電致變色的工作原理： 電致變色材料在外加電場作用下發生電化學氧化還原反應，得失電子，使材料的顏色發生變化電致變色器件的典型結構器件結構從上到下分別為：玻璃或透明基底材料、透明導電層（如：ITO）、電致變色層、電解質層、離子存儲層、透明導電層（如：ITO）、玻璃或透明基底材料。器件工作時，在兩個透明導電層之間加上一定的電壓，電致變色層材料在電壓作用下發生氧化還原反應，顏色發生變化；而電解質層則由特殊的導電材料組成，如包含有高氯酸鋰、高氯酸納等的溶液或固體電解質材料；離子存儲層在電致變色材料發生氧化還原反應時起到儲存相應的反離子，保持整個體系電荷平衡的作用，離子存儲層也可以為一種與前面一層電致...

與現有技術相比，本發明的技術方案具有以下優點： 本發明提供的靶材拋光裝置的技術方案中，所述靶材拋光裝置包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側的側板；拋光片，位于所述固定板內側面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。位于固定板彎折處的拋光片表面適于對靶材經圓角處理的側棱進行拋光，位于側板上的所述拋光片表面適于對靶材側壁表面進行拋光。所述靶材拋光裝置能夠對靶材側壁表面及經圓角處理的側棱同時進行拋光，因此所述靶材拋光裝置有助于提高對靶材表面進行拋光的作業效率。 可選方案中，所述防護層為彈性材料，所述防護層的質地軟，能夠在所述固定板及靶材間提供緩沖，避免所述固定板觸撞靶材...

涂布技術在真空鍍鋁膜中的應用 將涂布技術與真空鍍鋁技術結合起來，通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿足不同應用領域的要求。 一．經過等離子預處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高，或者需要用于水煮殺 菌條件時仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學涂層，該涂層不對鍍鋁層有優異的粘附性能，同時可以滿足后續的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿足巴氏殺 菌的要求，其鍍鋁層不會因為水煮而發生氧化。 二．為進一步提高鍍鋁膜的阻隔性能，同時保護鍍鋁層在后續的印刷...

頂板210與所述側板220為一體成型。在其他實施例中，所述頂板與所述側板還可以采用焊接、螺接或緊密配合方式固定連接。固定板200的材料為合金，具體的，所述固定板200的材料為不銹鋼。在其他實施例中，所述固定板的材料還可以為金屬。固定板200的厚度為10mm～15mm。若所述固定板200的厚度過大，使得所述固定板200的重量過大，不便于使用，影響操作的靈活性。若所述固定板200的厚度過小，導致所述固定板200的強度和韌性較差，影響所述靶材拋光裝置100的使用壽命。 拋光片300表面與靶材側壁表面及經圓角處理的側棱相匹配。所述拋光片300表面具有磨砂顆粒，用于增加所述拋光片300與靶材表...

什么是3D玻璃？ 現在數碼產品使用的玻璃蓋板分為：2D玻璃，2.5D玻璃，還有3D玻璃。2D玻璃就是普通的純平面玻璃，沒有任何弧形設計；2.5D玻璃則為中間是平面的，但邊緣是弧形設計；而3D屏幕，無論是中間還是邊緣都采用弧形設計。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 產品設計需求。3C 產品設計如智能手機、智能手表、平板計算機、可穿戴式智能產品、儀表板等陸續出現 3D 產品，已經明確引導3D曲面玻璃發展方向。3D曲面玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅硬、耐刮傷、耐候性佳等優點，可型塑做出3D多形狀外觀具有產品特殊設計新穎性與質感佳，又可增加弧形邊緣觸控功能帶來出色的觸控手感、無線充電機能，并能解...

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設計和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據客戶的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達到真金的亮度。 4. 銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調整，可分冷色系列和暖色系列...

技術實現要素： 本發明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業效率。 為解決上述問題，本發明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側的側板；拋光片，位于所述固定板內側面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。 可選的，所述拋光片表面與靶材側壁表面及經圓角處理的側棱相匹配。 可選的，所述固定板內側面彎折處形成夾角，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度不均。 可選的，所述固定板內側面彎折處呈弧狀，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度均勻。 可選的，所述固定板的材料為金屬或合金。 可選的，所述拋光片為砂紙。 ...

一種靶材拋光裝置100，包括：固定板200，所述固定板200包括頂板210和位于所述頂板210一側的側板220；拋光片300，位于所述固定板200內側面上，其中位于固定板200彎折處的拋光片300呈弧狀。 所述固定板200能夠起到支架的作用，以固定支撐所述拋光片300，便于操作人員使用所述靶材拋光裝置100。 頂板210呈矩形狀，所述側板220也呈矩形狀。 述固定板200內側面彎折處形成夾角。具體的，所述側板220表面垂直于所述頂板210表面，即所述夾角為90°。在其他實施例中，所述夾角還可以大于90°且小于180°。 頂板210與所述側板220為一體成型。在其他實...

