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50. 氮化鈦(TiN)薄膜以其獨(dú)特的性能不僅各類(lèi)商品的表面裝飾上有著適合的應(yīng)用,而且在機(jī)械工業(yè)也展示了巨大的應(yīng)用前景。本文利用大功率偏壓電源的多弧離子鍍技術(shù),采用工具鍍工藝,在Ti-6Al-4V合金材料表面制備了TiN薄膜。X射線光電子能譜檢測(cè)證明了所制備的薄膜確為T(mén)iN。機(jī)械性能測(cè)試表明:具有TiN涂層樣品的顯微硬度較為高于Ti合金基材,同時(shí)耐磨性能也明顯得到改善。既可以大幅提高機(jī)械產(chǎn)品的表面硬度,提高其耐磨性、降低摩擦系數(shù),進(jìn)而提高使用壽命。23. 氮化鈦是一種新型的多功能金屬陶瓷材料它的熔點(diǎn)高,硬度大、摩擦系數(shù)小是熱和電的良導(dǎo)體。重慶氮化鈦產(chǎn)品介紹
薄膜材料簡(jiǎn)介制造業(yè)中高速切削和干式切削等先進(jìn)技術(shù)的發(fā)展對(duì)刀具提出了較高的要求,作為刀具涂層的薄膜材料Ti N不僅要具有較高的硬度,而且要具有優(yōu)良的耐磨性、耐熱性、韌性和良好的化學(xué)穩(wěn)定性等。硬質(zhì)薄膜表面涂層可以實(shí)現(xiàn)上述要求。硬質(zhì)薄膜表面涂層通常指為提高構(gòu)件表面耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫性而涂覆于構(gòu)件表面的膜層,厚度為幾納米到幾十微米,材料通常是一些由過(guò)渡族金屬與非金屬構(gòu)成的金屬間化合物等。這些化合物一般由金屬鍵、共價(jià)鍵、離子鍵,以及離子鍵和金屬鍵的混合鍵鍵合,具有熔點(diǎn)高、硬度大的特征,通常還具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。基于以上特征和優(yōu)點(diǎn),硬質(zhì)薄膜表面涂層已被廣泛應(yīng)用于航空、工模具、電子等加工領(lǐng)域,并且在刀具、模具等方面有力推動(dòng)了制造業(yè)的發(fā)展。氮化鈦是第一種產(chǎn)業(yè)化并被廣泛應(yīng)用的硬質(zhì)薄膜材料。氮化鈦薄膜具有硬度高、耐磨、耐熱、耐腐蝕等特性[1],為面心立方晶體結(jié)構(gòu),由金屬鍵、共價(jià)鍵和離子鍵混合而成,同時(shí)具有金屬晶體和共價(jià)晶體的特性。上海壓鑄模具氮化鈦鍍黑鈦氮化鈦是用于優(yōu)良度的金屬陶瓷工具、噴汽推進(jìn)器、以及火箭等優(yōu)良的結(jié)構(gòu)材料。另氮化鈦可作為高溫潤(rùn)滑劑。
TiN 薄膜用于高溫大氣穩(wěn)定太陽(yáng)能吸收層的研究開(kāi)始于1984年,較好近(Ti,A1)N 涂層也被建議應(yīng)用于太陽(yáng)能選擇吸收層和太陽(yáng)能控制窗口,這主要是因?yàn)?Ti,AI)N 涂層耐高溫的特點(diǎn)。關(guān)于TiN和TiA1N 涂層在太陽(yáng)能領(lǐng)域的應(yīng)用。目前仍處在嘗試和探索之中。
用TiN 薄膜涂覆在IF—MS2上。可以提高二鉬化硫潤(rùn)滑劑的耐磨性。用TIN 薄膜涂覆在IF—MS2上,因?yàn)樗哂械母哂捕取⒏呷埸c(diǎn)、高磨損抵抗力,優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),因此可以在提高飛機(jī)和航天器的發(fā)動(dòng)機(jī)等零件的潤(rùn)滑性能的同時(shí),又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。
在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中,后段工藝日趨重要,為降低阻容遲滯(RCDelay),保證信號(hào)傳輸,減小功耗,有必要對(duì)后段工藝進(jìn)行改進(jìn),Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition,金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析,從厚度、雜質(zhì)濃度和晶體結(jié)構(gòu)三大薄膜電阻影響因素出發(fā)系統(tǒng)研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實(shí)結(jié)構(gòu)中的各種性質(zhì),重點(diǎn)是等離子體處理(PlasmaTreatment,PT)下的晶體生長(zhǎng),制備循環(huán)次數(shù)的選擇對(duì)薄膜雜質(zhì)濃度、晶體結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響,不同工藝薄膜在真實(shí)結(jié)構(gòu)中物理形貌、晶體結(jié)構(gòu)和電阻性