作為微納加工和3D打印領域的帶領者,Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰,結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息,產品應用數據庫,公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示:“中文網站的發布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用
增材制造技術具有高的堅固性,穩定性,耐用性。北京雙光子Nanoscribe系統
Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業,并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如,可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造北京雙光子Nanoscribe系統快速原型制作,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現不同參數的創新3D結構的制作。
Nanoscribe稱,Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作影響增材制造技術的因素你了解嗎?歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。
科學家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(2PP) ,發明了GRIN 光學微納制造工藝。這種新的制造技術實現了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學元件。憑借這種全新的制造工藝,科學家們完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡(15?μm 直徑)。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。使用Nanoscribe技術可以制造微米級別的結構和器件。湖北微納米Nanoscribe上海
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對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰提供了答案,并為進一步改進和新的創新奠定了基礎。
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