安徽CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環節。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。馳光機電科技用先進的生產工藝和規范的質量管理，打造優良的產品！安徽CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

低維護配置允許安裝分析儀在常壓下將樣品返回的合適位置，進一步減少維護需求。C-Quand在線EDXRF分析儀的優勢：1.帶有十五個測量通道，可以同時分析15種元素的含量。2.沒有運動部件，不需要更換動力窗模塊。3.運行維護成本低，無后期耗材成本。4.維護操作簡單，帶有全自動樣品池清洗模塊，每次維護時間多數十分鐘，宕機時間短。5.內置標準樣品，不需要停機校準，實現真正的完全在線測量。6.測量結果不受樣品密度和原料種類影響，直接測量元素含量。遼寧高靈敏度納米粒度分析儀價格馳光機電在行業的影響力逐年提升。

技術優勢：CPS系統優良性能的基礎是它先進的示差沉降技術。高轉速：CPS可以支持的較高轉速為24,000轉/分。對于超細顆粒，其分析速度比其它產品快倍。使用速度調節技術，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數小時或更長)的樣品，CPS可以快速得到結果。高精度標定：CPS系統使用已知的標定顆粒進行標定，與美國國家標準和技術研究院(NIST)相兼容的標準保證了分析結果的一致性和精確度。使用內標法，也即把已知標定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結果可以達到±0.25%的精度。

測量低密度顆粒：示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質液體密度的顆粒，CPS開發了一項新的技術技術(US Patent5,786,898)。很多用常規示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質體)，現在可以方便地使用CPS進行分析，而且精度很高。速度調節：CPS開發了一種特殊的圓盤設計使得在分析過程中可以調節圓盤的轉速，而不會對沉降液體產生擾動，轉速可以在20倍范圍內升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態范圍幾乎增大了20倍。不斷開發新的產品，并建立了完善的服務體系。

被測物料不溶于水，就用自來水作為試劑，以節約成本；被測物料在水中懸浮，可用乙醇將粉末濕潤后放入樣品槽；超聲分散的時間為15-60秒，測試結果一直穩定，不可再變化，說明樣粉已被充分分散。有些試樣由于強度低，超聲分散太長，有可能產生粉碎，使測試結果越來越細。有些試樣不易分散，也可加長分散時間。激光粒度儀的相關知識點就先說到這里了，這款產品還有很多的常識等著各位來發現與了解，如果您還想要了解更多內容，還請先關注好我們，華致林小編會不定期在此跟大家分享更多的信息。馳光機電是多層次的團體與管理模式。廣西粒度分析儀報價

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光電探測器陣列由一系列同心環帶組成，每個環帶是一個單獨的探測器，能將投射到上面的散射光線形地轉換成電壓，然后送給數據采集卡，該卡將電信號放大，再進行AID轉化后送入計算機。激光粒度儀依據全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質的折射率等光學性質，根據激光照射在顆粒上產生的散射光能量反演出顆粒群的粒度大小和粒度分布規律。激光粒度儀注意事項：本儀器適用于＜1mm粒度測定，＞1mm的應過篩測定；必須先開計算機電源，工作正常后，再開儀器電源，順序不能反了，否則信號送不到計算機。安徽CPS高精度納米粒度分析儀哪家好