在精密模具制造這一精益求精的領域，溫濕度控制是保障產品質量的關鍵要素。模具型腔對精度有著嚴苛要求，這就決定了整個加工過程必須維持高度穩定。一旦溫度出現波動，模具鋼材料會因熱脹冷縮而發生細微形變，直接影響型腔尺寸精度。這在注塑成型環節影響尤甚，極有可能導致塑料制品出現尺寸偏差、飛邊等明顯缺陷。而當濕度異常時，潮濕空氣就像隱藏的 “破壞者”，悄無聲息地侵蝕模具表面，致使模具生銹、腐蝕。這不僅大幅降低模具的使用壽命，還會增加生產成本，對模具在汽車、家電等眾多行業的應用效果產生負面影響，阻礙相關產業的高質量發展。擁有超高水準潔凈度控制能力，可達百級以上潔凈標準。江蘇色譜儀溫濕度

精密環控柜主要由設備主柜體、控制系統、氣流循環系統、潔凈過濾器、制冷(熱)系統、照明系統、局部氣浴等組成，為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環境。該設備內部通過風機引導氣流以一定的方向循環，控制系統對循環氣流的每個環節進行處理，從而使柜內的溫濕度達到超高的控制精度。該系統可實現潔凈度百級、十級、一級，溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密環境控制。自面世以來，已為相關領域客戶提供了穩定的實驗室環境以及監測服務，獲得了眾多好評。浙江微生物溫濕度磁屏蔽部分，可通過被動防磁和主動消磁器進行磁場控制。

激光干涉儀以其納米級別的測量精度，在半導體制造、精密機械加工等領域發揮著關鍵作用。然而，它對環境變化極為敏感，溫度、濕度的微小波動以及空氣潔凈度的差異，都可能干擾激光的傳播路徑與干涉效果，致使測量結果出現偏差。精密環控柜的超高精度溫度控制，能將溫度波動控制在極小區間，如關鍵區域 ±2mK（靜態），同時確保濕度穩定性可達 ±0.5%@8h，并且實現百級以上潔凈度控制，為激光干涉儀提供穩定、潔凈的測量環境，保障其測量精度不受外界因素干擾。光譜分析儀用于分析物質的光譜特性，廣泛應用于半導體材料檢測、化學分析等領域。在工作時，外界環境的不穩定可能導致儀器內部光學元件的性能變化，影響光譜的采集與分析精度。精密環控柜通過調控溫濕度，避免因溫度變化使光學元件熱脹冷縮產生變形，以及因濕度異常造成的鏡片霉變、光路散射等問題。其穩定的環境控制能力，保證光譜分析儀能夠準確、可靠地分析物質光譜，為科研與生產提供數據支持。

精密環控柜能夠實現如此性能，背后蘊含著先進而復雜的原理。在溫度控制方面，自主研發的高精密控溫技術是關鍵所在。通過高精度傳感器實時監測柜內溫度，將數據反饋至控制系統�？刂葡到y依據預設的精確溫度值，以 0.1% 的控制輸出精度，調節制冷（熱）系統的運行功率。例如，當溫度高于設定值時，制冷系統迅速啟動，精確控制制冷量，使溫度快速回落至目標范圍；反之，加熱系統則及時介入。對于濕度控制，利用先進的濕度調節裝置，通過冷凝除濕或蒸汽加濕等方式，依據傳感器反饋的濕度數據，將設備內部濕度穩定性控制在 ±0.5%@8h 。在潔凈度控制上，采用多層高效潔凈過濾器，通過物理攔截、靜電吸附等原理，對進入柜內的空氣進行深度過濾，確�？蓪崿F百級以上潔凈度控制，工作區潔凈度優于 ISO class3 。制冷單元內部采用高效隔音材質，進一步降低設備噪音，噪音<45dB。

我司自主研發的高精密控溫技術，控制輸出精度達 0.1%，能精細掌控溫度變化。溫度波動控制可選 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多檔，滿足嚴苛溫度需求。該系統潔凈度表現優異，可達百級、十級、一級。關鍵區域靜態溫度穩定性 ±5mK，內部溫度均勻性小于 16mK/m，為芯片研發等敏感項目營造理想溫場，保障實驗數據不受溫度干擾。濕度方面，8 小時內穩定性可達 ±0.5%；壓力穩定性為 +/-3Pa，設備還能連續穩定工作 144 小時，助力長時間實驗與制造。在潔凈度上，工作區潔凈度優于 ISO class3，既確保實驗結果準確可靠，又保障精密儀器正常工作與使用壽命，推動科研與生產進步。主要由設備主柜體、控制系統、氣流循環系統、潔凈過濾器、制冷(熱)系統、照明系統、局部氣浴等組成。江蘇色譜儀溫濕度

設備內部通過風機引導氣流循環，控制系統對循環氣流每個環節進行處理，使柜內溫濕度達到超高控制精度。江蘇色譜儀溫濕度

在半導體芯片制造這一復雜且精細的領域，從芯片光刻、蝕刻到沉積、封裝等每一步，都對環境條件有著近乎嚴苛的要求，而精密環控柜憑借其性能成為保障生產的關鍵要素。芯片光刻環節，光刻機對環境穩定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動，都可能使光刻機內部的精密光學元件因熱脹冷縮產生細微形變，導致光路偏差，使光刻圖案精度受損。精密環控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動控制在極小范圍，確保光刻機高精度運行，讓芯片光刻圖案正常呈現。江蘇色譜儀溫濕度