3D玻璃漸變色的應用 3D玻璃漸變色主要應用于3C產品，特別是手機領域。隨著雙玻璃加金屬邊框的盛行，3D后蓋裝飾工藝需要不斷革新。現有的裝飾工藝主要是在裝飾防爆膜上進行鍍膜絲印，再與3D玻璃貼合實現裝飾效果，外觀裝飾主要還是防爆膜紋理和鍍膜顏色搭配實現。漸變色效果可以通過多種途徑實現，包括：印刷、轉印、真空鍍膜、噴涂等。由于技術的瓶頸問題，現在量產的3D玻璃漸變主要有印刷和真空鍍膜兩種途徑。 漸變效果可大致分為同色漸變、鄰近色漸變、對比色漸變。漸變顏色的選擇對于印刷工藝的限制會小一些，選擇范圍更加寬。印刷工藝可以選擇對應顏色及對應顏色帶范圍進行印刷，能夠實現較為多元化的色彩沖撞效果，滿足設計者...

所述靶材600具有十二條側棱601，各條側棱601均經過圓角處理。在圓角處理前，所述靶材600的側棱601位置較為銳利。如果使用側棱未經圓角處理的靶材600進行濺射鍍膜，在濺射鍍膜工藝過程中，所述靶材600的側棱601位置容易發生前列放電的現象，導致鍍膜的均勻性差，影響鍍膜質量。圓角處理使得靶材側棱601鈍化，有助于防止前列放電現象的發生。 利用所述靶材拋光裝置100對所述靶材600進行拋光時，將所述靶材拋光裝置100放置于所述靶材600上，使所述拋光片第二部分320表面與所述靶材600的側棱601表面相貼合，并使所述拋光片部分310表面與所述靶材濺射面610相貼合，且所述拋光片第三...

純度：純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業的迅速發展，硅片尺寸由6”、 8”發展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。 雜質含量：靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求...

本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.78mm；所述靶材表面的硬度為26hv； 其中，所述靶材的比較大厚度為22mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為4°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鈦；所述背板的材質包括鋁。 所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。 對比例1 與實施例1的區別*在于所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距...

真空鍍膜設備維修保養技巧 1、真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復擦洗真空室內壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。 2、當粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續工作一個月(雨季減半)，需更換新油。 方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。 3、擴散泵連續使用6個月以...

真空技術中的清潔處理 (一)概述 真空技術清潔處理一般指的是真空裝置的結構材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強度和氣密性，提高產品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類型 ①油脂:加工、安裝和操作時沾染的潤滑劑、真空油脂等; ②水滴:操作時的手汗，吹玻璃時的唾液等; ③表面氧化物:易氧化材料長期基露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物; ④酸、堿、鹽類物質:清洗后的殘余物質、手汗、自來水中的礦物質等; ⑤空氣中的塵埃及其它有機物。 (三)污染的形成及其影響 真空裝置由許多不同的零件組成，它們都是經過各種機械加工完成的，如車、銑、刨、...

氧化物鍍膜技術在真空鍍鋁膜中的應用 近年來，迅速發展微波加熱技術給微波食品包裝及需經微波殺 菌消毒的一類商品的包裝提出了新的要求，即包裝材料不要具有優良的阻隔性能，而且還要耐高溫、微波透過性好等特性，傳統的包裝材料很難具備這些特點。因此，近年來日本、德國、美國等國家大力研究開發新型的高阻隔性包裝材料——SiOX和其它金屬氧化物鍍膜復合材料。這類材料除了阻隔性能可以與鋁塑復合材料相媲美外，同時還具有微波透過性好、耐高溫、透明、受環境溫度濕度影響小等優點。 非金屬鍍膜可采用蒸鍍原料可采用SiOX、SiO2，也可以采用其它氧化物如Al2O3、 MgO、Y2O3、TiO2、Gd2O3等，其中常用的是S...

技術實現要素： 本發明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業效率。 為解決上述問題，本發明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側的側板；拋光片，位于所述固定板內側面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。 可選的，所述拋光片表面與靶材側壁表面及經圓角處理的側棱相匹配。 可選的，所述固定板內側面彎折處形成夾角，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度不均。 可選的，所述固定板內側面彎折處呈弧狀，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度均勻。 可選的，所述固定板的材料為金屬或合金。 可選的，所述拋光片為砂紙。 ...

靶中毒現象： 正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。 靶中毒的物理解釋： 一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之...

所述把手510包括桿狀部511和第二桿狀部512，所述桿狀部511的一端連接所述頂板210，另一端連接所述第二桿狀部512。所述桿狀部511延伸方向與所述頂板210表面相垂直，所述第二桿狀部512延伸方向與所述頂板210表面相平行。所述把手510的結構有利于操作人員牢固的抓握所述把手510，防止從所述把手510上滑脫。 在其他實施例中，所述固定板200內側面彎折處呈弧狀，所述防護層400彎折處呈弧狀，位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度均勻。 此外，與前一實施例不同的是，所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為一體成型。且所述拋光片部分3...

