技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破 全流程自主化能力 吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學(xué)...

吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠：半導(dǎo)體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝...

市場(chǎng)拓展 ? 短期目標(biāo)：2025年前實(shí)現(xiàn)LCD光刻膠國內(nèi)市占率10%，半導(dǎo)體負(fù)性膠進(jìn)入中芯國際、華虹供應(yīng)鏈，納米壓印膠完成臺(tái)積電驗(yàn)證。 ? 長(zhǎng)期愿景：成為全球的半導(dǎo)體材料方案提供商，2030年芯片光刻膠營(yíng)收占比超40...

應(yīng)用場(chǎng)景 半導(dǎo)體集成電路（IC）制造： ? 邏輯芯片（CPU/GPU）：在28nm以下制程中，正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細(xì)圖案化（如10nm節(jié)點(diǎn)線寬只有100nm）。 ? 存儲(chǔ)...

研發(fā)投入 ? 擁有自己實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì)，研發(fā)費(fèi)用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體、低缺陷納米壓印膠等前沿領(lǐng)域，與中山大學(xué)、華南理工大學(xué)建立產(chǎn)學(xué)研合作。 ? 專項(xiàng)布局：累計(jì)申請(qǐng)光刻膠相關(guān)的項(xiàng)目30余項(xiàng)，涵蓋樹脂合成...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)，在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細(xì)度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。...

國家大基金三期：注冊(cè)資本3440億元，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域，計(jì)劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。 地方專項(xiàng)政策：湖北省對(duì)通過驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補(bǔ)貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程...

厚板光刻膠 電路板制造：在制作對(duì)線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時(shí)，厚板光刻膠可確保線路的精細(xì)度和穩(wěn)定性，比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）...

焊片（錫基焊片）主要特性 材料與性能 ? 高純度合金：采用進(jìn)口原材料，錫基合金純度高（如Sn96.5/Ag3.0/Cu0.5等配比），雜質(zhì)含量低，確保焊接界面低缺陷、高可靠性。 ? 工藝控制：通...

國際廠商 1. Alpha Assembly Solutions（美國，日立化成子公司） ? 產(chǎn)品定位：全球比較大的焊接材料供應(yīng)商之一，焊片產(chǎn)品線覆蓋全場(chǎng)景。 ? 技術(shù)優(yōu)勢(shì)： ...

材料科學(xué)：從「單一金屬」到「智能合金」 錫片的進(jìn)化史是材料科學(xué)的縮影：從純錫的延展性利用，到Sn-Pb共晶合金的焊接，再到SAC無鉛合金的成分設(shè)計(jì)，每一次突破都源于對(duì)「原子間作用力」的深入理解，展現(xiàn)了人類從「試錯(cuò)研發(fā)」到「調(diào)控」的科技進(jìn)步。 ...

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)與認(rèn)證 ? 歐盟RoHS指令：限制鉛等6種有害物質(zhì)，無鉛錫片鉛含量需≤0.1%（質(zhì)量比）。 ? JEDEC J-STD-006B：定義無鉛焊料的成分、物理性能及測(cè)試方法，指導(dǎo)行業(yè)規(guī)范應(yīng)用。 ...

半導(dǎo)體集成電路 ? 應(yīng)用場(chǎng)景： ? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實(shí)現(xiàn)20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu)； ? 封裝工藝：負(fù)性膠用于凸點(diǎn)（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐...

耐腐蝕性的化學(xué)機(jī)制 表面氧化膜的保護(hù)作用 ? 錫（Sn）在常溫下與空氣中的氧氣反應(yīng)，生成一層致密的二氧化錫（SnO?）薄膜，該膜附著性強(qiáng)，能有效阻止氧氣和水汽進(jìn)一步滲透至金屬內(nèi)部，形成“自我保護(hù)”機(jī)制。 ...

主要優(yōu)勢(shì)與特性 環(huán)保合規(guī) ? 符合全球環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)（如歐盟RoHS、中國《電器電子產(chǎn)品有害物質(zhì)限制使用管理辦法》），從源頭杜絕鉛污染，保護(hù)人體健康與生態(tài)環(huán)境。 高性能焊接 ? 耐高溫性：在25...

納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片：在22nm以下制程中，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）。 ? 二維材料器件：在石墨烯、二...

國際廠商 1. Alpha Assembly Solutions（美國，日立化成子公司） ? 產(chǎn)品定位：全球比較大的焊接材料供應(yīng)商之一，焊片產(chǎn)品線覆蓋全場(chǎng)景。 ? 技術(shù)優(yōu)勢(shì)： ...

