四氟化碳是目前微電子工業中用量比較大的等離子蝕刻氣體,也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產,鋁合金門窗制造、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態,印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。同時,由于四氟化碳的化學穩定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業;如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。以活性炭與氟為原料經氟化反應制備。南通直銷四氟化碳推薦企業
四氟化碳是目前微電子工業中用量比較大的等離子體蝕刻氣體,廣用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于化學穩定性Chemicalbook極強,CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業等。當今超大規模集成電路所用電子氣體的特點和發展趨勢是超純、超凈、多品種、多規格,各國為推動本國微電子工業發展,越來越重視發展特種電子氣體的生產技術。就目前而言,四氟化碳(CF4)以其相對低廉的價格長期占據著蝕刻氣體市場,因此具有廣闊的發展潛力。南通原裝四氟化碳廠家哪家好四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體,充裝于四氟化碳鋼瓶中,飽和蒸汽壓約壓力2000 psig。
質量指標純度(%)≥99.99水份(PPm)≤10酸度(PPm)≤0.3蒸發殘留物(PPm)≤100%物理性質分子量88.0沸點(1atm),℃-128臨界溫度,℃-45.67臨界壓力,kPa3740飽和蒸氣壓(25℃),kPa3650(-45.6℃)汽化熱/蒸發潛熱(沸點下,1atm),kJ/kg-破壞臭氧潛能值(ODP)0全球變暖潛能值(GWP,100yr)5700ASHRAE安全級別A1(無毒不可燃)化學性質相對分子量88.00。在常溫下,四氟化碳是無色、無臭、不燃的易壓縮性氣體,揮發性較高,是**穩定的有機化合物之一,不易溶于水。在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,*在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產生有毒氟化物。
四氟化碳又稱四氟甲烷,被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩定,但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體,如果遇到高熱后會造成容器內壓增大,有開裂、有危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發生作用。四氟化碳是目前微電子工業中用量比較大的等離子蝕刻氣體,可用于硅、二氧化硅,磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產,激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等方面都有著大量的應用。 四氟化碳在空氣中不燃燒,是比較穩定的無毒物質。
開放的深入,使中國氣體行業得以借助他國優勢,彌補在技術和設備上的空白。然而,這也為中國特氣行業的發展埋下了隱患。這一時期,中國半導體行業引進的大多為技術含量低的封測工序,在供應鏈中處于劣勢狀態,直接影響到上游特種氣體的生產和供應水平。同時,由于下游半導體產業的發展原動力完全依賴政策投入,重視短期成果和效益,缺少長遠觀念,這種飲鴆止渴的思維一直蔓延到特氣領域。靠與外國企業合作,就能收獲不錯的效益,加之技術上的差距又十分懸殊,很少有企業靜下心來搞研發。相反,前沿的國外氣體公司為了保持地位,每年在研發上投入巨額資金。以1995年為例,各主要氣體公司研發投入為6100萬美元,為1.446億美元,這一支出在凈利潤中的占比達36.75%。值得一提的是,當年,英國BOC加工設備公司還設計開發了一種現場用的組裝式制氮裝備,特別適用于電子、金屬等領域的生產。
如在泄漏時,應迅速撤離泄漏污染區人員至上風處,并進行隔離,嚴格限制出入。蘇州優良四氟化碳優化價格
四氟化碳是不燃性壓縮氣體。南通直銷四氟化碳推薦企業
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