超高水準潔凈度控制使精密環控柜在眾多領域發揮著無可替代的作用。該系統可輕松實現百級以上潔凈度控制，內部潔凈度可優于 ISO class3 (設備工作區) 。這一特性得益于其先進的空氣過濾系統，多層高效過濾器能夠有效攔截空氣中的塵埃顆粒、微生物等污染物。在對潔凈度要求極高的半導體制造領域，微小的塵埃顆粒都可能導致芯片出現瑕疵，影響性能和良品率。精密環控柜提供的超潔凈環境，能極大降低塵埃對芯片制造過程的干擾，確保芯片的高質量生產。在生物制藥領域，藥品的生產過程必須保證無菌無塵，防止微生物污染。其超高的潔凈度控制能力，為藥品的研發和生產提供了符合標準的潔凈空間，保障了藥品的安全性和有效性。在芯片、半導體、精密加工、精密測量等領域，利用其精密溫濕度控制，保證生產環境的穩定。四川溫濕度控制柜
電子萬能試驗機，作為材料力學性能測試設備，在金屬材料研發、塑料制品質量檢測等眾多領域廣泛應用。它能夠開展材料拉伸、壓縮、彎曲等力學性能測試，為產品質量把控與材料特性研究提供關鍵數據支撐。然而，環境溫濕度的波動對其影響極大。溫度波動時，試驗機力傳感器的精度首先受到沖擊，測量的力值出現偏差，同時還會改變材料自身的力學性能，例如金屬在高溫下屈服強度降低，導致測試結果無法真實反映材料特性。濕度波動時，試驗機的夾具、傳動部件極易生銹腐蝕，致使對試樣的夾持穩定性大打折扣，加載均勻性也難以保證，進一步降低測試精度。四川溫濕度控制柜采用節能技術，在保障高性能的同時降低能耗，為企業節省運營成本。
精密環控柜主要由設備主柜體、控制系統、氣流循環系統、潔凈過濾器、制冷(熱)系統、照明系統、局部氣浴等組成，為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環境。該設備內部通過風機引導氣流以一定的方向循環，控制系統對循環氣流的每個環節進行處理，從而使柜內的溫濕度達到超高的控制精度。該系統可實現潔凈度百級、十級、一級，溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密環境控制。自面世以來，已為相關領域客戶提供了穩定的實驗室環境以及監測服務，獲得了眾多好評。
我司憑借深厚的技術積累，自主研發出高精密控溫技術，精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環境控制。該系統潔凈度可實現百級、十級、一級。關鍵區域 ±5mK（靜態）的溫度穩定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內部溫度規格，為諸如芯片研發這類對溫度極度敏感的項目，打造了近乎完美的溫場環境，保障實驗數據不受溫度干擾。同時，設備內部濕度穩定性可達±0.5%@8h，壓力穩定性可達+/-3Pa，長達 144h 的連續穩定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面，實現百級以上潔凈度控制，工作區潔凈度優于 ISO class3，確保實驗結果的準確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。磁屏蔽部分，可通過被動防磁和主動消磁器進行磁場控制。
在光學鏡片研磨這一精細入微的工藝里，溫濕度波動無疑是如影隨形的 “大敵”，對鏡片質量的影響堪稱致命。就研磨設備而言，即便是零點幾攝氏度的細微溫度變化，也會迅速讓研磨盤與鏡片材料的熱膨脹系數差異暴露無遺。這一差異會直接導致鏡片在研磨過程中受力不均，研磨效果參差不齊，鏡片的曲率精度因此大打折扣，進而嚴重影響其光學性能。而當處于高濕度環境時，空氣中彌漫的水汽就像隱匿的破壞者，極易在鏡片表面悄然凝結成水漬。這些水漬會在后續鍍膜工藝中成為棘手難題，極大地干擾鍍膜均勻性，致使鏡片的透過率和抗反射能力雙雙下滑，成品鏡片根本無法契合光學儀器所要求的嚴苛標準。精密環境控制設備憑借超高精度溫度控制，保障內部溫度水平均勻性小于16mK/m。四川溫濕度控制柜
精密環控柜為我司自主研發的精密環境控制產品。四川溫濕度控制柜
質譜儀在半導體和電子芯片制造中承擔著對材料成分、雜質含量等進行高精度分析的重任。其工作原理基于對離子的精確檢測與分析，而環境中的微小干擾都可能影響離子的產生、傳輸與檢測過程。例如，空氣中的塵埃顆�？赡芪皆陔x子源或檢測器表面，導致檢測信號失真；溫濕度的波動可能改變儀器內部電場、磁場的分布，影響離子的飛行軌跡與檢測精度。精密環控柜通過高效的空氣過濾系統，實現超高水準的潔凈度控制，確保質譜儀工作環境無塵、無雜質。同時，憑借高超的溫濕度控制能力，將溫度波動控制在極小范圍，維持濕度穩定，為質譜儀提供穩定的工作環境，保證其對半導體材料的分析結果準確可靠。在半導體產業不斷追求更高集成度、更小芯片尺寸的發展趨勢下，精密環控柜的環境保障作用愈發關鍵，助力質譜儀為半導體材料研發、芯片制造工藝優化等提供有力的數據支撐，推動半導體產業的持續創新與發展。四川溫濕度控制柜
