在使用四氟化碳的同時，也要注意使用四氟化碳的注意事項，如在泄漏時，應迅速撤離泄漏污染區人員至上風處，并進行隔離，嚴格限制出入。建議應急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風，加速擴散。如有可能，即時使用。漏氣容器要妥善處理，修復、檢驗后再用。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內，小白鼠仍可安全脫險。所以在電子行業中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。銷售四氟化碳
四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體，充裝于四氟化碳鋼瓶中，飽和蒸汽壓約壓力2000psig。四氟化碳是目前微電子工業中用量比較大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態，印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學穩定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。江浙滬***四氟化碳哪里有四氟化碳不燃燒，有低毒性和窒息性。
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內壓增大，有開裂危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發生作用。四氟化碳是目前微電子工業中用量比較大的等離子蝕刻氣體，可廣用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等方面都有著大量的應用。
在實驗室內，四氟化碳可以由二氧化碳、一氧化碳或光氣與四氟化硫的氟化作用來獲取。商業上可由氟與二氯二氟甲烷或氯三氟甲烷的反應制備。另一個方法是用碳電極電解氟化物MF、MF2。四氟化碳，像其他氟代烴一樣，是十分穩定的，這是因為C-F鍵很強，鍵能為515kJ.mol-1（參見環境影響）。因此不與酸及氫氧化物反應，但是會跟堿金屬發生危險反應。熱分解會產生劇毒的氣體（碳酰氟、一氧化碳，如果有水存在，還會產生腐蝕性的氟化氫）。四氟化碳微溶于水（約20mg.l-1），但可與乙醇及石油醚混溶。四氟化碳可用于金屬冶煉。
四氟化碳的合成工藝有烷烴直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氫氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法四種，目前工業上四氟化碳的合成主要采用氟碳直接合成法。這種生產工藝的優點是原料易得、反應可控、產物純度高。該方法已實現工業化生產，產品純度高達99.99%以上，可滿足電子工業的需求，已成為工業上制備四氟化碳的主要方法。就目前而言，四氟化碳以其相對低廉的價格將會長期占據著蝕刻氣體的市場，因此具有廣的發展潛力。未來，四氟化碳的需求將會明顯增加。四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。江浙滬直銷四氟化碳
由于四氟化碳的化學穩定性，四氟化碳可用于金屬冶煉。銷售四氟化碳
一種四氟化碳氣體濃度檢測校正方法，包括：
通過雙光路檢測系統利用雙波長紅外差分檢測法測量出不同溫度下的四氟化碳氣體濃度值；
將測量出的所述四氟化碳氣體濃度值和對應的溫度值輸入至RBF神經網絡進行訓練；
將對測試樣本測量所得的四氟化碳氣體濃度值輸入至訓練好的所述RBF神經網絡進行測試并開展反演計算，得到校正后的四氟化碳氣體實際濃度值。
推薦地，在本發明實施例提供的上述四氟化碳氣體濃度檢測校正方法中，通過雙光路檢測系統利用雙波長紅外差分檢測法測量出四氟化碳氣體濃度值，包括：所述紅外光源發出的紅外光束經準直后進入內置有四氟化碳氣體的所述氣體采樣室；被四氟化碳氣體吸收特定波長的紅外光束作為測量光；波長不受四氟化碳氣體影響的紅外光束作為參考光；
在所述測量光經所述濾光片透射后，檢測所述測量光的光強；在所述參考光經所述第二濾光片透射后，檢測所述參考光的光強；
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