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  • 德國超高速Nanoscribe微納加工系統
    德國超高速Nanoscribe微納加工系統

    對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SE...

  • 北京NanoscribeQX
    北京NanoscribeQX

    光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數據通訊,激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。 ...

  • 湖南微納米Nanoscribe微光學
    湖南微納米Nanoscribe微光學

    Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之,該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性(如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(MEMS)...

  • 微納米Nanoscribe中國
    微納米Nanoscribe中國

    對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SE...

  • 德國高分辨率Nanoscribe無掩膜光刻
    德國高分辨率Nanoscribe無掩膜光刻

    光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數據通訊,激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。 ...

  • 浙江實驗室Nanoscribe微光學
    浙江實驗室Nanoscribe微光學

    Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用。在光子學領域,它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFB Lasers)等。在微光學領域,它可以制造微光學器件和整合型光學。在微流道技術領域,它可以應用于生醫芯片系統、物質研究開發與分析以及三維基礎結構等方面。在生命科學領域,Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面。此外,Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots,用于精確高效地將藥物送至身體的目標區域,以及制作極小的手術工具,用于顯微外科手術。 納米尺度結構制造,咨詢納糯三維科技(上海...

  • 湖南工業級Nanoscribe工藝
    湖南工業級Nanoscribe工藝

    多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業帶領機構一起開發頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創新,并可以應用在醫療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發團隊將開展多項實驗,開發工業傳感器和成像系統,這就需要復雜的研發工作,還需要開發可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。 走進N...

  • 江蘇2PPNanoscribe設備
    江蘇2PPNanoscribe設備

    IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭,包括導管鞘在內的直徑只為0.457?mm。 ...

  • 四川微納光刻Nanoscribe中國
    四川微納光刻Nanoscribe中國

    Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種...

  • 江蘇科研Nanoscribe無掩膜光刻
    江蘇科研Nanoscribe無掩膜光刻

    Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種...

  • 浙江工業級NanoscribeMEMS
    浙江工業級NanoscribeMEMS

    NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。 更多有關高精度三維光刻的咨詢,歡迎致電納糯三維...

  • 湖北科研Nanoscribe設備
    湖北科研Nanoscribe設備

    雙光子聚合(2PP)是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統Quantum X shape具有下列優異性能:首先,在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級打印;其次制作高達 50 毫米的目標結構,適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統Quantum X shape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。Quantum X shape具有先進的激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至比較好...

  • 北京工業級NanoscribeQuantum X
    北京工業級NanoscribeQuantum X

    Nanoscribe雙光子灰度光刻(2GL?)是一種用于生成2.5D拓撲的新型增材制造技術。通過這種技術,在掃描一層的情況下,可以打印離散和準確的步驟以及基本連續的拓撲,從而縮短了打印時間。2GL是無掩膜灰度光刻技術家族的新成員,其使用功率調節激光來塑造微納米結構功能器件的高度輪廓。雙光子灰度光刻(2GL?)是一項突破性的創新技術,將灰度光刻的優勢與雙光子聚合(2PP)的精度和靈活性相結合。光學元件如何對準并打印到光子芯片上?打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件,智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征,以確定芯片上波...

  • 高分辨率Nanoscribe無掩膜激光直寫
    高分辨率Nanoscribe無掩膜激光直寫

    Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用。在光子學領域,它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFB Lasers)等。在微光學領域,它可以制造微光學器件和整合型光學。在微流道技術領域,它可以應用于生醫芯片系統、物質研究開發與分析以及三維基礎結構等方面。在生命科學領域,Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面。此外,Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots,用于精確高效地將藥物送至身體的目標區域,以及制作極小的手術工具,用于顯微外科手術。 Nanoscribe的打印設備具有高度3...

  • 浙江微納米Nanoscribe三維光刻
    浙江微納米Nanoscribe三維光刻

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。 Quantum X新型超高速無...

  • 浙江Nanoscribe微納機器人
    浙江Nanoscribe微納機器人

    Nanoscribe設備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分液態光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區域上生產具有亞微米細節的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。該系統還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個元素。這些元件可以創造出比較大的形狀精度和表面光滑度,滿足智能手機...

  • 廣東德國Nanoscribe3D微納加工
    廣東德國Nanoscribe3D微納加工

    傳統3D打印難以實現對于復雜設計或曲線形狀的高分辨率3D打印,必須切片并分為大量水平和垂直層。這會明顯增加對于平滑、曲線或精細結構的打印時間。雙光子聚合技術(2PP)則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(2GL?)可實現體素調節,從而明顯減少打印層數。這是通過掃描過程中的快速激光調制來實現的。并且,這項技術已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL?,該技術具備實現出色形狀精度的優越打印品質,并將Nanoscribe的灰度技術拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現實...

