GFAg銀膜反射鏡：從可見光到近紅外波段，平均反射率高。在銀膜上鍍了一層保護膜，可防止氧化，延長使用壽命。與鋁膜反射鏡相比，在可見光到近紅外波段反射率更高。與介質膜反射鏡相比，反射率受入射角度的影響很小，可用于各種入射角度。鍍了保護膜，用布等擦拭時也不容易劃傷。GFM寬帶介質膜反射鏡：寬帶介質膜反射鏡在寬波段內反射率較高，適用于調波長激光器和白光。介質膜反射鏡對入射角比較敏感，未說明的情況下，默認的介質膜反射鏡的入射角均為45°。介質膜幾乎沒有吸收，可以承受連續的激光照射。光學反射鏡多在需要改變光的傳輸方向的場合使用到，根據入射角度分有0°反射鏡、45°反射鏡。安徽投影反射鏡
金屬膜反射鏡經濟實惠，可以在寬波長譜區內使用，可以在所有入射角度下使用，膜有吸收、反射率稍微降低，容易受損(金膜反射膜無保護膜)，用于簡單的光學系統、使用低輸出激光的光學系統、白光照明系統或成像系統、紅外光學系統(金膜反射鏡)。寬帶多層介質膜反射鏡擁有很好的反射率，可以在寬波長譜區使用，膜沒有光的吸收，膜較硬不易受損，用于精密光學系統(微弱光或低損失的光學系統)、1W以內的激光光學系統、使用多波長激光的光學系統。激光用多層介質膜反射鏡的反射率非常高，損失很少膜；沒有光的吸收，激光損傷閾值很高；不易受損；波長范圍窄，入射角為四十五度時使用；用于使用激光的光學系統、強激光光學系統。投影機反射鏡求購可達可見光頻譜的紫外區和紅外區。
反射鏡（(mirror)它是一種利用反射定律工作的光學元件。反射鏡按形狀可分為平面反射鏡、球面反射鏡和非球面反射鏡三種。按反射程度，可分成全反反射鏡和半透半反反射鏡(又名分束鏡)。過去反射鏡制造時，常常在玻璃上鍍銀，它的制作標準工藝是：在高度拋光的襯底上真空蒸鋁后，再鍍上一氧化硅或氟化鎂，特殊應用中，由于金屬引起損失可由多層介質膜代替。因反射定律與光的頻率無關，此種元件工作頻帶很寬，可達可見光頻譜的紫外區和紅外區，所以它的應用范圍愈來愈廣。在光學玻璃的背面，通過真空鍍膜鍍一層金屬銀(或鋁)薄膜，使入射光反射的光學元件。采用高反射比的反射鏡可使激光器的翰出功率成倍提高。且是反射面反射，反射圖像不失真，無重影，為前表面反射作用。如采用普通反射鏡為第二反射面，不但反射率低，對波長無選擇性，而且易產生重影。而采用鍍膜膜面反射鏡，得到的圖像不但亮度高，而且精確無偏差，畫質更清晰，色彩更通真。前表面反射鏡為光學高保真掃描反射成像之作用。
反射鏡用于光束轉折，干涉測量、成像或照明。使用表面拋光的玻璃或金屬作為基體，光束照射到表面形成鏡面反射。為了獲取盡量多的反射光，常在基體鍍一層反射膜，包括金屬膜和介質膜。金屬膜常用的材料有：鋁、銀、金，鋁從紫外區到紅外區都有很高的反射率，同時在鋁表面能形成一層氧化鋁，所以膜層牢固、穩定。銀膜在可見區和紅外區有很高的反射率，而且入射角改變時引入的偏振效應也至小。金膜在紅外區的反射率很高，而且強度和穩定性比銀膜好，因此常用于紅外反射。金屬膜較軟，容易劃傷損壞，所以常常在金屬膜外再加鍍一層保護膜。金屬膜反射鏡對于入射角不敏感，滿足幾何反射條件即可，同時可以在相對較寬的波長范圍內使用。一般來說，金屬膜反射鏡已經能滿足光學儀器需求。若要求更高的反射率，可使用多層介質反射膜，介質反射膜，可以達到至大反射率和至小吸收損失。入射角與波長會影響介質膜的反射效率，一般會標注入射角：0°或45°和特定的工作波長范圍。反射鏡搬運時要輕拿輕放，否則會損壞反射鏡。
反射鏡的膜分類。金屬膜：鋁膜金膜銀膜。經濟實惠，可以在寬波長譜區內使用。可以在所有入射角度下使用。膜有吸收、反射率稍微降低。容易受損(金膜反射膜無保護膜)。用于簡單的光學系統、使用低輸出激光的光學系統、白光照明系統或成像系統、紅外光學系統(金膜反射鏡)。寬帶多層介質膜：反射率高可以在寬波長譜區使用。膜沒有光的吸收。膜較硬不易受損。用于精密光學系統(微弱光或低損失的光學系統)、1W以內的激光光學系統、使用多波長激光的光學系統。激光用多層介質膜：反射率非常高，損失很少。膜沒有光的吸收，激光損傷閾值很高。不易受損。波長范圍窄，入射角為45°時使用。用于使用激光的光學系統、強激光光學系統從反射鏡中一般所接觸的光源是由不同波長的單色光所混合而成的復色光。沈陽橢球反射鏡
用軟毛刷撣去灰塵，不可用水和其它液體溶劑擦試鏡面。安徽投影反射鏡
碳化硅反射鏡制備工藝：1、反應燒結法。反應燒結是一種較為常見的反射鏡制備工藝，這種工藝采用具有反應活性的液態硅浸滲含碳的反射鏡預制體，硅與碳反應生成的新碳化硅原位地結合預制體中原有的碳化硅顆粒，并填充預制體中剩余的孔隙，然后得到近乎完全致密的反射鏡毛坯。2、化學氣相沉積法。化學氣相沉積法是在溫度為1275℃～1350℃的反應容器內，通入一種氣體或幾種氣體的混合氣，在石墨或其它物質的基片上得到碳化硅的沉積層。3、熱壓(或熱等靜壓)法。熱壓(或熱等靜壓)燒結的主要工藝步驟：把微米級的碳化硅粉和助燒劑以及阻止晶粒過分長大的添加劑混合后預壓成預制體，然后將這種預制體用合適的封裝材料封裝后放入壓力腔中，在合適的溫度-壓力-時間制度下進行燒結。安徽投影反射鏡