EVG ? 520 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 氣動壓花選項 軟件控制的流程執行 EVG ? 520 HE技術數據 加熱器尺寸：150毫米，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60、100 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 粘合卡盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ? 620，EVG...

EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說：“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰，幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術，我們創建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內，我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業，企業和消費者等所有主要市場領...

EVG ? 720特征： 體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 專有SmartNIL ?技術，多使用聚合物印模技術 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式 可選的頂部對準 可選的迷你環境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺 從研發到生產的可擴展性 系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

UV納米壓印光刻系統 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統 ■高精度對準臺 ■自動楔形誤差補償機制 ■電動和程序控制的曝光間隙 ■支持***的UV-LED技術 ■**小化系統占地面積和設施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材 ■體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 ■專有的SmartNIL?技術和多用途聚合物印章技術 ■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動處理以及...

EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術數據： 加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 夾盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ...