Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義。總而言之,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性(如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)等)。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產品系列的第二臺設備,可實現(xiàn)在25 cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別,請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。湖南2GLNanoscribe微納加工系統(tǒng)
Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開,在微流控研究中,通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(RWTHUniversityofAachen)和不來梅大學(UniversityofBremen)的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架,以推動細胞培養(yǎng)和組織工程學。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就,并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中,布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案湖南高精度NanoscribePPGT2更多有關微納3D打印產品和技術咨詢,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。
Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。
全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期,實現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨有的產品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展(LASERWorldofPhotonics2019)榮獲創(chuàng)新獎。 微納機械系統(tǒng),咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。
文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。 Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。Nanoscribe的技術能夠實現(xiàn)微米級別的精確打印,為科學研究和工業(yè)應用提供了全新的可能性。四川2PPNanoscribe微機械
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作為微納加工和3D打印領域的帶領者,Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫(yī)學工程,微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰,結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息,產品應用數(shù)據(jù)庫,公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示:“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業(yè)方面的應用湖南2GLNanoscribe微納加工系統(tǒng)