在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時,Polos 光刻機的亞微米級定位精度(±50nm)確保了圖案的均勻復制。某光電實驗室使用該設備,在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列,模板的圖案保真度達 99.8%,邊緣缺陷率低于 0.1%。基于此模板生產的柔性 OLED 背光模組,亮度均勻性提升至 98%,厚度減至 50μm,成功應用于下一代折疊屏手機,相關技術已授權給三家面板制造商。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。Polos-BESM XL:130mm×130mm 曝光幅面,STL 模型直接導入,微流控芯片制備周期縮短 40%。重慶PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化
石墨烯、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉移,Polos 光刻機的激光直寫技術避免了傳統濕法轉移的污染問題。某納米電子實驗室在 SiO基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列,成功制備出石墨烯場效應晶體管,其電子遷移率達 2×10 cm/(Vs),接近理論極限。該技術支持快速構建多種二維材料異質結,使器件研發效率提升 5 倍,相關成果推動二維材料在柔性電子、量子計算領域的應用研究進入快車道。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。重慶PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化圖案靈活性:支持 STL 模型直接導入,30 分鐘完成從設計到曝光全流程。
Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設計,寫入區域達155×155 mm,平臺雙向重復性精度0.1 m,滿足工業級需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,支持實時觀測與多層對準。配套的BEAM Xplorer軟件簡化了復雜圖案設計流程,內置高性能筆記本電腦實現快速數據處理,成為微機電系統(MEMS)和光子晶體研究的理想工具。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。
Polos光刻機與弗勞恩霍夫ILT的光束整形技術結合,可定制激光輪廓以優化能量分布,減少材料蒸發和飛濺,提升金屬3D打印效率7。這種跨領域技術融合為工業級微納制造(如光學元件封裝)提供新思路,推動智能制造向高精度、低能耗方向發展Polos系列broad兼容AZ、SU-8等光刻膠,通過優化曝光參數(如能量密度與聚焦深度)實現不同材料的高質量加工。例如,使用AZ5214E時,可調節光束強度以減少側壁粗糙度,提升微結構的功能性。這一特性使其在生物相容性器件(如仿生傳感器)中表現outstanding26。光束引擎高速掃描:SPS POLOS 單次寫入400 m區域,壓電驅動提升掃描速度。
某半導體實驗室采用 Polos 光刻機開發氮化鎵(GaN)基高電子遷移率晶體管(HEMT)。其激光直寫技術在藍寶石襯底上實現了 50nm 柵極長度的precise曝光,較傳統光刻工藝線寬偏差降低 60%。通過自定義多晶硅柵極圖案,器件的電子遷移率達 2000 cm/(Vs),擊穿電壓提升至 1200V,遠超商用產品水平。該技術還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕,刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%,助力我國新能源汽車電控系統core器件的國產化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。掩模制備時間歸零,科研人員耗時減少 60%,項目交付周期縮短 50%。天津德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化
雙光子聚合擴展:結合Nanoscribe技術實現3D微納打印,拓展微型機器人制造。重慶PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化
某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結構,載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,較傳統電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉染效率達 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據不同細胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細胞treatment中,CAR 基因導入效率從 30% 提升至 75%,相關技術已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。重慶PSP光刻機讓你隨意進行納米圖案化