在鎂碳磚中添加一定量的TiN，可以明顯提高鎂碳磚的抗渣侵蝕性。1)氮化鈦是優良的結構材料，可用于蒸汽噴射推進器和火箭等。在軸承和密封圈領域也大量使用氮化鈦合金，強調了氮化鈦的應用效果。2)基于氮化鈦的優異導電性，可以制作各種電極和點接觸等材料。3)氮化鈦具有高超導臨界溫度，可作為優良的超導材料。4)氮化鈦熔點高于許多過渡金屬氮化物，密度低于許多金屬氮化物，是一種獨特的耐火材料。5)氮化鈦可以作為一種膜鍍在玻璃上，紅外反射率大于75%時，氮化鈦薄膜厚度大于90nm時，可以有效提高玻璃的保溫性能。另外，通過調整氮化鈦中的氮含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，達到理想的美觀。在刀具上涂敷3~5微米的氮化鈦涂層，刀具就能擁有更高的耐磨性和耐熱性，大幅提高刀具壽命和切削加工效率。嘉興防銹氮化鈦
1. 為提高船用低速柴油機柱塞的耐磨性和柱塞偶件使用壽命，采用離子鍍技術與多弧磁控耦合鍍膜技術分別在柱塞上涂覆了TiN涂層和DLC涂層。利用掃描電鏡(SEM)、輪廓儀和X射線衍射儀(XRD)技術表征了TiN與DLC涂層的微觀形貌、表面粗糙度及物相組成，采用納米壓痕儀檢測了TiN與DLC涂層的納米硬度及彈性模量；運用劃痕法和壓痕法測試了TiN和DLC涂層的結合力，通過往復磨損試驗考察了這2種涂層在空氣中與在重柴油環境下的摩擦系數，同時結合光學顯微鏡定性評判TiN和DLC涂層磨損程度，通過臺架試驗評價了TiN涂層與DLC涂層柱塞的實際磨損情況。結果表明：這2種涂層晶體生長良好、結構連續致密，均未出現分層、開裂及剝離的現象，DLC涂層相對光滑，粗糙度Ra為0.10μm,而TiN涂層Ra為0.16μm; DLC涂層表面納米硬度、彈性模量及泊松比均高于TiN涂層；無論在空氣中還是重油環境下，TiN涂層摩擦系數均高于DLC涂層，耐磨性低于DLC涂層；臺架試驗后TiN涂層柱塞表面出現比較明顯的平行狀溝槽磨痕，而且整體磨損比較嚴重，而DLC涂層柱塞表面的磨痕非常窄并且淺，不易被發現，進一步證明DLC的耐磨損性能更優越。威海 刀具氮化鈦聯系人氮化鈦生物兼容性高，可以應用于臨床醫學和口腔醫學方面。
口腔是有生物化學和電化學因素影響的復雜環境，具有較強的腐蝕性。因而對應用于口腔中的金屬材料也提出了更高的要求。在磁性附著體的研究及臨床應用中，我們發現磁性附著體在口腔中長期使用后所出現的腐蝕和磨損是導致磁性附著體的固位力下降的主要原因，也是影響磁性附著體遠期應用效果的主要問題。進一步提高磁性附著體的耐腐蝕性和耐磨損性是解決這一問題的適合途徑。近年來，隨著當今各種鍍膜技術，如化學氣相沉積(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉積(physicalvapordepositionPVD)、等離子體輔助化學氣相沉積(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光輔助化學氣相沉積(laserchemicalvapordepositionLCVD)、離子鍍(ionplateIP)和離子束輔助沉積技術(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不斷完善和發展，使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蝕性的氮化鈦納米膜在國際和國內都得到了適合研究與應用。
明顯早應用的刀具PVD涂層材料是TiN，是將靶材（金屬固體材料）轉換成電離狀態，在電場作用下金屬離子在工件表面與活化了的氮形成2～4μm厚的薄膜涂層，具有較高的硬度和耐磨性，抗氧化溫度在550～600℃；而進入本世紀后，使用具有一定原子比的鈦鋁合金靶作為靶材， 通過磁控濺射法制得的TiAlN涂層正逐漸代替TiN涂層成為主流涂層，其最高工作溫度可達1 150℃，更好得滿足這種高速高溫切削的需要。其實質是在切削刀具的表面沉積一層具有致密結構、高硬度、熱穩定性、耐磨性和抗氧化性良好的硬質薄膜。氮化鈦涂層具有令人滿意的金黃色，作為代金裝飾材料具有很好的仿金、裝飾價值并有防腐、延長工藝品的壽命。
本文研究了不同程度合金化高速鋼非涂層和物物理相沉積TiN涂層試樣的抗干滑動磨損性能、磨損機理以及不同高速鋼車刀片切削40Cr、GCr15和1Crl8Ni9Ti不銹鋼時涂層和非涂層刀具的切削性能。試驗表明,TiN涂層高速鋼耐磨性較非涂層鋼提高近一個數量級。低合金高速鋼D950和Vasco Dyne的耐磨性不亞于通用高速鋼M2。涂層試樣磨損機理主要為粘附-接觸疲勞剝落磨損。涂層刀具切削性能較非涂層刀具大為提高。涂層低合金高速鋼刀具性能不亞于涂層通用高速鋼M2。試驗結果表明,TiN涂層的應用為高速鋼特別是低合金高速鋼的開發應用提供了廣闊的前景,涂層刀具在中硬及難加工材料的切削加工方面有著應用的潛力。氮化鈦是一種優良的結構材料。在軸承和密封環領域也多用氮化鈦合金凸顯了氮化鈦優異的應用效果。無錫真空鍍膜氮化鈦價格
無論在空氣中還是重油環境下，TiN涂層摩擦系數均高于DLC涂層，耐磨性低于DLC涂層。嘉興防銹氮化鈦
利用常壓化學氣相沉積法(APCVD)以四氯化鈦(TiCl4)和氨氣(NH3)作為反應物在玻璃基板上沉積制備了氮化鈦(TiN)薄膜.分別用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、四探針電阻儀和分光光度計等對TiN薄膜的結晶性能、微觀結構、表面形貌和光學、電學性能進行了分析.結果表明,制備的TiN薄膜厚度為500nm,具有NaCl型面心立方結構并表現出(200)晶面的擇優取向,薄膜的晶粒大小分布均勻.在可見光區的透射率達到60%,反射率小于10%.在近紅外光區的反射率達到80%。嘉興防銹氮化鈦
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