天津光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

來源: 發(fā)布時間:2025-05-28

在tumor轉(zhuǎn)移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術,在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡與間質(zhì)纖維化結構,其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,tumor細胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數(shù)據(jù)高度吻合。該團隊通過軟件實時調(diào)整通道曲率和細胞外基質(zhì)密度,成功復現(xiàn)了tumor細胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化(EMT)過程,相關成果發(fā)表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺開發(fā)。亞微米級精度:0.8 μmmost小線寬,支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。天津光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

天津光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米,光刻機

在微流體領域,Polos系列光刻機通過無掩模技術實現(xiàn)了復雜3D流道結構的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞球浸潤行為,為組織工程提供了新型生物界面設計策略10。Polos設備的精度與靈活性可支持此類仿生結構的批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā)。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。上海POLOSBEAM-XL光刻機MAX層厚可達到10微米德國 SPS Polos:深耕微納加工 35 年,專注半導體與生命科學領域,全球布局 6 大技術中心,服務 500 + 科研機構。

天津光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米,光刻機

低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領域?qū)崿F(xiàn)復雜3D流道結構的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結構批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

德國 Polos 光刻機系列的一大突出優(yōu)勢,便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中,創(chuàng)新的設計理念往往需要快速驗證,而 Polos 光刻機正滿足了這一需求。科研人員無需花費大量時間和成本制作掩模,只需將設計圖案導入系統(tǒng),就能迅速開始光刻作業(yè)。? 在生物醫(yī)學工程領域,研究人員利用這一特性,快速制作出具有特殊結構的生物芯片,用于疾病診斷和藥物篩選。在材料科學研究中,可根據(jù)不同材料特性,定制獨特的圖案結構,探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式,remarkable縮短了科研周期,加速科研成果的產(chǎn)出,讓科研人員能夠?qū)⒏嗑ν度氲絼?chuàng)新研究中。工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新:與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,提升制造精度。

天津光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米,光刻機

某revolution生物醫(yī)學研究機構致力于開發(fā)快速、precise的疾病診斷技術。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網(wǎng)絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統(tǒng)光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發(fā)表在國際authority醫(yī)學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。光束引擎高速掃描:SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域,壓電驅(qū)動提升掃描速度。浙江POLOSBEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

光學超材料突破:光子晶體結構precise制造,賦能超透鏡與隱身技術研究。天津光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

在構建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡時,某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現(xiàn)了跨尺度結構制備。其無掩模技術在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,血管內(nèi)皮細胞貼壁率達 95%,較傳統(tǒng)光刻提升 30%。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數(shù)據(jù),芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天。該技術為藥物肝毒性測試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型,某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,相關成果登上《Lab on a Chip》封面。天津光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

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