派瑞林真空鍍膜1.試驗溫濕度金屬腐蝕的臨界相對濕度大約為70%。當相對濕度達到或超過這個臨界濕度時，鹽將潮解而形成導電性能良好的電解液。當相對濕度降低，鹽溶液濃度將增加直至析出結晶鹽，腐蝕速度相應降低。溫度升高，分子運動加劇，高鹽霧腐蝕速度越快。國際電工委員會指出：溫度每升高10℃，腐蝕速度提高2～3倍，電解質的導電率增加10～20%。對于中性鹽霧試驗，一般認為試驗溫度選在35℃較為恰當。2.溶液的濃度濃度在5%以下時，鋼、鎳、黃銅的腐蝕速度隨濃度的增加而增加；當濃度大于5%時，這些金屬的腐蝕速度卻隨著濃度的增加而下降。這是因為，在低濃度范圍內，氧含量隨鹽濃度的增加而增加；當鹽濃度增加到5%時，氧含量達到相對的飽和，如果鹽濃度繼續增加，氧含量則相應下降。氧含量下降，氧的去極化能力也下降即腐蝕作用減弱。對于鋅、鎘、銅等金屬，腐蝕速度卻始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。3.樣品的放置角度鹽霧的沉降方向是接近垂直方向的，樣品水平放置時，它的投影面積較大，樣品表面承受的鹽霧量也較多，因此腐蝕較嚴重。研究結果表明：鋼板與水平線成45度角時，每平方米的腐蝕失重量為250g，鋼板平面與垂直線平行時，腐蝕失重量為每平方米140g。
派瑞林真空鍍膜用在探頭：防潮，防腐蝕；黑龍江耐電壓真空鍍膜廠家
派瑞林（Parylene）納米涂層特點派華科技納米有限公司提供的派瑞林（Parylene）納米涂層是一種無色透明，無毒無害，不易燃的防潮防濕防腐蝕的納米鍍膜產品。根據不同產品，使用不同型號的涂料，普通使用的涂層厚度大概是2um左右。該鍍膜工藝廣泛應用于：電子數碼產品、電子元器件、PCBA板、精密馬達、軸承、精密儀器等產品。派瑞林（Parylene）鍍膜工藝通過化學氣相沉積（CVD）工藝原理即派瑞林（Parylene）涂層工藝是使用化學氣相沉積（CVD）工藝在真空下沉積的。派瑞林（Parylene）的（CVD）工藝分為三個步驟（升華，熱解，沉積）。首先，將二聚體（具有兩個重復單元的前體）升華。下一步，在高于＞500°C的溫度下通過熱解將二聚體裂解為兩種單體。之后，單體在基材表面（以及腔室表面）上聚合，形成線性聚合物鏈。較后一步在室溫下進行，得到派瑞林（Parylene）保形涂層。派瑞林（Parylene）原料滿足ROHS認證，無毒無刺鼻氣味，滿足環保要求；可進行批量加工，PCBA線路板不需要一片一片地噴涂；鍍膜完成后無需固化。將三防漆的缺陷一一攻克，其工藝圖解如下：湖州PVD真空鍍膜電鍍超薄涂層，可絕緣耐壓，重量輕，納米級真空鍍膜。
傳統水電鍍由于污水處理成本高、能耗高，水資源的浪費多，環境污染大等原因，已經被國家及各級地方所限制發展。而真空鍍膜設備能夠替代傳統水電鍍的表面處理方法，使傳統水電鍍進行技術升級改造。下面來了解看看它相較傳統水電鍍有哪些優勢吧。1.無環境污染因為所有的鍍層材料都在真空環境下，通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環境沒有危害。2.節約金屬材料因為真空涂層附著力、硬度、致密度以及耐腐蝕性能等非常優良，沉積的鍍層厚度可以遠遠小于常規濕法電鍍鍍層，達到節約材料的目的。3.沉積材料可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據需要設計涂層體系。真空鍍膜設備既符合國家環保政策，又可以滿足產品出口的要求，同時提高出口產品的附加值。隨著社會不點的進步，真空電鍍將會成為主流是必然的發展趨勢。