能的表現(xiàn)和規(guī)律,超薄TiN薄膜(<5nm)的實(shí)際應(yīng)用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測(cè)試證明PT作用下雜質(zhì)濃度降低,同時(shí)晶體生長(zhǎng),薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時(shí)間和深度,較厚薄膜需多循環(huán)制備以充分處理,發(fā)現(xiàn)薄膜厚度較小時(shí)(本實(shí)驗(yàn)條件下為4nm),增加循環(huán)次數(shù)雖然進(jìn)一步降低了雜質(zhì)濃度,但會(huì)引入界面而使薄膜電阻率增加。通過(guò)TEM觀測(cè)發(fā)現(xiàn)由于等離子體運(yùn)動(dòng)的各向異性,真實(shí)結(jié)構(gòu)中PT效率在側(cè)壁遠(yuǎn)低于頂部和底部,這導(dǎo)致側(cè)壁薄膜在PT后更厚。氮化鈦?zhàn)鳛橥繉觾r(jià)格既低廉又耐磨耐腐蝕,它的好多性能都優(yōu)于真空涂層氮化鈦的應(yīng)用前景非常廣闊。
40、氮化鈦涂層所具有的硬度值在維氏硬度(HV)2500以上,在刀具上涂敷3~5微米的氮化鈦涂層,刀具就能擁有更高的耐磨性和耐熱性,大幅度提高刀具壽命和切削加工效率。例如,齒輪滾刀經(jīng)氮化鈦涂敷后壽命能延長(zhǎng)3~4倍,因而可在切削齒輪時(shí)可提高切削速度,從而減少了加工時(shí)間和成本。氮化鈦的涂層沉積工藝為物物理相沉積(PVD),是在真空條件下將鈦蒸發(fā),并與氮發(fā)生反應(yīng)在刀具表面形成一層非常硬的復(fù)合薄膜。這種加工過(guò)程較為重要的特征是在加工時(shí)溫度適合保持在350℃左右,因而高速鋼刀具的固有特性及尺寸都不會(huì)受到影響。氮化鈦涂層刀具由于其優(yōu)異性能,很快在工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家得以推廣使用,并為機(jī)械加工行業(yè)帶來(lái)巨大的經(jīng)濟(jì)效益。日本是該領(lǐng)域的靠前者之一,許多日本的刀具公司都能供應(yīng)含有氮化鈦涂層的產(chǎn)品,其中有些賣(mài)給了歐洲部分國(guó)家和美國(guó),多數(shù)進(jìn)入了日本本國(guó)市場(chǎng)。我國(guó)對(duì)氮化鈦涂層刀具的使用起步較晚,但已有不少?gòu)S家開(kāi)始推廣使用,經(jīng)濟(jì)效益極為可觀。齒輪滾刀經(jīng)氮化鈦涂敷后壽命能延長(zhǎng)3~4倍,因而可在切削齒輪時(shí)可提高切削速度,從而減少了加工時(shí)間和成本。威海 刀具氮化鈦
氮化鈦有較高的導(dǎo)電性可用作熔鹽電解的電極以及點(diǎn)觸頭、薄膜電阻等,有較高超導(dǎo)臨界溫度是優(yōu)良的超導(dǎo)材料。重慶氮化鈦產(chǎn)品介紹
氮化鈦的制備方法有哪些
1金屬鈦粉或TiH
2直接氮化法2TiO2碳熱還原氮化法
3微波碳熱還原法
4物物理相沉積法
5化學(xué)氣相沉積法
6機(jī)械合金化法
7熔鹽合成法8溶膠-凝膠法9自蔓延高溫合成法TiN的性質(zhì)及結(jié)構(gòu)。
TiN屬于間隙相,熔點(diǎn)高達(dá)2955℃,原子之間的結(jié)合為共價(jià)鍵、金屬鍵及離子鍵的混合鍵,其中金屬原子間存在金屬鍵。因此,TiN薄膜具有高硬度(理論硬度21GPa)、優(yōu)異的耐熱耐磨和耐腐蝕等特性,并且具有較好的金屬特性:金屬光澤、優(yōu)良的導(dǎo)電性及超導(dǎo)性。TiN具有典型的NaCl型結(jié)構(gòu),屬于面心立方點(diǎn)陣(F.C.C),其中Ti原子占據(jù)面心立方的角頂。并且TiN是非計(jì)量化合物,Ti和N組成的化合物TiN1-x可以在很寬的組成范圍內(nèi)穩(wěn)定存在,其范圍為T(mén)iN0.6—TiN1.16。氮的含量可在一定范圍內(nèi)變化而不引起TiN的結(jié)構(gòu)變化。 重慶氮化鈦產(chǎn)品介紹
蘇州華銳杰新材料科技有限公司主營(yíng)品牌有華銳杰,發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,該公司生產(chǎn)型的公司。華銳杰是一家私營(yíng)有限責(zé)任公司企業(yè),一直“以人為本,服務(wù)于社會(huì)”的經(jīng)營(yíng)理念;“誠(chéng)守信譽(yù),持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司始終堅(jiān)持客戶需求優(yōu)先的原則,致力于提供高質(zhì)量的類(lèi)金剛石(DLC),氮化鈦,氮化鉻。華銳杰順應(yīng)時(shí)代發(fā)展和市場(chǎng)需求,通過(guò)**技術(shù),力圖保證高規(guī)格高質(zhì)量的類(lèi)金剛石(DLC),氮化鈦,氮化鉻。