家庭小實(shí)驗(yàn)：錫片的「抗銹能力」 將兩片相同大小的錫片與鐵片同時(shí)浸入5%鹽水，24小時(shí)后鐵片布滿紅銹，而錫片表面只有出現(xiàn)極淺的灰白色氧化斑——這直觀展示了錫的電極電位優(yōu)勢(shì)（比鐵高0.3V），使其在電化學(xué)腐蝕中更「被動(dòng)」。 廚房小...

高壓閥門的「無火花密封」：在石油化工領(lǐng)域，錫片（純度99.9%）制成的密封墊片可承受20MPa壓力與150℃高溫，其莫氏硬度只有1.5（低于鋼鐵），在螺栓緊固時(shí)能填滿0.05mm以下的金屬表面缺陷，且摩擦?xí)r不產(chǎn)生火花（燃點(diǎn)＞500℃），杜絕易燃易爆環(huán)境中的...

國際廠商策略調(diào)整 應(yīng)用材料公司獲曝光后處理，可將光刻膠工藝效率提升40%。杜邦因反壟斷調(diào)查在中國市場(chǎng)面臨壓力，但其新一代乾膜式感光型介電質(zhì)材料（CYCLOTENE DF6000 PID）仍在推進(jìn)，試圖通過差異化技術(shù)維持優(yōu)勢(shì)。日本企業(yè)則通過技術(shù)授權(quán)（...

? 化學(xué)反應(yīng)： ? 正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在堿性顯影液中溶解； ? 負(fù)性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。 5. 顯影（Development） ...

焊點(diǎn)缺陷控制不同 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 常見缺陷 易出現(xiàn) 焊點(diǎn)空洞、裂紋、不潤(rùn)濕（因冷卻收縮率大，約2.1%），尤其在BGA等大面積焊點(diǎn)中風(fēng)險(xiǎn)高。 主要缺陷為 虛焊、短路（因操作不當(dāng)），收縮率低（1.4%），裂紋風(fēng)險(xiǎn)低。 ...

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為，吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠，助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型。面對(duì)全球環(huán)保趨勢(shì)，吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認(rèn)證，焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REAC...

主要應(yīng)用場(chǎng)景 消費(fèi)電子 ? 手機(jī)、筆記本電腦主板：焊接微型芯片（如BGA、QFP），保障信號(hào)傳輸穩(wěn)定與長(zhǎng)期使用可靠性。 ? 可穿戴設(shè)備（智能手表、耳機(jī)）：超薄錫片焊點(diǎn)適配微型化、柔性電路板，滿足...

晶圓制造（前道工藝） ? 功能：在硅片表面形成高精度電路圖形，是光刻工藝的主要材料。 ? 細(xì)分場(chǎng)景： ? 邏輯/存儲(chǔ)芯片：用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠（分辨率0.25-1μm）、14n...

上游原材料： ? 樹脂：彤程新材、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成，金屬雜質(zhì)含量<5ppb（國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb）。 ? 光引發(fā)劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑，累計(jì)形成噸級(jí)訂單；威邁芯材合肥基...

耐腐蝕性在不同場(chǎng)景中的體現(xiàn) 1. 食品與醫(yī)藥包裝領(lǐng)域 ? 抗有機(jī)酸與弱堿腐蝕： 錫對(duì)食品中的有機(jī)酸（如檸檬酸、醋酸）、弱堿及中性溶液有極強(qiáng)抗性，不會(huì)發(fā)生明顯腐蝕或溶出有害物質(zhì)。例如： ? 鍍錫鋼板（馬口...

吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠：半導(dǎo)體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝...

光伏電池（半導(dǎo)體級(jí)延伸） ? HJT/TOPCon電池：在硅片表面圖形化金屬電極，使用高靈敏度光刻膠（曝光能量≤50mJ/cm2），線寬≤20μm，降低遮光損失。 ? 鈣鈦礦電池：用于電極圖案化和層間隔離，需耐有機(jī)溶劑（適...

電子世界的「連接」 手機(jī)主板的「納米級(jí)焊點(diǎn)」：組裝一部智能手機(jī)需300-500個(gè)錫片焊點(diǎn)，直徑只有0.1mm。這些焊點(diǎn)通過回流焊工藝（240℃高溫持續(xù)30秒）將處理器、攝像頭模組與電路板熔接，經(jīng)跌落測(cè)試（1.5米摔落10次）仍保持導(dǎo)電...