微納光刻增材制造Quantum X

3D打印通常是采用數(shù)字技術材料打印機來實現(xiàn)的。常在模具制造、工業(yè)設計等領域被用于制造模型，后逐漸用于一些產品的直接制造，已經(jīng)有使用這種技術打印而成的零部件。該技術在珠寶、鞋類、工業(yè)設計、建筑、工程和施工（AEC）、汽車，航空航天、牙科和YL產業(yè)、教育、地理信息系統(tǒng)、土木工程、**以及其他領域都有地理信息系統(tǒng)所應用。德國Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT系列儀器是目前世界公認的打印精度Z高的微納米3D打印機。跟傳統(tǒng)的以激光立體光刻為**的高精3D打印機相比，利用雙光子微光刻原理的PhotonicProfessionalGT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出100倍的三維微納器件。 增材制造技術可以提高生產效率和降低成本。微納光刻增材制造Quantum X

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造，一直致力于開發(fā)和生產3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來進一步擴大產品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。北京超高速增材制造三維光刻3D打印(3D Printing)，又稱作增材制造，是一種用digital file (數(shù)字文件) 生成一個三維物體的過程。

增材制造（Additive Manufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數(shù)字模型文件為基礎，通過軟件與數(shù)控系統(tǒng)將金屬材料、非金屬材料以及醫(yī)用生物材料，按照擠壓、燒結、熔融、光固化、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品的制造技術。相對于傳統(tǒng)的、對原材料去除－切削、組裝的加工模式不同，是一種“自下而上”通過材料累加的制造方法，從無到有。這使得過去受到傳統(tǒng)制造方式的約束，而無法實現(xiàn)的復雜結構件制造變?yōu)榭赡堋?

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產品，在科學研究中得到了較廣的應用，并在哈佛大學納米系統(tǒng)中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯(lián)邦理工大學和慶應義塾大學使用。

增材制造可減少材料浪費和能源消耗。

 QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義 增材制造可實現(xiàn)個性化定制生產。上海工業(yè)級增材制造QX

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討增材制造技術發(fā)展趨勢和應用。微納光刻增材制造Quantum X

人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。 微納光刻增材制造Quantum X