Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設(shè)計實現(xiàn)三大優(yōu)勢： 雙模式自適應(yīng)檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布，全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機制允許單次通過狹縫區(qū)域光，無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率，完整捕捉亞微米級光斑細節(jié)，避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，助力客戶提升光束質(zhì)量檢測精度與效率。用于激光加工測試的光斑質(zhì)量分析儀。維度光電光斑分析儀光斑測試

維度光電針對當前市場上的諸多行業(yè)痛點，隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領(lǐng)域，長期以來存在著一個的問題，那就是缺乏能夠提供多樣化型號及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長期受限于國外設(shè)備的長周期交付和難以定制的缺陷，這不僅影響了生產(chǎn)效率，還增加了企業(yè)的運營成本。 針對這一問題，維度光電決定立項光斑分析儀系列產(chǎn)品，旨在解決這一行業(yè)難題。我們深知，只有通過自主和創(chuàng)新，才能打破國外設(shè)備的壟斷局面，為國內(nèi)企業(yè)提供更加高效、便捷的光束質(zhì)量分析解決方案。因此，我們致力于打造國內(nèi)專業(yè)、多面的光束質(zhì)量分析儀品牌，以滿足不同企業(yè)的需求。 我們的光斑分析儀系列產(chǎn)品不僅具備多樣化的型號，還能夠根據(jù)客戶的實際需求進行定制化設(shè)計。無論是激光加工、激光醫(yī)療、激光科研還是其他相關(guān)領(lǐng)域，我們的產(chǎn)品都能提供、高效的光束質(zhì)量分析服務(wù)。我們相信，通過我們的努力，能夠為國內(nèi)激光行業(yè)的發(fā)展注入新的活力，推動整個行業(yè)的進步。準直器生產(chǎn)光斑分析儀購買近場光斑測試系統(tǒng)怎么搭建？

    ###Dimension-Labs維度光電正式推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品，搭配自主研發(fā)的通用分析軟件，構(gòu)建完整的激光光束質(zhì)量分析體系。在激光應(yīng)用領(lǐng)域，光束能量分布測繪、發(fā)散角精確計算及M因子評估是衡量光束質(zhì)量的**指標，而高效的測量分析是優(yōu)化激光加工精度、提升設(shè)備性能的重要基礎(chǔ)。Beamhere系列產(chǎn)品基于雙技術(shù)平臺設(shè)計：掃描狹縫式機型通過μm分辨率的正交狹縫轉(zhuǎn)動輪，可直接對10W級連續(xù)激光進行光斑形態(tài)檢測，適用于半導體晶圓切割、精密焊接等亞微米級場景；面陣相機式機型則采用皮秒級觸發(fā)同步技術(shù)，實時捕獲脈沖激光的能量分布動態(tài)，滿足飛秒激光加工、激光雷達等高速測量需求。產(chǎn)品嚴格遵循ISO11146國際標準，可精細輸出光束寬度、峰值中心、橢圓率等18項關(guān)鍵參數(shù)，其中可選配的M因子測試模塊，能動態(tài)分析光束傳播中的束腰位置與發(fā)散角變化，為光束整形、準直調(diào)校提供量化依據(jù)。配套軟件集成AI算法，支持一鍵生成包含三維能量分布圖、M因子曲線的專業(yè)測試報告，較傳統(tǒng)人工檢測效率提升80%以上。在工業(yè)實踐中，某新能源電池廠商通過Beamhere設(shè)備實時監(jiān)測光斑橢圓率，將極耳激光切割合格率提升至；科研場景下。

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù)，實現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細節(jié)，創(chuàng)新設(shè)計解決三大檢測痛點： 小光斑測量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài)，避免像素丟失 高功率檢測：狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 激光，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測效率，降低檢測成本。復雜或高階橫模的光斑測試系統(tǒng)怎么搭建？

維度光電 BeamHere 光斑分析儀不只是通用檢測設(shè)備，更是一套符合行業(yè)規(guī)范的激光檢測方案。它已通過 CE/FCC 國際認證，從硬件電路設(shè)計到軟件數(shù)據(jù)加密均滿足國際安全與電磁兼容標準，完全適配歐美市場的工業(yè)應(yīng)用需求。設(shè)備結(jié)構(gòu)經(jīng)過多輪優(yōu)化，機身采用抗干擾材質(zhì)，即使在粉塵、振動等復雜工業(yè)環(huán)境中也能保持穩(wěn)定運行，可廣泛應(yīng)用于激光雷達生產(chǎn)、醫(yī)療激光設(shè)備質(zhì)檢等多個領(lǐng)域。***的檢測報告不僅包含核心數(shù)據(jù)，還附帶檢測環(huán)境參數(shù)、設(shè)備狀態(tài)記錄等輔助信息，完全符合工業(yè)質(zhì)檢的溯源規(guī)范與科研實驗的可重復要求。用戶使用時無需擔心合規(guī)性問題，既能高效完成激光設(shè)備的檢測工作，又能為激光工藝標準化提供數(shù)據(jù)支撐，助力企業(yè)建立規(guī)范化的生產(chǎn)流程。這種***的合規(guī)設(shè)計，讓它成為工業(yè)激光應(yīng)用中的 “規(guī)范助手”。近場光斑測試方案，推進半導體，硅光行業(yè)優(yōu)化升級。beam here光斑分析儀原廠

Z-block 器件生產(chǎn)檢驗中的光斑分析儀質(zhì)量檢測。維度光電光斑分析儀光斑測試

維度光電 BeamHere 光斑分析儀不只是基礎(chǔ)測試儀器，更是一套高效的激光應(yīng)用驗證方案。它深度適配光束整形檢驗、光鑷系統(tǒng)檢測、光路準直監(jiān)測等**應(yīng)用場景，針對不同場景的檢測需求預設(shè)了專屬檢測模式。例如在光束整形檢驗中，能自動對比整形前后的光斑參數(shù)，快速判斷整形效果；在光鑷系統(tǒng)檢測時，可精細捕捉光鑷焦點的能量分布，保障細胞操控的穩(wěn)定性。硬件上采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)，通過機械設(shè)計的優(yōu)化進一步提升測量精度，確保在復雜應(yīng)用場景中數(shù)據(jù)的可靠性。用戶無需額外搭配輔助設(shè)備，*通過這一臺儀器就能完成應(yīng)用驗證的全流程，***縮短激光應(yīng)用從研發(fā)到落地的周期。這種場景化的設(shè)計讓它成為激光應(yīng)用驗證的 “高效搭檔”。維度光電光斑分析儀光斑測試