廣東粉末冶金pvd涂層加工

離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。 采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng);同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。 PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。PVD薄膜沉積速度快、附著力強(qiáng)、衍射性能好、應(yīng)用范圍廣。廣東粉末冶金pvd涂層加工

什么是PVD鍍膜?什么是PVD鍍膜機(jī)?PVD技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是很快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。更多關(guān)于PVD鍍膜?資訊敬請(qǐng)關(guān)注深圳市臻硬納米技術(shù)有限公司！廣州模具表面pvd鍍膜優(yōu)缺點(diǎn)為什么要做 PVD 注塑成型模涂層?

PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫(xiě)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD(物理)：PVD(PhysicalVaporDeposition)，指利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過(guò)程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸發(fā)鍍鈦、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

(PVD) 是一種通過(guò)生產(chǎn)金屬基礎(chǔ)的硬質(zhì)涂層的方法，借助于與某些氣體發(fā)生反應(yīng)，并通過(guò)在基材上形成具有特定成分的薄膜來(lái)生產(chǎn)金屬基的硬質(zhì)涂層的方法。PVD涂層技術(shù)常用的方法是濺射和陰極電弧。在濺射中，蒸氣是由金屬靶受高能氣體離子轟擊形成的。陰極電弧方法使用重復(fù)的真空電弧放電來(lái)撞擊金屬目標(biāo)，使靶材蒸發(fā)。所有 PVD 涂層技術(shù)均在高真空條件下進(jìn)行。普科 PVD 鍍膜工藝用于在各種工具和部件上沉積由 Ti、Cr、Zr 和 AlCr、AlTi、TiSi 等合金的氮化物、碳化物和碳氮化物制成的涂層。應(yīng)用包括切割和成型工具、機(jī)械部件、醫(yī)療設(shè)備和受益于涂層堅(jiān)硬和裝飾特性的產(chǎn)品。PVD 涂層的工藝溫度一般在 250 至 450 °C 之間。PVD硬質(zhì)涂層還可以作為裝飾性涂層。

PVD涂層加工鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為裝飾鍍和工具鍍： ①裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤，同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕延長(zhǎng)其使用壽命，這方面主要應(yīng)用五金行業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域，如門(mén)窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。 ②工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命，這方面主要應(yīng)用在各種切削刀具（如車(chē)刀、銑刀、鉆頭、鋸片）等產(chǎn)品中。 PVD鍍膜的具體原理：離子鍍膜（PVD鍍膜）技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。 3、PVD鍍膜能夠鍍出如下的膜層種類(lèi)：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。還具有良好的耐磨性，不易磨損和刮花，能長(zhǎng)時(shí)間保持表面高質(zhì)量。南京首飾pvd

PVD是一種薄膜制備技術(shù)，可在真空條件下將材料源表面物理汽化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子。廣東粉末冶金pvd涂層加工

在涂層前處理中，采用環(huán)保型的金屬清洗劑對(duì)工件表面進(jìn)行去油和脫脂處理，烘干后工件放入真空室中進(jìn)行PVD鍍鉻處理。鍍鉻過(guò)程以高純金屬鉻為原料，通入氮?dú)夂蜌鍤獾绕垦b氣體，在沉積鉻復(fù)合涂層的設(shè)備中，采用先進(jìn)的等離子體源輔助電弧-濺射等先進(jìn)技術(shù)，通過(guò)電場(chǎng)、磁場(chǎng)、等離子體和離子束流的作用，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)了鉻復(fù)合涂層的生成。使用的原材料價(jià)廉易得，國(guó)內(nèi)可以大量供應(yīng)。在整個(gè)工藝生產(chǎn)過(guò)程中，沒(méi)有采用任何有毒有害的原料，是完全無(wú)污染的綠色環(huán)保生產(chǎn)技術(shù)。廣東粉末冶金pvd涂層加工

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