功率。


Nanoscribe是微納米生產的和3D打印市場的帶領人物。

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Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調節范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,成像中的熒光強度和折射率高度相關,同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。  Nanoscribe的技術本質上是用一種微型激光來微納3D打印三維結構。崇明區雙光子微納3D打印工藝

Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統。普陀區高精度微納3D打印

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,并以1MHz調制速率動態調整激光功率。


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