涂層的分類根據涂層方法不同，涂層刀具可分為化學氣相沉積（ChemicalVapourDeposition，簡稱CVD）涂層刀具、（PhysicalVapourDepositon，簡稱PVD）涂層刀具及混合工藝及組合技術。CVD涂層原理如圖1a所示，PVD涂層原理如圖1b所示。混合工藝是等離子輔助CVD技術與傳統的PVD技術進行有效的結合。比如先沉積傳統的CrN硬質涂層，再在**上面沉積一層用于減少摩擦的DLC涂層。組合技術是涂層前對工具或零部件的表面層進行氮化，可以提高涂層的功效。深圳TiN 涂層加工服務!天津氮化鈦TIN涂層硬度涂層根據涂層刀具基體材料的不同，涂層刀具可分為硬質合金涂層刀具、...

PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，涂層成分也由初代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合涂層。[2]增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。過濾陰極弧：過濾陰極電弧(FCA)配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%，并且可以過濾掉大顆粒...