  • 海南Nanoscribe中國分公司
    海南Nanoscribe中國分公司

    光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數據通訊,激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種...

  • 海南進口Nanoscribe無掩膜光刻
    海南進口Nanoscribe無掩膜光刻

    多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業帶領機構一起開發頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創新,并可以應用在醫療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發團隊將開展多項實驗,開發工業傳感器和成像系統,這就需要復雜的研發工作,還需要開發可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。 更多有...

  • 北京TPPNanoscribe三維光刻
    北京TPPNanoscribe三維光刻

    Nanoscribe雙光子光刻技術實現在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準,例如作為光子封裝的光學互連,是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現的。在nanoPrintX軟件中,您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業中,打印系統會檢測標記并將其與打印作業進行匹配,以確定光子芯片波導的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統能實現微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗,通過自由空間微光學耦合(FSMOC)實現高效的光耦合,成為光子封裝的強大解決方案。使用Nanoscribe技術可以制造微米級別的結構和器件。北京TPPNanoscri...

  • 四川進口NanoscribePPGT
    四川進口NanoscribePPGT

    對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重點部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SERS探...

  • Nanoscribe微納光刻
    Nanoscribe微納光刻

    NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。 Nanoscribe技術是一種高精度的三維打印...

  • 湖北2GLNanoscribe中國分公司
    湖北2GLNanoscribe中國分公司

    Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用。在光子學領域,它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFB Lasers)等。在微光學領域,它可以制造微光學器件和整合型光學。在微流道技術領域,它可以應用于生醫芯片系統、物質研究開發與分析以及三維基礎結構等方面。在生命科學領域,Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面。此外,Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots,用于精確高效地將藥物送至身體的目標區域,以及制作極小的手術工具,用于顯微外科手術。 Nanoscribe的技術能夠實現微米級...

  • 湖南進口NanoscribePhotonic Professional GT
    湖南進口NanoscribePhotonic Professional GT

    基于雙光子聚合(2PP)原理的雙光子灰度光刻(2GL?)是Nanoscribe技術,具備體素動態控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時,調制曝光劑量會改變光敏樹脂內的體素大小,從而實現對聚合體素尺寸的精細可控變化。這是激光功率調制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結果。為此,將灰度圖像轉換為曝光級別的空間變化,從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優勢? 雙光子灰度光刻 技術(2GL?)使用激光束調制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調節,從而實現光學質量表面結構。通過高精度定位單元和自校準程序,可在拼接相鄰打印區域時以出色準確性進行打印,以制造大型結構。2GL動態調整打印場邊...

  • 重慶微納米Nanoscribe微機械
    重慶微納米Nanoscribe微機械

    對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重點部分完全對齊,以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創新以及在醫療設備的應用和光學傳感的發展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統可能已經為在光纖上打印SERS探...

  • 雙光子聚合Nanoscribe工藝
    雙光子聚合Nanoscribe工藝

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。 走進Nanoscribe在中...

  • 湖北2PPNanoscribe微納加工系統
    湖北2PPNanoscribe微納加工系統

    Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術的打印機競爭,例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案;LithoProf3D,一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機,以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin。作為市場上的新選擇之一,QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”,可實現高精度增材制造,在其中可以比較好平衡精度和速度,以實現特別高水平的生產力和質量。Nanoscribe認為該打印機能夠產生“非常出色的輸出”,該打印機依賴于基于移動鏡技術...

  • 北京2PPNanoscribe無掩膜光刻
    北京2PPNanoscribe無掩膜光刻

    Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術的打印機競爭,例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案;LithoProf3D,一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機,以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin。作為市場上的新選擇之一,QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”,可實現高精度增材制造,在其中可以比較好平衡精度和速度,以實現特別高水平的生產力和質量。Nanoscribe認為該打印機能夠產生“非常出色的輸出”,該打印機依賴于基于移動鏡技術的振...

  • 2PPNanoscribe中國
    2PPNanoscribe中國

    Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標記,并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統的標配。更多有關3D微納加工的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國...

  • 重慶科研Nanoscribe微納加工系統
    重慶科研Nanoscribe微納加工系統

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭 Nanoscribe的3D...

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