PECVD 制備氫化非晶硅薄膜 本實驗采用單晶硅片為襯底，按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干，然后置于PECVD系統中。樣品制備條件為襯底溫度250℃，工作氣壓120 Pa， 射頻功率100 W， 氣體流量SiH4/H2=15/5 sccm， 沉積時間30min， 制備得到a- Si：H 薄膜樣品。 (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度會隨著濺射功率的增大而增大，膜的均勻性將會變差; (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小，非晶硅薄膜均勻性變好; (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范圍內，隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大; (4) 隨著濺射...

基于非晶IGZO真空材料的阻變存儲器與憶阻器 從真空材料結構及電子結構角度入手，將In、Ga 元素引入到ZnO 材料中形成InGaZnO(IGZO)非晶合金材料，由于球對稱的In 5s 軌道交疊較大，使得該材料具有形變對電學輸運影響較小且遷移率較高的特點。 利用上述材料優勢，采用室溫工藝，在塑料襯底上制作了高性能IGZO 柔性阻變存儲器。器件在連續十萬次大角度彎折測試中，性能穩定，存儲信息未丟失。變溫電學輸運特性的研究表明：阻變行為與氧離子移動密切相關，該存儲器的低阻導電通道由缺氧局域結構組成，而缺氧態的局部氧化導致了存儲器由低阻態向高阻態的轉變。 在此基礎上，利用IGZO 非晶薄膜的...

在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本發明對各種可能的組合方式不再另行說明。 此外，本發明的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本發明的思想，其同樣應當視為本發明所公開的內容。 本發明涉及靶材領域，具體涉及一種長壽命靶材組件。 目前，現有的半導體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經到了一個極限，為提高靶材的使用壽命，節省多次更換靶材的重復性?，F有的技術都是通過磁場強度，把靶材表面設計成曲面來延長壽命，包括靶材本體及基體，所述基體的至少一面設有所述靶材本體，所述靶材本體...

靶中毒現象： 正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。 靶中毒的物理解釋： 一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之...

所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁；所述背板的材質包括銅。 所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。 實施例5 本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.82mm；所述靶材表面的硬度為21hv； 其中，所述靶材的比較大厚度為23mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材...

真空鍍膜離子鍍簡析 真空鍍膜離子鍍，電鍍混合廢水處理生化過程與傳統的物理和化學過程，生物絮凝劑之間的區別可連續操作過程中的育種，生物絮凝劑，以去除金屬離子與生物絮凝增加量的增加的劑量，傳統的離子交換過程中的離子交換樹脂的交換容量是有限的，飽和吸附后，不再能夠除去金屬離子。 一種離子鍍系統，以基片作為陰極，陽極殼，惰性氣體(氬氣)，以產生輝光放電。從蒸發源的分子通過等離子體的電離區域。的正離子被加速襯底臺到襯底表面上的負電壓?；瘜W沉淀法，化學主體的影響是一定的，沒有它們的增殖。離子鍍工藝結合蒸發(高沉積速率)和濺射層(良好的薄膜粘合)的工藝特點，并具有很好的衍射，對于形狀復雜的工件涂層。 ...

磁控濺射制備非晶硅薄膜 本實驗采用石英玻璃為襯底，實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺...

真空技術中的清潔處理 (一)概述 真空技術清潔處理一般指的是真空裝置的結構材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強度和氣密性，提高產品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類型 ①油脂:加工、安裝和操作時沾染的潤滑劑、真空油脂等; ②水滴:操作時的手汗，吹玻璃時的唾液等; ③表面氧化物:易氧化材料長期基露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物; ④酸、堿、鹽類物質:清洗后的殘余物質、手汗、自來水中的礦物質等; ⑤空氣中的塵埃及其它有機物。 (三)污染的形成及其影響 真空裝置由許多不同的零件組成，它們都是經過各種機械加工完成的，如車、銑、刨、...

真空鍍膜中靶材中毒會出現哪些想象，如何解決？ 靶面金屬化合物的形成。 由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以，化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。 靶中毒的影響因素： 影響靶中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過量就會導致靶中毒。反應濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區域內出現被反應生成物覆蓋...

有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮，在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮，所以一般在濺射的時候進行物理拋光。 一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數比較穩定，容易控制。 所以結論就是，活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。 靶材安裝及注意事項有哪些？ 濺射靶材安裝過程中重要的注意事項是一定要確保在靶材和濺射頭冷卻壁之間建立很好的導熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發生開裂或彎曲，背靶到靶材的導熱性能...

真空鍍膜設備維修保養技巧 1、真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復擦洗真空室內壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。 2、當粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續工作一個月(雨季減半)，需更換新油。 方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。 3、擴散泵連續使用6個月以...

作為本發明推薦的技術方案，所述靶材的材質包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種。 作為本發明推薦的技術方案，所述背板的材質包括銅和/或鋁。 作為本發明推薦的技術方案，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.75-6mm；所述靶材表面的硬度為20-30hv； 其中，所述靶材的比較大厚度為20-30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁、鉭、鈦或銅中...