在電子產品表面沉積一層致密的防護膜，該膜層有較低的水汽透過率，可起到較好的阻隔水氧的作用。經派瑞林涂敷后的電子產品即便在有腐蝕性的環境中工作，也能夠有效的阻隔，真正意義上完成對電子產品的防腐蝕效果。"聚對涂敷是由活性的對雙游離基小分子氣在印制電路組件外觀沉蘊蓄合完成。氣態的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個微小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。它沒有助劑、溶劑等小分子，自己的化學惰性也不會對基材形成危險。厚度均勻的防護抹層和的性能相結合，使聚對涂層需：甚至經過鹽霧試驗，印制電路組件的外觀絕緣電阻都不會有很大改變，而且，較薄的涂層對元器件工作時所產生熱量的消失也特別很是有利。另外，因為聚對分子結構對稱性較好，使它在較高的頗率下仍有較小的介質損耗和介電常數，它的這種高頻低損耗特征使它為高頻微波電路的可靠防護創造了條件。"散熱風扇電子部分經過parylene納米鍍膜，使其可達到防潮、防水、防塵、耐酸堿、耐高電壓的絕緣效果，能夠達到IP等級的相關要求，是目前為止較好的防水防潮處理方式。派瑞林納米防水，致密無孔，防護效果可以解決。Parylene涂層是在室溫下在元件上自發形成的。Parylene擁有優異的介電性能，較低的介質損耗，和較高的介電強度。
什么是派瑞林?它是一種透明無色的聚酯保護材料。適用于室溫下的真空鍍膜，真空鍍膜壓力在10-5托以下，而派瑞林鍍膜工藝在。涂層的厚度可控制在1-100微米之間，該涂層是美國在60年代初開發的**，***應用于美國***印刷電路板、航空航天和水下發射裝置的微電子元件領域，1972年被納入美國***標準：MIL-I-46058C微納米加工技術：化學氣相沉積工藝（CVD）將粉末狀的納米原料放入真空納米涂層設備的蒸發室，通過150℃-180℃的溫度蒸發為氣態分子，在真空（*10-2torr）作用下氣態的10nm以下納米分子進入到裂解室，在裂解室680℃-700℃的高溫裂解為具有反應活性的單體，活性單體與單體之間重新聚合，形成一層致密無***的納米膜層。 派瑞林真空鍍膜 用在磁性材料鍍膜：防銹，絕緣；陜西耐電壓真空鍍膜廠家
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它與天然環境相比，其鹽霧環境的氯化物的鹽濃度，可以是一般天然環境鹽霧含量的幾倍或幾十倍，使腐蝕速度提高，對產品進行鹽霧試驗，得出結果的時間也縮短。如在天然暴露環境下對某產品樣品進行試驗。待其腐蝕可能要1年，而在人工模擬鹽霧環境條件下試驗，只要24小時，即可得到相似的結果。人工模擬鹽霧試驗又包括中性鹽霧試驗、醋酸鹽霧試驗、銅鹽加速醋酸鹽霧試驗、交變鹽霧試驗。(1)中性鹽雲試驗(NSS試驗)是出現很早目前應用領域很廣的一種加速膚蝕試驗方法。它采用5%的氯化鈉鹽水溶液,溶液PH值調在中性范圍(6~7)作為噴零用的溶液。試驗溫度均取35"C,要求鹽的沉降率在1~2ml/80cm2h之間。(2)錯酸鹽零試驗(ASS試驗)是在中性鹽霧試驗的基礎上發展起來的。它是在5%氯化鈉溶液中加入ー些冰錯酸,使溶液的PH值降為3左右,溶液變成酸性,很后形成的鹽零也由中性鹽變成酸性。它的腐蝕速度要比NSS試驗倍左右。(3)銅鹽加速錯酸鹽零試驗(CASS試驗)是國外新近發展起來的一種快速鹽雲腐蝕試驗,試驗溫度為50C,鹽溶液中加入少量銅鹽一氯化銅,強烈發膚蝕。它的腐蝕速度大約是NSS試驗的8倍。2.鹽霧測試具體時間換算為:中性鹽零試驗24h--自然環境1年,醋酸鹽試驗24h--自然環境3年。 黑龍江耐電壓真空鍍膜廠家
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