濟南直角棱鏡反射鏡

來源: 發布時間:2022-06-11

反射鏡組件模態分析中產生的誤差進行了定量評價及試驗驗證。闡述了算法誤差、材料參數誤差以及連接關系的簡化處理等3個主要誤差源對分析結果帶來的影響。從模態分析的基本原理出發,得出算法選擇引入的誤差<1%。材料參數誤差的傳遞因子可從公式推導以及試算數據擬合的方法得到,誤差的參與權重因子可通過模態振型來獲得。而螺釘連接關系簡化處理引入的誤差則通過簡化處理螺釘連接關系與詳細分析兩種有限元模型的結果來獲得。試驗結果表明,在有限元分析中,若對連接關系進行了簡化處理,反射鏡組件模態分析結果的誤差將達到10%左右。若對螺釘進行有限元建模,在組件的分析中考慮螺釘剛度的貢獻,誤差可以控制在5%以內。分析結果與試驗結果基本吻合,表明對螺釘連接關系的處理方式是決定分析結果誤差的關鍵因素,在高精度的分析中,螺釘連接的剛度貢獻是不能忽略的。本文提出的組件模態分析誤差的定量分析方法,對采用有限元法進行的重力變形分析、動力學響應分析以及熱變形分析等誤差定量分析亦有指導意義。超帶寬電介質膜反射鏡在紫外譜區、可見光譜區和紅外譜區都有著高反射率。濟南直角棱鏡反射鏡

由平面表面構成的反射鏡,是光學系統中引導光通過合適路徑的重要元件??梢詫⒎瓷溏R加以組合,形成稱為回射鏡或者三角棱鏡等光學元件。這些元件由三個彼此垂直的鏡面組成。無論入射角如何,這種幾何結構都能夠實現180°的光的反射,幾乎不需要對準。除了固定的反射鏡之外,還可以通過旋轉平面反射鏡系統來實現快速重新定向,例如掃描儀中的系統,或者顯示器中用于切換的具有微型反射鏡的小型系統。曲面鏡(也稱為凹面反射鏡)可以用來實現光的收集、聚焦和成像。凹面反射鏡比透鏡更具優勢,因為它們在無需再聚焦的情況下在很寬波長范圍內都可使用。原因在于:反射是發生在光學元件的表面,而不是像透鏡那樣光束穿過光學元件,因此不存在折射率引起的色散。簡單的球面反射鏡可用于收集焦點(位于鏡子的曲率半徑的一半處)處光源的輻射,并將其反射為平行于光軸的準直光束。但是球面鏡存在球面像差,因此可以使用拋物曲面作為替代,用于準直來自焦點的光或者聚焦來自準直光束的光。橢圓表面可以將光從一個焦點聚焦到另一個焦點。南寧投影反射鏡采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高。

反射鏡光學材料性能要求:(1)高的機械強度可避免鏡體的機械變形,因此要求材料具備盡可能高的彈性模量、比剛度及盡可能小的泊松比。(2)良好的熱性能可避免溫度變化引起的熱變形,所以,反射鏡基體材料應具備較小的熱膨脹系數和盡可能大的導熱系數。(3)可加工性。要求反射鏡基體材料通過光學拋光,可獲得高質量的表面粗糙度。(4)高的化學穩定性。在加工過程中,或者長期保存在自然環境下,材料不被水汽或其他氣氛侵蝕,以確保光學鏡面的質量不受損害。(5)反射鏡基體材料必須具備高度的均勻性。這種均勻性包括密度、機械性質及熱性質。任何一方面的不均勻性都將對反射鏡的加工及使用帶來嚴重影響。(6)其他要求,例如低的制造成本、無毒及環境友好等。

目前大口徑SiC反射鏡組件的研制是當前輕小型化相機研制中亟待解決的關鍵技術之一。針對該類反射鏡的研制特點,本文以某輕型相機大口徑SiC反射鏡組件的工程研制為例,從方案設計、力學樣機設計與分析及地面試驗三方面,系統地闡述了大口徑SiC反射鏡組件進行合理、高效、高可靠性設計的主要研制技術路線。有關試驗結果表明,SiC反射鏡組件一階頻率保持在340Hz左右,與有限元分析結果相差約8.5%。振動試驗前后反射鏡面形RMS相差為0.009λ,該結構滿足使用要求。該反射鏡組件研制技術路線完全適用于其它大口徑反射鏡組件的工程研制,并可有效提高結構的穩定性,縮短研制周期。在諧振腔內,使光線在諧振腔內的兩枚負分散反射鏡之間往返數次。

廣東光文光電科技有限公司小編介紹,曲面反射鏡:大多數曲面反射鏡的表面的球形的,由曲率半徑R表征。凹面反射鏡表面是作為聚焦反射鏡,而凸面則具有散焦的行為。除了光束方向發生變化,這一反射鏡更像是一個透鏡。正入射的情況下,焦距為R?/?2,即曲率半徑的一半。而非垂直入射入射角為θ時,焦距在切平面上為(R?/?2)???cos?θ,矢狀面上為(R?/?2)?/?cos?θ。還有拋物線反射鏡,其表面為拋物線型。緊聚焦的情況下,通常采用軸外拋物線反射鏡,這樣得到的焦點在入射光束外面。因反射鏡光損失較少,反射的圖像不變形走樣,所以可作為投影儀上重要的光學元件之一。成都橢球反射鏡

用于飛秒激光諧振腔的分散補償。濟南直角棱鏡反射鏡

碳化硅反射鏡制備工藝:1、反應燒結法。反應燒結是一種較為常見的反射鏡制備工藝,這種工藝采用具有反應活性的液態硅浸滲含碳的反射鏡預制體,硅與碳反應生成的新碳化硅原位地結合預制體中原有的碳化硅顆粒,并填充預制體中剩余的孔隙,然后得到近乎完全致密的反射鏡毛坯。2、化學氣相沉積法?;瘜W氣相沉積法是在溫度為1275℃~1350℃的反應容器內,通入一種氣體或幾種氣體的混合氣,在石墨或其它物質的基片上得到碳化硅的沉積層。3、熱壓(或熱等靜壓)法。熱壓(或熱等靜壓)燒結的主要工藝步驟:把微米級的碳化硅粉和助燒劑以及阻止晶粒過分長大的添加劑混合后預壓成預制體,然后將這種預制體用合適的封裝材料封裝后放入壓力腔中,在合適的溫度-壓力-時間制度下進行燒結。濟南直角棱鏡反射鏡

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